光刻设备、控制方法及计算机程序产品技术

一种光刻设备获得衬底的高度图(402)和在控制所述图案到所述衬底的成像时使用所述高度图。所述光刻设备被布置用于在控制所述成像时至少部分地忽略高度异常(B)。所述高度异常可以通过处理所述高度图来识别。例如，在一些实施例中，通过使用形状识别模型来识别所述高度异常。在一些实施例中，产生所述高度图(802)的修改版本，在所述修改版本中，至少部分地去除所述高度异常，且在控制所述图像时使用所述高度图的所述修改版本。可替代地，将异常图与所述(未修改的)高度图一起使用以控制成像。

Photolithography equipment, control methods and computer program products

A photolithography device obtains a height map of a substrate (402) and uses the height map in controlling the image of the pattern to the substrate. The photolithography device is arranged for at least partially neglecting the height anomaly (B) during the control of the imaging. The height anomaly can be identified by processing the height map. For example, in some embodiments, the height anomaly is identified by using a shape recognition model. In some embodiments, a modified version of the height map (802) is generated, at least partially removing the height anomaly in the modified version, and using the modified version of the height map when controlling the image. Alternatively, the anomaly map is used together with the (unmodified) height map to control the imaging.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备、控制方法及计算机程序产品相关申请的交叉引用本申请要求于2015年7月3日递交的欧洲专利申请EP15175164.1的优先权，并且通过引用将全文并入本文中。
本公开涉及一种光刻设备。本公开尤其涉及使用高度图控制光刻设备。本公开还涉及通过光刻术制造器件的方法，以及涉及用于实施这种设备和方法的部分的数据处理设备和计算机程序产品。
技术介绍
光刻没备是一种将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包含一部分管芯、一个或更多个管芯)上。所述图案的转移通常经由将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于使用光学投影系统将图案成像到衬底上的光刻设备，所述光刻设备被布置以获得表示所述衬底上的形貌变化的高度图，且所述光刻设备包括被布置以在控制所述图案到所述衬底上的成像时使用所述高度图的控制器，其中所述光刻设备还被布置以当控制所述成像时，至少部分地忽略在所述高度图的局部区域中所表示的高度异常。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.03 EP 15175164.11.一种用于使用光学投影系统将图案成像到衬底上的光刻设备，所述光刻设备被布置以获得表示所述衬底上的形貌变化的高度图，且所述光刻设备包括被布置以在控制所述图案到所述衬底上的成像时使用所述高度图的控制器，其中所述光刻设备还被布置以当控制所述成像时，至少部分地忽略在所述高度图的局部区域中所表示的高度异常。2.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以从所获得的高度图识别所述高度异常。3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以通过形状识别模型识别所述高度异常。4.如前述权利要求中的任一项所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以产生所述高度图的修改版本且在控制图案在衬底上的成像时使用所述高度图的所述修改版本，在所述修改版本中所述高度异常被至少部分地去除。5.如前述权利要求中的任一项所述光刻设备，其中所述光刻设备被布置以产生所述高度图的修改版本，在所述修改版本中在高度异常区域中的高度值由从在相邻于所述高度异常区域的部位处的高度值所得到的值替代。6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以产生所述高度图的修改版本，在所述修改版本中从在所述高度异常区域中的高度值减去模型化的高度异常。7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以产生所述高度图的修改版本，在所述修改版本中将减小的权重应用至在所述高度异常区域中的高度值。8.如权利要求1、2或3所述的光刻设备，其中所述光刻设备被布置以将规定所识别的高度异常的部位的异常图数据供应至所述控制器，且所述控制器被布置以在减小在所述规定的部位处的高度图数据的所述影响的同时，在控制图案到所述衬底上的成像时将所述高度图数据和所述异常数据一起使用。9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，还包括被布置以在将所述衬底已经加载到所述光刻设备中之后，通过测量所述衬底获得所述高度图的水平感测布置。10.一种控制图案在衬底上的成像的方法，包括以下步骤：获得所述衬底的高度图；和使用所述高度图以在至少部分地忽略在所获得的高度图中所表示的高度异常时控制所述图案至所述衬底的成像。11.如权利要求10所述的方法，其中使用所述高度图的所述步骤包括产生所述高度图的修改版本，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·范霍夫，W·T·特尔，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL