一种阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置。其中，所述阵列基板包括：基板及阵列排布在所述基板上的阳极层；其中，在距离各所述阳极层边缘的预设距离范围内，各所述阳极层的厚度在沿各所述阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大。通过将阵列排布在基板上的阳极层制作为在距离各阳极层边缘的预设距离范围内，各阳极层的厚度在沿各阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大的形状，进而可以在电极上继续打印发光材料时，可以有效避免咖啡环效应，以形成均匀厚度的膜层，提高了打印成膜的均一性，保证了像素薄膜的平坦性，可以使得电致发光器件点亮的亮度均匀，进一步提高了材料的利用效率。

An array substrate, a preparation method, a display panel and a display device

The invention provides an array substrate, a preparation method, a display panel and a display device. Among them, the array substrate includes a substrate and an anode layer arrayed on the substrate; wherein, the preset distance from the edge of each of the anode layer, the anode layer thickness along each of the anode layer to the center of the edge direction becomes larger. The array on the substrate as anode layer in the preset range from the edge of each layer in the anode, the anode layer thickness in the anode layer along the direction of the center to the edge gradually shape, and can continue to print luminescent materials on the electrode, which can effectively avoid the coffee ring effect to form a layer of film, uniform thickness, improve the uniformity of the printing film, to ensure the flatness of the pixel film, brightness can make the light-emitting device light uniform, to further improve the utilization efficiency of materials.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示领域，特别是涉及一种阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
在电致发光器件(OLED或QLED)和液晶(LCD)显示领域，通常会利用喷墨打印等湿法成膜工艺形成有机功能层薄膜和彩膜结构。这些湿法成膜工艺的一个必要的步骤是：需要通过后续工艺去除多余的溶剂，从而干燥形成所需要的薄膜。而这一去除溶剂的干燥工艺过程决定了形成薄膜的形貌。对于光电显示器件而言，干燥薄膜的形貌和均一性不好对器件的寿命和显示效果有较大影响。而在干燥过程中，当墨滴滴落到基板或像素内后，由于墨滴形状的原因，墨滴中体积/单位面积比较小的中心部分与体积/单位面积比较大的边缘部分的蒸发速率不同，所以墨水在边缘部分干燥速率更快，最终导致咖啡环效应的产生，从而导致像素薄膜的平坦性难以保证，造成电致发光器件点亮的亮度不均，并且，导致材料的利用效率大大下降。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置，以解决现有方案中存在的电致发光器件点亮亮度不均，且材料利用率大大下降的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种阵列基板，其包括：基板及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：基板及阵列排布在所述基板上的阳极层；其中，在距离各所述阳极层边缘的预设距离范围内，各所述阳极层的厚度在沿各所述阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：基板及阵列排布在所述基板上的阳极层；其中，在距离各所述阳极层边缘的预设距离范围内，各所述阳极层的厚度在沿各所述阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，各所述阳极层包括各第一阳极层和各第二阳极层，各所述第二阳极层形成于各所述第一阳极层之上，所述距离各所述阳极层边缘的预设距离范围内，各所述阳极层的厚度在沿各所述阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大，包括：在距离各所述第二阳极层边缘的预设距离范围内，各所述第二阳极层的厚度在沿各所述第二阳极层的中心到边缘方向上逐渐变大。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：形成在所述基板上的像素界定层及形成在各所述第二阳极层上的发光层。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述基板包括：衬底及依次形成在所述衬底上的栅极层、栅极绝缘层、半导体层、源漏层、钝化层、平坦层。5.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成电极层；对所述电极层进行处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙凌红，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11