溅射靶材以及使用其的溅射成膜方法技术

本发明专利技术提供一种可减少由电弧放电或异常放电所引起的粒子的产生的溅射靶材。本发明专利技术的溅射靶材用于磁控溅射，且将板状构件装卸自如地嵌入至所述溅射靶材的位于靶材面的中央部的非剥蚀区域中。优选为在嵌入至溅射靶材中后，板状构件的靶材面侧的表面与溅射靶材的剥蚀前的靶材面为大致相同的高度、或配置于自所述靶材面凹下的位置上。

Sputtering target and sputtering method using it

The present invention provides a sputtering target that can reduce the production of particles caused by electric arc discharge or abnormal discharge. The sputtering target material of the invention is used for magnetron sputtering, and the loading and unloading of the plate member is freely embedded into the non eroded area located at the central part of the target surface of the sputtering target. After being embedded into the sputtering target, the surface of the target part of the plate member is approximately the same height as the target surface before sputtering target, or is positioned on the concave side of the target surface.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溅射靶材以及使用其的溅射成膜方法
本专利技术涉及一种用于在靶材的表面形成磁场来进行溅射的磁控溅射的靶材及使用所述靶材的溅射成膜方法。
技术介绍
在移动电话、便携式电子文件机器、自动贩卖机、汽车导航等中所搭载的平板显示器(FlatPanelDisplay，FPD)中采用使手指或笔尖接触显示画面来进行输入的“触摸屏”正在普及。“触摸屏”大致分为“电阻型”与“静电电容型”，“电阻型”的触摸屏呈如下的结构：使在包含树脂膜的透明基板上成膜的X坐标(或Y坐标)探测用的电极片、与在玻璃基板上成膜的Y坐标(或X坐标)探测用的电极片以所述两电极片夹持绝缘体间隔物而对向的方式叠加。而且，根据画面显示，利用笔等自透明基板的表面进行按压，由此两电极片电性接触，由此可探测所述按压位置的X坐标及Y坐标。另一方面，“静电电容型的触摸屏”呈如下的结构：在包含夹持绝缘片而对向的X坐标(或Y坐标)探测用的电极片、与Y坐标(或X坐标)探测用的电极片的层叠体上配置有玻璃等绝缘体，当根据画面显示使手指接近绝缘体的表面时，其附近的X坐标探测电极及Y坐标探测电极的电容会变化，因此可探测所述手指的位置的X坐标及Y坐标。所述“电阻型本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射靶材，其用于磁控溅射，其特征在于：将板状构件装卸自如地嵌入至所述溅射靶材的位于靶材面的中央部的非剥蚀区域中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.29 JP 2015-1106201.一种溅射靶材，其用于磁控溅射，其特征在于：将板状构件装卸自如地嵌入至所述溅射靶材的位于靶材面的中央部的非剥蚀区域中。2.根据权利要求1所述的溅射靶材，其特征在于在嵌入至所述溅射靶材中后，所述板状构件的靶材面侧的表面与所述溅射靶材的剥蚀前的靶材面为大致相同的高度、或配置于自所述靶材面凹下的位置上。3.根据权利要求1或2所述的溅射靶材...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡邉寛人，
申请(专利权)人：住友金属矿山株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP