The invention discloses an off-line homogenizing device for magnetorheological finishing fluid, comprising a protective cover, a supporting plate, a motor, a motor controller mounted on the supporting plate, a motor controller hanger, a conveyor belt I and a double main drive homogenizing group. The double main transmission group formed the square space and lifted the mixed bottle. The off-line homogenizing device can be extended to a number of groups of double main transmission. When used, the mixing bottle containing magnetorheological finishing fluid is placed on the double main transmission homogenization group to regulate the speed of the motor, run the motor and rotate the motor in order to drive the conveyor belt I and double main drive homogenization group. The roller wheel turns the mixed bottle through the static friction double main drive of the rubber tube and the mixed bottle, thus homogenizing the magnetorheological fluid in the mixed bottle. The off-line homogenizing device has the active transmission function, the friction force is big, the transmission moment is big, the roller wheel does not turn, and the mixed bottle does not skid. The off-line homogenizing device can also be used for the off-line homogenization of the magnetorheological polishing liquid and the homogenization of other polishing fluids.
【技术实现步骤摘要】
一种磁流变抛光液离线匀化装置
本专利技术属于光学元件超精密加工领域,具体涉及一种磁流变抛光液离线匀化装置。
技术介绍
光技术被誉为光学制造界的革命性技术,它利用磁流变抛光液的可控流变性实现对工件材料的精确微量确定性去除,能高效率获得数十纳米以下高精度型面、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷,很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的加工要求。目前在磁流变抛光液的配置过程中,需要对磁流变抛光液的各种组份进行混合,要求各组份混合均匀,不得有颗粒以及沉淀存在,而且需要设备长时间可靠、安全运行。在现有的专利技术以及使用的设备中,美国QED公司采用电机带动辊轮转动,另外一个辊轮被动转动,电机与辊轮在一个平面,而且其运行部件没有采取安全防护措施,两辊轮前后左右没有防止混合瓶滑落的挡块。在磁流变抛光液的的配置过程中的混合以及离线匀化时,经常由于磁流变抛光液过重或者中心偏心、辊轮力矩不足等原因,辊轮空转,混合瓶打滑,长期运行导致磁流变抛光液沉降、团聚而导致其性能不能满足要求,致使磁流变抛光液报废。同时由于混合瓶两侧没有挡板,混合瓶在回转中跑偏使混合瓶从辊轮上滚落下来,致使混合瓶抛光液沉降、报废。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种磁流变抛光液离线匀化装置。本专利技术的磁流变抛光液离线匀化装置包括防护罩、支撑板以及安装在支撑板上的支脚、电机、电机控制器挂架、电机控制器、双主传动匀化组以及安装在电机和双主传动匀化组之间的传送带Ⅰ;所述的防护罩为方形中空结构,包覆在支撑板的外周,露出混合瓶、辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ、左挡块、右挡块、前挡块、后挡块;所述的支撑板为方形平板,支脚安 ...
【技术保护点】
一种磁流变抛光液离线匀化装置,其特征在于:所述的离线匀化装置包括防护罩(2)、支撑板(7)以及安装在支撑板(7)上的支脚(3)、电机(4)、电机控制器挂架(5)、电机控制器(6)、双主传动匀化组(9)以及安装在电机(4)和双主传动匀化组(9)之间的传送带Ⅰ(8);所述的防护罩(2)为方形中空结构,包覆在支撑板(7)的外周,露出混合瓶(1)、辊轮Ⅰ(10)、辊轮Ⅱ(15)、左挡块(11)、右挡块(14)、前挡块(16)、后挡块(13);所述的支撑板(7)为方形平板,支脚(3)安装在支撑板(7)下方的四个角上,支撑离线匀化装置;所述的支撑板(7)下方安装有电机(4)、电机控制器挂架(5)、电机控制器(6),电机(4)和电机控制器挂架(5)固定在支撑板(7)下表面上,电机控制器(6)固定在电机控制器挂架(5)上,电机控制器(6)控制电机(4)运动,电机控制器(6)操作面板位于离线匀化装置正面以方便人员操作;所述的支撑板(7)上方安装有双主传动匀化组(9),双主传动匀化组(9)包括辊轮Ⅰ(10)、辊轮Ⅱ(12)、传送带Ⅱ(15)、前挡块(16)、后挡块(13)、左挡块(11)、右挡块(14), ...
【技术特征摘要】
1.一种磁流变抛光液离线匀化装置,其特征在于:所述的离线匀化装置包括防护罩(2)、支撑板(7)以及安装在支撑板(7)上的支脚(3)、电机(4)、电机控制器挂架(5)、电机控制器(6)、双主传动匀化组(9)以及安装在电机(4)和双主传动匀化组(9)之间的传送带Ⅰ(8);所述的防护罩(2)为方形中空结构,包覆在支撑板(7)的外周,露出混合瓶(1)、辊轮Ⅰ(10)、辊轮Ⅱ(15)、左挡块(11)、右挡块(14)、前挡块(16)、后挡块(13);所述的支撑板(7)为方形平板,支脚(3)安装在支撑板(7)下方的四个角上,支撑离线匀化装置;所述的支撑板(7)下方安装有电机(4)、电机控制器挂架(5)、电机控制器(6),电机(4)和电机控制器挂架(5)固定在支撑板(7)下表面上,电机控制器(6)固定在电机控制器挂架(5)上,电机控制器(6)控制电机(4)运动,电机控制器(6)操作面板位于离线匀化装置正面以方便人员操作;所述的支撑板(7)上方安装有双主传动匀化组(9),双主传动匀化组(9)包括辊轮Ⅰ(10)、辊轮Ⅱ(12)、传送带Ⅱ(15)、前挡块(16)、后挡块(13)、左挡块(11)、右挡块(14),所述的前挡块(16)、后挡块(13)、左挡块(11)、右挡块(14)安装在支撑板(7)上表面的四边,形成一个限制...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗清,敬兴久,殷俊,郑永成,陈华,徐健,黄文,张连新,吉方,何建国,刘坤,魏齐龙,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,
类型:发明
国别省市:四川,51
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