一种电子元件生产的光刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种电子元件生产的光刻装置，包括光刻框架，光刻框架内设置有夹紧螺栓，光刻框架内设置有硅片，光刻框架两端设置有光刻版，光刻框架上下两端设置有铝盖板，铝盖板两端通过固定螺栓连接有可旋转夹块，可旋转夹块包括夹块主体，夹块主体上设置有两个固定螺孔，夹块主体上设置有一V字开口，夹块主体侧面上设置有一转轴，转轴连接有支撑腿，通过带有夹紧螺栓的光刻框架来固定光刻加工的硅片，可对一定尺寸范围内的硅片进行光刻操作，而硅片通过两个光刻版固定，可对两个面进行曝光光刻，在使用的时候，可通可旋转夹块来实现光刻面的调节，可通过一台光刻机实现硅片两个面的加工操作，方便快捷，值得推广。

A photolithography device for the production of electronic components

The utility model discloses a lithographic apparatus production of electronic components, including lithography lithography frame, is arranged in the frame clamping bolt is arranged in the frame of wafer lithography, lithography frame are arranged on both ends of the frame under the mask lithography are arranged on both ends of the aluminum plate, aluminum plate two end through a fixed bolt is connected with a rotatable clamping block rotary clamping block, including clamping block body, clamping blocks are arranged on the main body of two fixed screw clamping blocks are arranged on the main body of a V opening, the clamping block is arranged on the side surface of the main body of a rotary shaft, the rotary shaft is connected with a supporting leg, with the framework of lithography clamping bolt is fixed to the silicon wafer lithography processing, can be to a certain size range of the wafer lithography operation, and the silicon wafer through two mask can be fixed, exposure of two, when in use, can pass the rotatable clamp block to achieve The adjustment of light surface can be realized by a photolithography machine for two surfaces of silicon wafer, which is convenient and quick, and is worth popularizing.

【技术实现步骤摘要】
一种电子元件生产的光刻装置
本技术涉及电子元件生产
，具体为一种电子元件生产的光刻装置。
技术介绍
电子元件是组成电子产品的基础，了解常用的电子元件的种类、结构、性能并能正确选用是学习、掌握电子技术的基本。常用的电子元件有：电阻、电容、电感、电位器、变压器等，就安装方式而言，目前可分为传统安装(又称通孔装即DIP)和表面安装两大类(即又称SMT或SMD)。三极管、二极管称为电子器件。在晶圆的制造过程中，晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的，并且结合生成薄膜及去除特定部分，通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留特征图形的部分。申请号为201220216139.6，名称为一种双面光刻装置的技术专利，包括调整框、铝盖、锁紧夹和铝座架；双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B和光刻版A，光刻版B和光刻版A四个角上均有专用对准标记；光刻版B固定在铝盖上，光刻版A固定在铝座架上，硅片置于光刻版B和光刻版A之间，通过两个锁紧夹将光刻版B、硅片和光刻版A牢牢固定，该技术改善了现有技术的工艺成本，提供一种结构性夹具，配合在光刻版图上做出对准标记，应用机械导柱和引导腔体设计，保证上下版图对准重复精度小于3μm，提高了劳动效率。其结构简单巧妙，操作便捷，重复性能好。但是其进行光刻的过程，对硅片的两个面进行加工的时候，更换面十分不方便，影响了光刻的效率，因此设计了一种电子元件生产的光刻装置。
技术实现思路
为了克服现有技术方案的不足，本技术提供一种电子元件生产的光刻装置，通过带有夹紧螺栓的光刻框架来固定光刻加工的硅片，可对一定尺寸范围内的硅片进行光刻操作，而硅片通过两个光刻版固定，可对两个面进行曝光光刻，在使用的时候，可通可旋转夹块来实现光刻面的调节，可通过一台光刻机实现硅片两个面的加工操作，方便快捷，值得推广。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种电子元件生产的光刻装置，包括光刻框架，所述光刻框架内设置有夹紧螺栓，所述光刻框架内设置有硅片，所述光刻框架两端设置有光刻版，所述光刻框架上下两端设置有铝盖板，所述铝盖板两端通过固定螺栓连接有可旋转夹块；所述可旋转夹块包括夹块主体，所述夹块主体上设置有两个固定螺孔，所述夹块主体上设置有一V字开口，所述夹块主体侧面上设置有一转轴，所述转轴连接有支撑腿。作为本技术一种优选的技术方案，所述夹紧螺栓与硅片接触部设置有防护垫片，所述防护垫片采用硅胶材料制成。作为本技术一种优选的技术方案，所述铝盖板上设置有若干个调平支杆，所述调平支杆与铝盖板相互垂直设置。作为本技术一种优选的技术方案，所述光刻框架厚度大于硅片厚度。作为本技术一种优选的技术方案，所述V字开口内壁上设置有防滑纹路，所述防滑纹路横截面形状为三角形。作为本技术一种优选的技术方案，所述支撑腿下端设置有圆盘足底，所述圆盘足底内部设置有橡胶垫片。与现有技术相比，本技术的有益效果是：通过带有夹紧螺栓的光刻框架来固定光刻加工的硅片，可对一定尺寸范围内的硅片进行光刻操作，而硅片通过两个光刻版固定，可对两个面进行曝光光刻，在使用的时候，可通可旋转夹块来实现光刻面的调节，可通过一台光刻机实现硅片两个面的加工操作，方便快捷，值得推广。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术可旋转夹块结构示意图。图中：1-光刻框架，2-夹紧螺栓，3-硅片，4-光刻版，5-铝盖板，6-固定螺栓，7-可旋转夹块，8-夹块主体，9-固定螺孔，10-V字开口，11-转轴，12-支撑腿，13-防护垫片，14-调平支杆，15-防滑纹路，16-圆盘足底，17-橡胶垫片。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。实施例：如图1与图2所示，本技术提供了一种电子元件生产的光刻装置，其特征在于：包括光刻框架1，所述光刻框架1内设置有夹紧螺栓2，所述光刻框架1内设置有硅片3，所述光刻框架1两端设置有光刻版4，所述光刻框架1上下两端设置有铝盖板5，所述铝盖板5两端通过固定螺栓6连接有可旋转夹块7；所述可旋转夹块7包括夹块主体8，所述夹块主体8上设置有两个固定螺孔9，所述夹块主体8上设置有一V字开口10，所述夹块主体8侧面上设置有一转轴11，所述转轴11连接有支撑腿12；本技术工作原理：在加工前，首先将硅片3放置在光刻框架1内部，硅片3外沿通过与夹紧螺栓2接触，通过拧紧夹紧螺栓2来固定硅片3，随后将光刻框架1两端通过光刻版4夹紧，在光刻版4外侧盖上铝盖板5，铝盖板5通过固定螺栓6与可旋转夹块7连接在一起，此时光刻版4与光刻框架1被固定在夹块主体8的V字开口10内，V字开口10的结构可对不同厚度的光刻版4进行固定，当固定好之后，可通过光刻机对硅片3进行光刻操作，一个面光刻完成之后，旋转设备，通过转轴11旋转，调节到另一个面上，进行新的光刻操作。本技术中，值得说明的是，如图1所示，所述夹紧螺栓2与硅片3接触部设置有防护垫片13，所述防护垫片13采用硅胶材料制成，保护硅片结构，避免夹紧螺栓2损坏硅片。本技术中，值得说明的是，如图1所示，所述铝盖板5上设置有若干个调平支杆14，所述调平支杆14与铝盖板5相互垂直设置，使得设备保持垂直。本技术中，值得说明的是，如图1所示，所述光刻框架1厚度大于硅片3厚度，避免硅片3与光刻版4摩擦。本技术中，值得说明的是，如图2所示，所述V字开口10内壁上设置有防滑纹路15，所述防滑纹路15横截面形状为三角形，增加摩擦力，避免内部晃动。本技术中，值得说明的是，如图2所示，所述支撑腿12下端设置有圆盘足底16，所述圆盘足底16内部设置有橡胶垫片17，增加设备稳定性能。本技术通过带有夹紧螺栓的光刻框架来固定光刻加工的硅片，可对一定尺寸范围内的硅片进行光刻操作，而硅片通过两个光刻版固定，可对两个面进行曝光光刻，在使用的时候，可通可旋转夹块来实现光刻面的调节，可通过一台光刻机实现硅片两个面的加工操作，方便快捷，值得推广。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子元件生产的光刻装置，其特征在于：包括光刻框架(1)，所述光刻框架(1)内设置有夹紧螺栓(2)，所述光刻框架(1)内设置有硅片(3)，所述光刻框架(1)两端设置有光刻版(4)，所述光刻框架(1)上下两端设置有铝盖板(5)，所述铝盖板(5)两端通过固定螺栓(6)连接有可旋转夹块(7)；所述可旋转夹块(7)包括夹块主体(8)，所述夹块主体(8)上设置有两个固定螺孔(9)，所述夹块主体(8)上设置有一V字开口(10)，所述夹块主体(8)侧面上设置有一转轴(11)，所述转轴(11)连接有支撑腿(12)。

【技术特征摘要】
1.一种电子元件生产的光刻装置，其特征在于：包括光刻框架(1)，所述光刻框架(1)内设置有夹紧螺栓(2)，所述光刻框架(1)内设置有硅片(3)，所述光刻框架(1)两端设置有光刻版(4)，所述光刻框架(1)上下两端设置有铝盖板(5)，所述铝盖板(5)两端通过固定螺栓(6)连接有可旋转夹块(7)；所述可旋转夹块(7)包括夹块主体(8)，所述夹块主体(8)上设置有两个固定螺孔(9)，所述夹块主体(8)上设置有一V字开口(10)，所述夹块主体(8)侧面上设置有一转轴(11)，所述转轴(11)连接有支撑腿(12)。2.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的光刻装置，其特征在于：所述夹紧螺栓(2)与硅片(3)接触部设置有防护垫片...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐月苗，
申请(专利权)人：诸暨越博企业管理咨询有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33