一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，包括基体、第一台面、第二台面、可拆卸的安装于第一台面和第二台面之间的连接块、对准系统和曝光系统。在利用所述兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机对基板进行加工的过程中：若拆除所述连接块，所述对准系统和所述曝光系统可不间歇的交替的对所述第一台面和第二台面上的基板分别进行对准和曝光的动作，从而突破现有单台面直写曝光机的产能瓶颈；若将所述连接块安装于第一台面和第二台面之间，第一台面和第二台面可以协同地吸附基板，此时所述兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机可处理的基板尺寸相当于第一台面和第二台面的有效吸附面积之和，从而成倍的增加其可处理的基板的尺寸。

A double desk direct writing exposure machine with two modes of independence and integration

The utility model discloses a dual table direct writing exposure machine with two independent and merged modes, including a substrate, a first table, a second table surface, a detachable connection block, an alignment system and an exposure system arranged between the first and second mesa. In the use of the independent and combined double platform of two modes of direct writing on the substrate exposure machine processing process: if remove the connecting block, the alignment system and the exposure system capable of intermittently alternately on the first substrate table and the table second respectively for alignment and exposure the action, so as to break the existing single table lithography machine production capacity bottleneck; if the connecting block is arranged between the first surface and the second surface, the first surface and the second surface can adsorb the substrate together, both double platform independent and combined the two modes of lithography machine can handle substrate size effective absorption area is equivalent to the first and second table table and then multiplied the processed substrate size.

【技术实现步骤摘要】
一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机
本技术涉及印制线路板领域，具体涉及一种直写式曝光装置，更具体而言，涉及一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机。
技术介绍
目前，用于生产基板的直写式曝光机一般都是单台面的，通常包括上料装置、对准装置、曝光装置和下料装置。相应的，采用目前的单台面的直写式曝光机生产基板时，包括上料、对准、曝光、下料几个过程。由于现有技术中的直写式曝光机只有一个台面，因此上料、对准、曝光、下料这几个过程只能依次进行，这就造成了，在上料或对准过程中，曝光装置处于等待闲置状态；在曝光过程中，则对准和下料处于等待闲置状态，由此无法充分利用上料装置、下料装置、对准装置和曝光装置，限制了单台面直写式曝光机的产能。为此，申请人专利技术了一种双台面直写曝光机，其虽然可突破单台面直写曝光机的产能瓶颈。但是，其可处理的基板的尺寸与单台面直写曝光机相差无几，仍旧受限于单个台面的真空吸盘面积，不能够对大尺寸的基板进行曝光处理。为此，有必要设计一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，以解决上述问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，针对现有技术中，双台面直写曝光机不能处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，其特征在于，包括：基体(18)，具有前侧面、与所述前侧面相对的后侧面、以及连接并垂直于所述前侧面和后侧面的上侧面；第一台面(3)，具有铺设于所述上侧面的第一轨道(31)和可移动的安装于所述第一轨道(31)上的用于吸附基板的第一真空吸盘(32)；第二台面(4)，具有铺设于所述上侧面的第二轨道(41)和可移动的安装于所述第二轨道(41)上的用于吸附基板的第二真空吸盘(42)，其中，所述第二轨道(41)与第一轨道(31)平行且对齐，所述第二真空吸盘(42)相对于所述基体(18)的高度与所述第一真空吸盘(32)的相同；连接块(100)，可拆卸的安装于所述第...

【技术特征摘要】
1.一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，其特征在于，包括：基体(18)，具有前侧面、与所述前侧面相对的后侧面、以及连接并垂直于所述前侧面和后侧面的上侧面；第一台面(3)，具有铺设于所述上侧面的第一轨道(31)和可移动的安装于所述第一轨道(31)上的用于吸附基板的第一真空吸盘(32)；第二台面(4)，具有铺设于所述上侧面的第二轨道(41)和可移动的安装于所述第二轨道(41)上的用于吸附基板的第二真空吸盘(42)，其中，所述第二轨道(41)与第一轨道(31)平行且对齐，所述第二真空吸盘(42)相对于所述基体(18)的高度与所述第一真空吸盘(32)的相同；连接块(100)，可拆卸的安装于所述第一真空吸盘(32)和所述第二真空吸盘(42)之间；对准系统(9)，布置于所述第一台面(3)和第二台面(4)的上方，用于对所述第一真空吸盘(32)或所述第二真空吸盘(42)吸附的基板进行对准动作；曝光系统(10)，布置于所述第一台面(3)和第二台面(4)的上方，且位于所述对准系统(9)的后方，用于对所述第一真空吸盘(32)或所述第二真空吸盘(42)吸附的基板进行曝光动作。2.根据权利要求1所述的兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，其特征在于，所述连接块相对于所述基体(18)的高度与所述第一真空吸盘(32)或所述第二真空吸盘(42)的相同，且所述连接块(100)填满所述第一真空吸盘(32)与所述第二真空吸盘(42)之间的间隙。3.根据权利要求2所述的兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，其特征在于，还包括：第三上料装置(55)，布置于所述基体(18)的前侧面的前方，用于将基板同时输送至所述第一台面(3)和第二台面(4)；第三下料装置(56)，布置于所述基体(18)的后侧面的后方且与所述第三上料装置对齐，用于输出同时处于所述第一台面(3)和第二台面(4)上的基板。4.根据权利要求1所述的兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机，其特征在于，还包括：第一上料装置(1)，布置于所述基体(18)的前侧面的前方，用于将基板输送至所述第一台面(3)；第一下料装置(5)，布置于所述基体(18)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志国，刘振良，
申请(专利权)人：苏州微影激光技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32