基板处理装置及其调整方法、器件制造方法及直接描绘曝光装置制造方法及图纸

基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。

Substrate processing device and its adjusting method, device manufacturing method and direct portrayed exposure device

The substrate processing device makes the patterns depicted on the substrate by the drawing lines of each drawing unit move along the direction of the substrate in the direction of length along the width direction of the substrate, and has multiple drawing units along the width direction of the substrate. Reflection measuring device of the light detecting part is arranged a plurality of drawing units each, when detected by projecting a beam of light light and reflected light from the support of the supporting component or substrate surface reflection, when the reference mark supporting member in more than one unit for each picture depicting depicting line detecting reflected light from the Ministry the output signal based on the measurement of a plurality of drawing line configuration.

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及其调整方法、器件制造方法及直接描绘曝光装置本专利技术申请是国际申请日为2015年3月31日、国际申请号为PCT/JP2015/060078、进入中国国家阶段的国家申请号为201580018364.5、专利技术名称为“基板处理装置、器件制造方法及基板处理装置的调整方法”的专利技术申请的分案申请。
本专利技术涉及基板处理装置及其调整方法、器件制造方法以及直接描绘曝光装置。
技术介绍
目前，作为基板处理装置，已知有在片状介质(基板)上的规定位置进行描绘的制造装置(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的制造装置中，对于在宽度方向上易伸缩的挠性长条片状基板检测对准标记，由此测量片状基板的伸缩，根据伸缩修正描绘位置(加工位置)。现有技术文献专利文献1：日本特开2010－91990号公报
技术实现思路
在专利文献1的制造装置中，通过一边将基板沿搬运方向搬运，一边切换空间调制元件(DMD：DigitalMicromirrorDevice)，进行曝光，利用多个描绘单元在基板上描绘图案。在专利文献1的制造装置中，将通过多个描绘单元将基板的宽度方向上相邻的图案彼此接合曝光，但为了抑制接合曝光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具备：支承构件，其具有支承长条片状的基板的支承面，在所述支承面上的与所述基板的长度方向交叉的宽度方向上的多个位置设有基准标记；搬运装置，其使被该支承构件支承的所述基板沿所述长度方向移动；描绘装置，其包括多个描绘单元，该多个描绘单元一边对由所述支承面支承的所述基板或所述支承面投射光束的点光，一边在比所述基板宽度方向的尺寸窄的范围进行扫描，能够沿着通过该扫描得到的描绘线来描绘规定图案，所述描绘装置以使得通过所述多个描绘单元的各描绘线在所述基板上描绘的图案彼此随着所述基板向长度方向的移动而在所述基板的宽度方向接合在一起的方式，将所述多个描绘单元沿所述基板的宽度方向配置；...

【技术特征摘要】
2014.04.01 JP 2014-0758401.一种基板处理装置，其特征在于，具备：支承构件，其具有支承长条片状的基板的支承面，在所述支承面上的与所述基板的长度方向交叉的宽度方向上的多个位置设有基准标记；搬运装置，其使被该支承构件支承的所述基板沿所述长度方向移动；描绘装置，其包括多个描绘单元，该多个描绘单元一边对由所述支承面支承的所述基板或所述支承面投射光束的点光，一边在比所述基板宽度方向的尺寸窄的范围进行扫描，能够沿着通过该扫描得到的描绘线来描绘规定图案，所述描绘装置以使得通过所述多个描绘单元的各描绘线在所述基板上描绘的图案彼此随着所述基板向长度方向的移动而在所述基板的宽度方向接合在一起的方式，将所述多个描绘单元沿所述基板的宽度方向配置；反射光检测部，其设在所述多个描绘单元的每一个上，对因投射所述光束的点光而从所述支承构件的支承面或所述基板反射的反射光进行检测；以及测量装置，其基于当所述支承构件的所述基准标记位于所述多个描绘单元各自描绘的所述描绘线上时从所述反射光检测部输出的信号，来测量所述多条描绘线的配置关系。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述支承构件是旋转筒，其利用从沿所述基板的宽度方向延伸的中心线以规定半径弯曲的圆筒状的外周面的一部分支承所述基板，通过绕所述中心线进行旋转而将所述基板沿所述长度方向搬运。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述多个描绘单元配置为，在将在所述基板上描绘出彼此接合的图案的相邻描绘单元中的一个设为奇数编号的描绘单元并将另一个设为偶数编号的描绘单元时，该奇数编号的描绘单元各自描绘出的奇数编号的描绘线与所述偶数编号的描绘单元各自描绘出的偶数编号的描绘线间隔规定的角度地位于所述旋转筒的外周面的周向上。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述奇数编号的描绘线各自以在所述基板上与所述旋转筒的旋转的中心线大致平行的方式沿所述基板的宽度方向配置成一列，所述偶数编号的描绘线各自以在所述基板上与所述旋转筒的旋转的中心线大致平行的方式沿所述基板的宽度方向配置成一列。5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其中还具备：标尺部，其具有从所述中心线沿规定半径的周向形成的刻度，该标尺部被设置成与所述旋转筒一起旋转；以及编码器读头，其读取所述标尺部的刻度，输出与所述基板的移动量或移动位置相对应的位置信息，所述搬运装置以与所述基板向长度方向的搬运连动的方式，基于从所述编码器读头输出的所述位置信息而使所述旋转筒旋转。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述测量装置具备控制部，该控制部在所述光束的点光扫描所述支承构件的基准标记时，基于从所述多个描绘单元各自的反射光检测部输出的信号、和从所述编码器读头输出的位置信息，运算并存储与所述多条描绘线的相对位置关系相关的信息。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部基于在所述多个基准标记向所述旋转筒的周向移动的期间内，因所述光束的点光沿着所述描绘线的多次扫描的每一次而从所述反射光检测部输出的多个信号，运算与所述多条描绘线的相对的位置关系的偏差有关的信息。8.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板相对于所述光束具有透射性，所述反射光检测部输出与在所述光束的点光直接照射所述支承构件的支承面上的所述基准标记时产生的反射光相对应的信号、或与在所述光束从所述基板透射而照射所述基准标记时产生的反射光相对应的信号。9.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具备输出所述光束的激光源，所述多个描绘单元各自具备使来自所述激光源的光束一维地偏转扫描的扫描光学系统、和以将该被偏转扫描的光束在所述基板上或所述支承构件的支承面上聚光成所述点光的方式进行投射的光束投射光学系统，所述反射光检测部包含：光电传感器，其用于经由所述光束投射光学系统和所述扫描光学系统对来自所述基板或所述支承构件的支承面的反射光进行光电检测；以及光分割器，其配置在该光电传感器和所述扫描光学系统之间的光路中。10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，所述扫描光学系统包含使来自所述激光源的光束沿一个方向偏转扫描的旋转多边形镜，所述光束投射光学系统具备：f－θ透镜，其将通过所述旋转多边形镜而偏转扫描的所述光束导向至所述描绘线上；柱面透镜，其设于所述f－θ透镜和所述支承构件之间，具有与所述描绘线延伸的方向大致平行的母线，且在与该母线正交的方向将所述光束聚光。11.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述多个描绘单元各自具备：扫描光学系统，其使来自激光源的光束一维地偏转扫描；光束投射光学系统，其将该偏转扫描的光束作为所述光束朝向所述基板的表面或所述支承构件的支承面投射；柱面透镜，其设于该光束投射光学系统和所述支承构件之间，具有与所述描绘线延伸的方向大致平行的母线，将所述光束聚光于与该母线正交的方向。12.根据权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基准标记在所述旋转筒的外周面上的、所述中心线延伸的方向以规定的间隔设置有多个，该规定间隔被设定为比所述多条描绘线的长度小。13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，所述基准标记由形成在所述旋转筒的外周面上的彼此交叉的2条线图案的交点部构成。14.根据权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，从所述多个描绘单元各自投射于所述基板或所述旋转筒的外周面的所述光束被配置成朝向所述旋转筒的旋转中心线。15.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述反射光检测部具备以明视野或暗视野接收在所述基板或所述支承构件的支承面产生的所述反射光的光电传感器，基于从该光电传感器输出的信号来检测所述基准标记的边缘位置。16.根据权利要求7或10所述的基板处理装置，其特征在于，在将所述描绘线的长度设为LBL、将所述光...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，奈良圭，铃木智也，渡边智行，鬼头义昭，堀正和，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本,JP