曝光装置、曝光方法以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供一种在曝光量的均匀化方面有利的曝光装置。一种曝光装置，在使基板(W)和原版(R)移动的同时针对每个被摄区域对基板(W)进行扫描曝光，所述曝光装置具有：整形部(117)，对曝光被摄区域的曝光光进行整形；照明部(114)，调整曝光光的光量分布；以及控制部(170)，控制整形部(117)及照明部(114)，控制部(170)控制照明部(114)，以使在被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计曝光量分布相等，控制整形部(117)，以使被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。

Exposure device, exposure method and method of manufacture

The invention relates to an exposure device, an exposure method, and an article manufacturing method. An exposure device is provided for the homogenization of the exposure. An exposure apparatus in the substrate (W) and original (R) mobile at the same time for each subject area on the substrate (W) scanning exposure, the exposure apparatus has a shaping part (117), through the shaping of the exposure area photographed Bao Guangguang; Lighting Department (114), light distribution adjustment the exposure light; and a control section (170), (117) Department of plastic control and lighting department (114), the control part (170) to control the lighting department (114), the first region to make the separation in the subject area of the non scanning direction and second regional respective cumulative exposure dose distribution equal, shaping control the Department (117), so that the cumulative exposure was taken in the scanning direction of regional uniformity.

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、曝光方法以及物品制造方法
本专利技术涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。
技术介绍
在作为液晶显示设备等的制造工序之一的光刻工序中，使用在使原版以及基板同步地移动的同时，经由投影光学系统将原版的图案转印到基板上的曝光区域的扫描型曝光装置(扫描仪)。进而，近年来，为了通过扫描仪应对与基板的大形化相伴的曝光区域的大面积化，开发了将曝光区域分割为多个单位曝光区域(被摄区域)并对与各被摄区域对应的图案的像依次进行曝光的方法。在该方法中，进行使在与扫描方向正交的方向上邻接的被摄区域的一部分相接合而曝光的接合曝光。相接合的部分(接合部)由于邻接的被摄区域的一部分相互重叠，所以曝光量比接合部以外的部分大，图案的线宽在接合部和其以外的部分不均匀。作为使接合部和其以外的部分的曝光量变得均匀的曝光装置，专利文献1公开了通过设置于光源与原版之间的遮光板调节接合部的曝光量的曝光装置。【现有技术文献】专利文献1：日本专利第3711586号公报
技术实现思路
在扫描仪中，例如通过能够调整狭缝宽度的狭缝状的照射区域(照明光)对被摄区域进行曝光。通过调整狭缝宽度，能够使通过照明光进行被摄区域的扫描曝光时的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，在使基板和原版移动的同时针对每个被摄区域对所述基板进行扫描曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：整形部，对曝光所述被摄区域的曝光光进行整形；照明部，调整所述曝光光的光量分布；以及控制部，控制所述整形部及所述照明部，所述控制部控制所述照明部，以使在所述被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计的曝光量分布相等，所述控制部控制所述整形部，以使所述被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。

【技术特征摘要】
2016.07.13 JP 2016-1381671.一种曝光装置，在使基板和原版移动的同时针对每个被摄区域对所述基板进行扫描曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：整形部，对曝光所述被摄区域的曝光光进行整形；照明部，调整所述曝光光的光量分布；以及控制部，控制所述整形部及所述照明部，所述控制部控制所述照明部，以使在所述被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计的曝光量分布相等，所述控制部控制所述整形部，以使所述被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述照明部具有：第一光源，在所述非扫描方向上以第一曝光量分布射出对所述被摄区域进行曝光的光束；以及第二光源，在所述非扫描方向上以第二曝光量分布射出对所述被摄区域进行曝光的光束，所述控制部单独地控制所述第一光源以及所述第二光源的输出，使所述被摄区域中的所述非扫描方向的曝光量分布按照一次曲线状变化。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述照明部具有光学元件，该光学元件使所述被摄区域中的所述非扫描方向的曝光量分布按照二次曲线状变化。4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述整形部配置于与所述原版以及所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：川岛春名，大阪昇，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP