一种真空设备压强调控系统及真空设备技术方案

本申请公开了一种真空设备压强调控系统及真空设备，该装置包括真空炉体压强获取管路，抽真空管路和压强调控管路；真空炉体压强获取管路包括与真空炉体相连的第一电磁阀、用于获取真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规；与真空炉体相连的第二电磁阀、用于获取真空炉体保温层和产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规；抽真空管路用于抽取产品处理室内的尾气；压强调控管路用于向抽真空管路通入第一工艺气体，调节P1和P2之间的压强差，以实现真空炉体产品处理室内外压强差的恒定；包括与第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与第一工艺气体的进气口相连的第一质量流量计。本申请实现产品处理室内外压强差的恒定，从而获得质量更高的产品。

A vacuum equipment pressure control system and vacuum equipment

The invention discloses a pressure control system for vacuum equipment and vacuum equipment, the device comprises a vacuum furnace for pressure pipeline, vacuum pipe and pressure regulating pipeline; vacuum furnace pressure acquisition pipeline comprises a vacuum furnace body is connected with a first electromagnetic valve, used for the first film gauge obtain vacuum furnace products processing chamber pressure P1 the furnace body is connected with a vacuum; second solenoid valve, second pressure gauge for thin film P2 to obtain the vacuum furnace insulation layer and product processing chamber; the vacuum line for the gas extraction products processing chamber; pressure control line for the first process gas to pass into the vacuum pipe, adjust the pressure between P1 and P2 the difference, in order to achieve constant vacuum furnace products processing inside and outside pressure; and including the first pneumatic diaphragm valve, ball valve first connected with the first process gas inlet The connected first mass flowmeter. This application realizes the constant pressure difference between the interior and exterior of the product, so as to obtain a higher quality product.

【技术实现步骤摘要】
一种真空设备压强调控系统及真空设备
本专利技术涉及化学气相沉积
，特别涉及一种真空设备压强调控系统及真空设备。
技术介绍
真空设备应用于高速钢、工具钢、模具钢，合金结构钢等材料的高压气淬，也可用于不锈钢材料的高温钎焊、固溶；粉末材料的烧结和时效处理、硬质合金的脱脂烧结等方面，同时在以碳-氢气体为碳源的材料或基体的化学气相沉积、表面处理等方面也得到了广泛应用。通常，真空设备包括但不限于炉壳1、保温层2和产品处理室3，可以参考图1中所示的真空设备的结构示意图。产品处理室3通常为工艺气体可以渗透进入其内部的相对密闭的装置，通入到保温层中的工艺气体通过这些孔进入产品处理室3，对待处理产品进行处理，处理的过程可以是工艺气体，通常是惰性气体，对待处理产品的表面进行处理，例如进行化学气相沉积；当然也可以是工艺气体从待处理产品的外表面进入到产品的内表面，与待处理产品进行处理，如反应或除去待处理产品内的成型剂等，从而得到所需的目标产品。可以理解的是，工艺气体进入产品处理室3的速度是否均匀直接影响最后经混合气体处理过的目标产品质量的好坏。因而，保持产品处理室3内外压强差的恒定有利于混合气体均匀进入产品处理室3，从而获得质量更高的目标产品。在现有技术中，如何实现产品处理室3内外的压强差的恒定有两种解决方案。第一种解决方案是在抽真空管路上安装一个调节阀，通过对调节阀的控制使产品处理室3内外的压强差值恒定。但是，当炉内处理的产品有粘性很强的副产物通过真空管道时，这些副产物有部分会附在真空管道调节阀上，当工艺处理时间很长时，副产物会越来越多的集聚在调节阀上，使调节阀不能精确调节产品处理室3内外的压强差值。第二种解决方案是保持抽真空管路抽速不变，在工艺进气口端安装质量流量控制器，通过对进气流量的控制实现产品处理室3内外的压强差值的恒定。但是在特定工艺条件下，一般都要求进气流量是恒定的，故而在工艺进气管道安装可控流量的质量流量控制器，由于同样存在调节阀不能精确调节产品处理室3内外的压强差值的问题，因而也不能满足要求。因此，如何实现产品处理室3内外的压强差的恒定是本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种真空设备压强调控系统及真空设备，实现产品处理室3内外压强差的恒定，从而获得质量更高的产品。其具体方案如下：一种真空设备压强调控系统，包括真空炉体压强获取管路，抽真空管路和压强调控管路；其中，所述真空炉体压强获取管路包括：与所述真空炉体相连的第一电磁阀、与所述第一电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体产品处理室3的压强P1的第一薄膜规、与所述真空炉体相连的第二电磁阀、与所述第二电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体保温层2和所述产品处理室3之间的压强P2的第二薄膜规；所述抽真空管路用于抽取所述产品处理室3内的尾气，包括：与所述真空炉体相连的第一气动球阀、与所述第一气动球阀相连的第二气动球阀、与所述第二气动球阀相连的真空波纹管、与所述真空波纹管相连的压差阀、与所述压差阀相连的真空泵；所述压强调控管路用于向所述抽真空管路通入第一工艺气体，调节所述P1和所述P2之间的压强差，以实现所述真空炉体所述产品处理室3内外压强差的恒定；包括：与所述第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与所述第一隔膜阀相连的第一质量流量计；其中，所述第一质量流量计与第一工艺气体的进气口相连。可选的，所述第一电磁阀、所述第二电磁阀包括直动式电磁阀。可选的，所述第一电磁阀、所述第二电磁阀包括分步直动式电磁阀。可选的，所述第一电磁阀、所述第二电磁阀包括先导式电磁阀。可选的，所述第一薄膜规和所述第二薄膜规包括APR压阻规或CMR薄膜规。可选的，所述真空泵包括机械泵。可选的，所述第一气动球阀、所述第二气动球阀的球体为浮动球或固定球或弹性球。相应的，本专利技术还提供了一种真空炉设备，包括上述的真空设备压强调控系统。可见，本专利技术提供的真空设备压强调控系统，通过真空炉体压强获取管路获取产品处理室3的压强P1和产品处理室3与保温层2之间的压强P2，通过将P1与P2的压强差ΔP与预设的压强差ΔP设作比较，当ΔP与ΔP设不相等时，通过调控压强调控管路向抽真空管路通入的工艺气体的流量，调节ΔP，直至达到ΔP设，并保持ΔP的恒定，从而实现产品处理室3内外压强差的恒定，进而获得质量更高的产品。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种真空设备压强调控系统的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例公开了一种真空设备压强调控系统，参见图1所示，可以包括真空炉体压强获取管路4，抽真空管路5和压强调控管路6；其中，真空炉体压强获取管路4包括：与真空炉体相连的第一电磁阀41、与第一电磁阀41相连的，用于获取真空炉体产品处理室3的压强P1的第一薄膜规42、与真空炉体相连的第二电磁阀43、与第二电磁阀43相连的，用于获取真空炉体保温层2和产品处理室3之间的压强P2的第二薄膜规44。上述抽真空管路5包括：与真空炉体相连的第一气动球阀51、与第一气动球阀51相连的第二气动球阀52、与第二气动球阀52相连的真空波纹管53、与真空波纹管53相连的压差阀54、与压差阀54相连的真空泵55；用于抽取产品处理室3内的尾气。压强调控管路6包括：与第一气动球阀51相连的第一隔膜阀61、与第一隔膜阀61相连的第一质量流量计62；其中，第一质量流量计62与第一工艺气体的进气口7相连；压强调控管路6用于向抽真空管路5通入第一工艺气体7，调节P1和P2之间的压强差，以实现真空炉体产品处理室3内外压强差的恒定。在对真空炉体压强获取管路4，抽真空管路5和压强调控管路6进行具体说明之前，需要先对工艺气体通入管路9进行说明。工艺气体通入管路9包括：第一工艺气体7经过第三电磁阀91和第二质量流量计92通入混气罐95；同时，第二工艺气体8经过第四电磁阀93和第三质量流量计94通入混气罐95。混合后的工艺气体经过玻璃转子流量计96后通入到真空炉的保温层2和产品处理室3之间的区域。其中，电磁阀包括第一电磁阀41、第二电磁阀42、第三电磁阀91和第四电磁阀93，是用电磁控制的工业设备，用来控制流体的自动化基础元件，属于执行器，并不限于液压、气动。用在工业控制系统中调整介质的方向、流量、速度和其他的参数。电磁阀可以配合不同的电路来实现预期的控制，而控制的精度和灵活性都能够保证。具体地，第三电磁阀91用来控制第一工艺气体7的通入，同样，第四电磁阀92用来控制第二工艺气体8的通入。需要进行说明的是，电磁阀可以是直动式电磁阀，可以是分步直动式电磁阀，当然也可以是先导式电磁阀。其中，直动式电磁阀的工作原理是：通电时，电磁线圈产生电磁力把关闭本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空设备压强调控系统，其特征在于，包括真空炉体压强获取管路，抽真空管路和压强调控管路；其中，所述真空炉体压强获取管路包括：与所述真空炉体相连的第一电磁阀、与所述第一电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规、与所述真空炉体相连的第二电磁阀、与所述第二电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体保温层和所述产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规；所述抽真空管路用于抽取所述产品处理室内的尾气，包括：与所述真空炉体相连的第一气动球阀、与所述第一气动球阀相连的第二气动球阀、与所述第二气动球阀相连的真空波纹管、与所述真空波纹管相连的压差阀、与所述压差阀相连的真空泵；所述压强调控管路用于向所述抽真空管路通入第一工艺气体，调节所述P1和所述P2之间的压强差，以实现所述真空炉体所述产品处理室内外压强差的恒定；包括：与所述第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与所述第一隔膜阀相连的第一质量流量计；其中，所述第一质量流量计与第一工艺气体的进气口相连。

【技术特征摘要】
1.一种真空设备压强调控系统，其特征在于，包括真空炉体压强获取管路，抽真空管路和压强调控管路；其中，所述真空炉体压强获取管路包括：与所述真空炉体相连的第一电磁阀、与所述第一电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规、与所述真空炉体相连的第二电磁阀、与所述第二电磁阀相连的，用于获取所述真空炉体保温层和所述产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规；所述抽真空管路用于抽取所述产品处理室内的尾气，包括：与所述真空炉体相连的第一气动球阀、与所述第一气动球阀相连的第二气动球阀、与所述第二气动球阀相连的真空波纹管、与所述真空波纹管相连的压差阀、与所述压差阀相连的真空泵；所述压强调控管路用于向所述抽真空管路通入第一工艺气体，调节所述P1和所述P2之间的压强差，以实现所述真空炉体所述产品处理室内外压强差的恒定；包括：与所述第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与所述第一隔膜阀相连的第一质...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭泽云，胡祥龙，戴煜，
申请(专利权)人：湖南顶立科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43