彩膜基板及全色调光罩制造技术

本发明专利技术实施例公开了一种彩膜基板，包括：第一基板；色阻层，其位于所述第一基板上，所述色阻层包括红色色阻、蓝色色阻、绿色色阻；平坦层，其至少位于色阻层上；透明电极，其至少位于平坦层上；其中所述透明电极包括第一平面电极部、第二平面电极部和连接电极部，所述第一平面电极部位于色阻层和平坦层共同的上方，所述第二平面电极部位于其下没有色阻层的平坦层上或者位于第一基板上，所述连接电极部连接所述第一平面电极部和第二平面电极部，所述连接电极部为斜面且其与水平面的夹角为15－40°或者所述连接电极为台阶面。本发明专利技术实施例还公开了一种全色调光罩。采用本发明专利技术，具有透明电极不容易断路或者短路的优点。

Color film substrate and full tone mask

The embodiment of the invention discloses a color film substrate, a first substrate; color resistance layer on the first substrate, the color layer including red color, blue green color resistance resistance, color resistance; flat layer, at least in the color resistance layer; the transparent electrode, at least in the flat layer; wherein the transparent electrode includes a first electrode, the second electrode plane plane part and a connecting electrode, the first electrode is located in color layer flat layer above the second plane electrode under no color resistance layer or flat layer is positioned on the first substrate and the connecting electrode is connected to the first electrode and the second electrode plane plane, wherein the connecting electrode and the inclined plane and the horizontal plane angle is 15-40 degrees or the connecting electrode for step surface. An all - tone mask is also disclosed in the embodiment of the invention. With the invention, it has the advantages that the transparent electrode is not easy to break or short circuit.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及全色调光罩
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种彩膜基板及全色调光罩。
技术介绍
现有的液晶显示器制程中，尤其是COA(colorfilteronarray)技术中，位于平坦层上的ITO薄膜在沉积时，由于ITO薄膜下面的膜层地形复杂，高低起伏大，易造成ITO膜层爬坡断裂形成断路；或者，在ITO膜层下面的地形突变处形成ITO残留，而造成线路之间的短路。请参见图1，现有的COA技术的阵列基板包括：透明基板、栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极、漏极、钝化层(前面所有膜层一起用110表示)、色阻层120、平坦层130和像素电极140，由于阵列基板上有些地方存在色阻层120，有些地方不存在色阻层120，导致平坦层130对应存在色阻层120和不存在色阻层120的交界处的位置落差很大，将此处的平坦层称作平坦倾斜部(图中椭圆形附近区域)，平坦倾斜部一般与水平面之间的夹角比较大，例如为60°，有时甚至超过75°，导致形成在其上的像素电极140部分与水平面的夹角也达到了60°甚至更大，导致在其后形成像素电极140的过程中，形成在平坦倾斜部上的像素电极140(椭圆形区域位置)由于落差很大，以及与水平面的夹角很大，导致容易在制程过程中断路。而且，在平坦倾斜部处或者邻近平坦倾斜部处形成像素电极时，由于此处地形变化很大，可能导致形成像素电极的材料残留，进而造成像素电极与其他线路短路。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种彩膜基板及全色调光罩。可改善透明电极容易断路或者短路的问题。为了解决上述技术问题，本专利技术第一方面实施例提供了一种彩膜基板，包括：第一基板；色阻层，其位于所述第一基板上，所述色阻层包括红色色阻、蓝色色阻、绿色色阻；平坦层，其至少位于色阻层上；透明电极，其至少位于平坦层上；其中所述透明电极包括第一平面电极部、第二平面电极部和连接电极部，所述第一平面电极部位于色阻层和平坦层共同的上方，所述第二平面电极部位于其下没有色阻层的平坦层上或者位于第一基板上，所述连接电极部连接所述第一平面电极部和第二平面电极部，所述连接电极部为斜面且其与水平面的夹角为15－40°或者所述连接电极为台阶面。在本专利技术第一方面一实施例中，所述平坦层与所述连接电极部相对的部分与所述连接电极部相匹配。在本专利技术第一方面一实施例中，所述色阻层与所述连接电极部相对应的部分与所述连接电极部相匹配。在本专利技术第一方面一实施例中，当所述连接电极部为台阶面时，所述连接电极至少包括平面部和两个倾斜部，所述平面部位于所述两个倾斜部之间，其中一个倾斜部两端分别连接所述第一平面电极部和所述平面部的内端，另外一个倾斜部两端分别连接所述第二平面电极部和所述平面部的外端。在本专利技术第一方面一实施例中，所述第一基板包括透明基板、栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极、漏极和钝化层，所述透明电极为像素电极。在本专利技术第一方面一实施例中，所述第一基板为透明基板，所述透明电极为共通电极。本专利技术第二方面实施例提供了一种全色调光罩，包括：透光部；非透光部；缓冲部，其位于透光部和非透光部之间，当光照射到缓冲部上时其透光率介于20％￣60％之间。在本专利技术第二方面一实施例中，所述缓冲部包括本体，所述本体由不透光材料构成，所述本体上设有透光狭缝和/或透光通孔。在本专利技术第二方面一实施例中，所述本体上的透光狭缝和/或透光通孔由透光部一侧向非透光部一侧逐渐减少。在本专利技术第二方面一实施例中，所述本体上的透光狭缝和/或透光通孔的尺寸由透光部一侧向非透光部一侧逐渐缩小。实施本专利技术实施例，具有如下有益效果：由于所述透明电极包括第一平面电极部、第二平面电极部和连接电极部，所述第一平面电极部位于色阻层和平坦层共同的上方，所述第二平面电极部位于其下没有色阻层的平坦层上或者位于第一基板上，所述连接电极部连接所述第一平面电极部和第二平面电极部，所述连接电极部为斜面且其与水平面的夹角为15－40°或者所述连接电极为台阶面。从而，连接第一平面电极部和第二平面电极部的连接电极部通过台阶面或者比较缓的斜面进行过渡，坡度不会太大，所述透明电极在连接电极部处不容易出现断路和短路的问题，从而提高了彩膜基板的良率，成本得到降低。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有的COA技术的阵列基板的示意图；图2是本专利技术第一实施例彩膜基板的示意图；图3是本专利技术一实施全色调光罩的示意图；图4a是本专利技术另一实施全色调光罩的示意图；图4b是本专利技术又一实施全色调光罩的示意图；图5是本专利技术第二实施例彩膜基板的示意图；图6是本专利技术第三实施例彩膜基板的示意图；图示标号：210－第一基板；220、320、420－色阻层；230、330、430－平坦层；240、340、440－透明电极；241、341、441－第一平面电极部；242、342、442－第二平面电极部；243、343、443－连接电极部；243a－平面部；243b－倾斜部；443a－上平面部；443b－左倾斜部；443c－中倾斜部；443d－下平面部；443e－右倾斜部；550－透光部；560－非透光部；570、670、770－缓冲部；571、671、771－本体；572、672－透光狭缝；772－透光通孔。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本申请说明书、权利要求书和附图中出现的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。此外，术语“第一”、“第二”和“第三”等是用于区别不同的对象，而并非用于描述特定的顺序。第一实施例本专利技术实施例提供一种彩膜基板，在此处，所述彩膜基板的范围比平常说的彩色滤光片基板的范围要大，只要基板上设有色阻层这样的结构就包括在本专利技术的彩膜基板的范围内。请参见图2，在本实施例中，所述彩膜基板为COA技术的阵列基板，所述彩膜基板包括第一基板210、色阻层220、平坦层230和透明电极240。在本实施例中，所述第一基板210包括透明基板、栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极、漏极和钝化层。具体说来，所述透明基板可以为玻璃基板、柔性基板、塑料基板等。所述栅极位于所述透明基板上，当然，与栅极电连接的扫描线也位于所述透明基板上。所述栅极绝缘层形成所述栅极和所述扫描线上。所述半导体层形成在所述栅极绝缘层，所述半导体层可以为a－Si半导体层、IGZO半导体层、多晶硅半导体层等。所述半导体层的两侧形成源极和漏极，与源极电连接的数据线与所述源极、漏极一同形成。在所述源极、漏极和数据线上形成钝化层。另外，在本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：第一基板；色阻层，其位于所述第一基板上，所述色阻层包括红色色阻、蓝色色阻、绿色色阻；平坦层，其至少位于色阻层上；透明电极，其至少位于平坦层上；其中所述透明电极包括第一平面电极部、第二平面电极部和连接电极部，所述第一平面电极部位于色阻层和平坦层共同的上方，所述第二平面电极部位于其下没有色阻层的平坦层上或者位于第一基板上，所述连接电极部连接所述第一平面电极部和第二平面电极部，所述连接电极部为斜面且其与水平面的夹角为15－40°或者所述连接电极为台阶面。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：第一基板；色阻层，其位于所述第一基板上，所述色阻层包括红色色阻、蓝色色阻、绿色色阻；平坦层，其至少位于色阻层上；透明电极，其至少位于平坦层上；其中所述透明电极包括第一平面电极部、第二平面电极部和连接电极部，所述第一平面电极部位于色阻层和平坦层共同的上方，所述第二平面电极部位于其下没有色阻层的平坦层上或者位于第一基板上，所述连接电极部连接所述第一平面电极部和第二平面电极部，所述连接电极部为斜面且其与水平面的夹角为15－40°或者所述连接电极为台阶面。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述平坦层与所述连接电极部相对的部分与所述连接电极部相匹配。3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层与所述连接电极部相对应的部分与所述连接电极部相匹配。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，当所述连接电极部为台阶面时，所述连接电极至少包括平面部和两个倾斜部，所述平面部位于所述两个倾斜部之间，其中一个倾斜部两端分别连接所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹武，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44