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本实用新型涉及薄膜制备装置，旨在提供自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。该种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜。本实...该专利属于绍兴上虞晶信机电科技有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绍兴上虞晶信机电科技有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司授权不得商用。