一种曝光机用的曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出了一种曝光机用的曝光装置，包括供电模块，所述的曝光装置还包括均与供电模块相连接的PLC可编程控制器、人机界面、灯源模组及曝光框架，所述的人机界面用于将设定的曝光信息传送到所述PLC可编程控制器，所述的PLC可编程控制器驱动所述曝光框架进入到曝光室，所述的PLC可编程控制器驱动所述的灯源模组对所述的曝光框架进行曝光。本实用新型专利技术提出的一种曝光机用的曝光装置，通过人机界面依曝光要求设定曝光的信息来控制曝光，曝光更充分。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光机用的曝光装置
本技术涉及一种曝光机的
，特别涉及一种曝光机用的曝光装置。
技术介绍
曝光机是现代制造印刷线路板PCB必不可少的设备，印制电路板制造工艺中，最关键的工序之一就是将底片图像转移到敷铜箔基材上。先在基板上涂覆一层感光材料(如液态感光胶、光敏抗蚀干膜等)，然后对涂覆在基材上的光敏性物质进行光辐射，使其溶解性发生变化，未感光部分的树脂没有聚合，在显影液作用下溶解，感光部分的树脂留在基材上形成图像，这一工艺过程即是曝光，也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。印制电路板加工质量的好坏关键在于曝光机曝光的控制环节上，传统的曝光机在曝光控制方面还主要依靠操作工人的经验来完成。
技术实现思路
为了解决传统曝光机曝光控制依靠人工经验来完成的技术问题，本技术提供一种曝光机用的曝光装置，装置结构简单，可靠性高，曝光充分。本技术公开了一种曝光机用的曝光装置，包括供电模块，所述的曝光装置还包括均与供电模块相连接的PLC可编程控制器、人机界面、灯源模组及曝光框架，所述的人机界面用于将设定的曝光信息传送到所述PLC可编程控制器，所述的PLC可编程控制器驱动所述曝光框架进入到曝光室并驱动所述的灯源模组对所述的曝光框架进行曝光。进一步地，所述的PLC可编程控制器还连接冷却系统，所述的冷却系统给所述的灯源模组进行冷却散热。进一步地，所述的曝光框架有二个，交替进入所述的曝光室进行曝光。进一步地，所述的灯源模组有二组，分别设置在所述曝光室的顶部和底部。进一步地，所述的灯源模组包括多组LED灯。进一步地，所述的LED灯呈线性排列。实施本技术提出的一种曝光机用的曝光装置，具有以下有益的技术效果：区别于传统的曝光机曝光控制依靠人工经验来完成，难以保证曝光控制的稳定性，一致性。本技术提供了一种曝光机用的曝光装置，采用人机界面预先设定曝光的参数，通过PLC可编程控制器精确控制曝光反应，使曝光更完全、更充分。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的第一实施例一种曝光机用的曝光装置的模块方框图。图2为本技术的第二实施例一种曝光机用的曝光装置的模块方框图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1，本技术的第一实施例，一种曝光机用的曝光装置1，包括供电模块10，曝光装置1还包括均与供电模块10相连接的PLC可编程控制器20、人机界面30、灯源模组40及曝光框架50，人机界面30用于将设定的曝光信息传送到PLC可编程控制器20，PLC可编程控制器20驱动曝光框架50进入到曝光室并驱动灯源模组40对曝光框架50进行曝光。请参阅图2，本技术的第二实施例，该PLC可编程控制器20还连接冷却系统60，冷却系统60给灯源模组40进行冷却散热。根据一个具体实施例，该曝光框架50有二个，交替进入曝光室进行曝光。根据一个具体实施例，该灯源模组40有二组，分别设置在曝光室的顶部和底部。根据一个具体实施例，该灯源模组40包括多组LED灯。根据一个具体实施例，该LED灯呈线性排列。经实践证实，本技术优点在于：区别于传统的曝光机曝光控制依靠人工经验来完成，难以保证曝光控制的稳定性，一致性。本技术提供了一种曝光机用的曝光装置，采用人机界面预先设定曝光的参数，通过PLC可编程控制器精确控制曝光反应，使曝光更完全、更充分。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机用的曝光装置，包括供电模块，其特征在于，所述的曝光装置还包括均与供电模块相连接的PLC可编程控制器、人机界面、灯源模组及曝光框架，所述的人机界面用于将设定的曝光信息传送到所述PLC可编程控制器，所述的PLC可编程控制器驱动所述曝光框架进入到曝光室并驱动所述的灯源模组对所述的曝光框架进行曝光。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机用的曝光装置，包括供电模块，其特征在于，所述的曝光装置还包括均与供电模块相连接的PLC可编程控制器、人机界面、灯源模组及曝光框架，所述的人机界面用于将设定的曝光信息传送到所述PLC可编程控制器，所述的PLC可编程控制器驱动所述曝光框架进入到曝光室并驱动所述的灯源模组对所述的曝光框架进行曝光。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的PLC可编程控制器还连接冷却系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：付菊玲，
申请(专利权)人：深圳市欣光辉科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44