新型化合物、潜伏性添加剂和含有该添加剂的组合物制造技术

一种由下述通式(1)表示的化合物。下述通式(1)中，R

New compounds, latent additives and compositions containing the additive

A compound expressed by the following general formula (1). In the following general formula (1), R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型化合物、潜伏性添加剂和含有该添加剂的组合物
本专利技术涉及新型化合物、由该化合物制成的在常温下不活泼但通过加热至规定温度就被活化而发挥功能的潜伏性添加剂、和含有该潜伏性添加剂的组合物。进而涉及使用了该组合物的能够通过能量射线来聚合的着色感光性组合物和使用了该着色感光性组合物的滤色器。
技术介绍
作为提高树脂组合物的耐候性和耐热性的方法，已知添加紫外线吸收剂、抗氧化剂来使其稳定化的方法(专利文献1～4)。酚系抗氧化剂由于具有捕捉对聚合物的劣化产生较大影响的自由基的作用，所以如果在聚合体系内添加抗氧化剂，则一般会作为所谓阻聚剂起作用，引起固化阻碍，这成为了问题，因而开发了潜伏性添加剂，但并未得到满意的溶解性(专利文献5)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平6-179798号公报专利文献2：日本特开平7-109380号公报专利文献3：日本特开平11-071355号公报专利文献4：日本特开2002-097224号公报专利文献5：US2015/291772(A1)
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供在常温下不活泼但通过加热至规定温度就被活化而发挥功能的溶解性高的潜伏性添加剂。另本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由下述通式(1)表示的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.11 JP 2015-1794661.一种由下述通式(1)表示的化合物，式中，R1、R2、R3和R4分别独立地表示可以具有取代基的碳原子数为1～20的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、可以具有取代基的碳原子数为2～20的含有杂环的基团、三烷基甲硅烷基、-CO-O-R11或-CO-S-R12，R11和R12分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1～20的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、或者可以具有取代基的碳原子数为2～20的含有杂环的基团，R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、可以具有取代基的碳原子数为1～20的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、或者可以具有取代基的碳原子数为2～20的含有杂环的基团，多个R5彼此之间、R6彼此之间、R7彼此之间和R8彼此之间也可以结合而形成苯环或萘环，多个R5、R6、R7、R8、R9和R10可以分别相同或不同，X1表示直接键合、可以具有取代基的碳原子数为1～4的亚烷基、可以具有取代基的碳原子数为3～20的脂环式烃基、-O-、-S-、-SO2-、-SS-、-SO-、-CO-、-OCO-或由下述式(1-1)、(1-1)或(1-3)表示的取代基，a、b、c和d分别独立地表示0～4的整数，e和f分别独立地表示0～9的整数，所述式中，R7...

【专利技术属性】
技术研发人员：松井依纯，铃木智美，冈田光裕，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本,JP