用于晶圆切割的抗静电系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种用于晶圆切割的抗静电系统，该系统包括喷雾装置，喷雾装置连接抗静电装置，抗静电装置包括进气端、出水端以及过滤箱，过滤箱均与进气端、出水端连接，进气端连接进气管，进气管连接调压阀、气压表，过滤箱内靠近进气端设置有薄膜，过滤箱的侧壁上设有第一开口、第二开口，薄膜、第一开口、第二开口的位置依次降低，第二开口连接入水管，第一开口连接第一排水管，第一排水管上设有电导率探头，采用以上结构，在过滤箱内将二氧化碳气体溶在水中，产生碳酸根离子与氢离子，使得静电阻值降低至适当值，最后通过喷雾装置将混合后的水以水雾的状态喷出，保证晶圆的质量。

Antistatic system for wafer cutting

The utility model provides an antistatic system for wafer cutting, the system includes a spray device, the spray device is connected with the antistatic device antistatic device comprises an air inlet end and the water outlet end and a filter box, a filter box and the inlet end and the water outlet end is connected, the inlet end connected with inlet pipe, the air inlet pipe is connected with a pressure regulating valve, the barometer and the filter box near the inlet end is provided with a thin film filter box is arranged on the side wall of the first opening, the second opening, the first opening, the second opening film, the position is lower and lower, the second opening is connected with a water inlet pipe, the first opening is connected with the first drainage pipe, the drainage pipe is provided with a conductivity probe, using the above structure, the the filter box will produce carbon dioxide gas dissolved in water, carbonate ion and hydrogen ion, the electrostatic resistance is reduced to an appropriate value, and finally through the spray device The mixed water is sprayed out in the state of water mist to ensure the quality of the wafer.

【技术实现步骤摘要】
用于晶圆切割的抗静电系统
本技术涉及半导体制造
，尤其是涉及一种用于晶圆切割的抗静电系统。
技术介绍
静电在自然环境中广泛存在，在生产环境和作业过程中也极易产生，然而在晶圆加工过程，在生产环境内存在静电，静电会对晶圆表面的线路产生破坏，导致晶圆加工的质量下降，不良品率高。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种提高晶圆加工质量的用于晶圆切割的抗静电系统。为实现上述的主要目的，本技术提供的用于晶圆切割的抗静电系统包括切割机，切割机内设置有喷雾装置，喷雾装置包括第一喷嘴与第二喷嘴，第一喷嘴包括喷嘴固定块，喷嘴固定块的侧壁上设有出水口与第一出气口，喷嘴固定块内设置有喷水套筒，喷水套筒均与出水口、第一出气口连通，喷嘴固定块连接喷嘴固定套，喷嘴固定套的第一端内固定有喷嘴头，喷嘴固定套的第二端内固定有连接套，连接套连接喷水套筒，喷水套筒、连接套与喷嘴头相互连通，第一喷嘴的第一端设有喷雾口；第一出气口连接第一出气管，出水口连接出水管，第二喷嘴的侧壁上设置有第二出气口，第二喷嘴远离第二出气口的一侧设有喷气口，喷气口与第二出气口连通，第二出气口连接第二出气管，第一出气管、第二出气管与出水管均与气液本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于晶圆切割的抗静电系统，其特征在于，包括：切割机，所述切割机内设置有喷雾装置，所述喷雾装置包括第一喷嘴与第二喷嘴，所述第一喷嘴包括喷嘴固定块，所述喷嘴固定块的侧壁上设有出水口与第一出气口，所述喷嘴固定块内设置有喷水套筒，所述喷水套筒均与所述出水口、第一出气口连通，所述喷嘴固定块连接喷嘴固定套，所述喷嘴固定套的第一端内固定有喷嘴头，所述喷嘴固定套的第二端内固定有连接套，所述连接套连接所述喷水套筒，所述喷水套筒、所述连接套与所述喷嘴头相互连通，所述第一喷嘴的第一端设有喷雾口；所述第一出气口连接第一出气管，所述出水口连接出水管，所述第二喷嘴的侧壁上设置有第二出气口，所述第二喷嘴远离所述第二出气口的...

【技术特征摘要】
1.用于晶圆切割的抗静电系统，其特征在于，包括：切割机，所述切割机内设置有喷雾装置，所述喷雾装置包括第一喷嘴与第二喷嘴，所述第一喷嘴包括喷嘴固定块，所述喷嘴固定块的侧壁上设有出水口与第一出气口，所述喷嘴固定块内设置有喷水套筒，所述喷水套筒均与所述出水口、第一出气口连通，所述喷嘴固定块连接喷嘴固定套，所述喷嘴固定套的第一端内固定有喷嘴头，所述喷嘴固定套的第二端内固定有连接套，所述连接套连接所述喷水套筒，所述喷水套筒、所述连接套与所述喷嘴头相互连通，所述第一喷嘴的第一端设有喷雾口；所述第一出气口连接第一出气管，所述出水口连接出水管，所述第二喷嘴的侧壁上设置有第二出气口，所述第二喷嘴远离所述第二出气口的一侧设有喷气口，所述喷气口与所述第二出气口连通，所述第二出气口连接第二出气管，所述第一出气管、所述第二出气管与所述出水管均与气液分离管连接；抗静电装置，所述抗静电装置连接所述喷雾装置，所述抗静电装置包括进气端、出水端以及过滤箱，所述过滤箱均与所述进气端、所述出水端连接，所述进气端包括进气管，所述进气管连接调压阀、气压表，所述过滤箱内靠近所述进气端设置有薄膜，所述过滤箱的侧壁上设有第一开口以及第二开口，所述薄膜、所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴俊，熊强，袁志伟，
申请(专利权)人：珠海市中芯集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44