【技术实现步骤摘要】
一种改进的溅镀机防着板结构
本专利技术涉及一种真空溅镀领域,尤其涉及一种改进的溅镀机防着板结构。
技术介绍
真空溅镀是由电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,而最终达到对基片表面镀膜的目的。因此,需要寻求一种新的技术来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是:针对上述不足,提供一种防红屁股的尿不湿。为达到上述目的,本专利技术采用的技术方案是:一种改进的溅镀机防着板结构,包含机体,所述机体内设有溅镀源,溅镀源下方设有置物板,所述置物板固定于输送带上,所述输送带两侧固定有输送导轨,所述输送导轨两侧的机体上通过支架固定有防着板组件,所述防着板组件包括内凹圆弧防着板和底部防着板,所述内凹圆弧防着板的底部连接有向前延伸的底部防着板,所述底部防着板上设有凹面和凸面,所述凹面置于内侧,所述凸面靠近边缘。在上述技术方案中,由于防着板组件的底部设有向外延伸的底部防着板,使得飞溅的靶材原子或者大尺寸颗粒被轻易包覆在防着板组件内,提高了机体内壁清洁率;而将凸面设计在边缘,凹面设计在内侧,进一步加强了吸附靶材原子或者大尺寸颗粒的能力。所述内凹圆弧板内表面也设有凹面、凸面以及平滑面,所述凹面和凸面之间通过平滑面连接。在上述技术方案中,凹面、凸面的设计能吸附不同飞溅方向以及飞溅角度的靶材原子或者大尺寸颗粒。所述置物板上均匀分布有多个置物台。位于所述置物板上的溅镀源通过旋转轴连接,所述机体外设有控制旋转轴的旋转电机。在上述技术方 ...
【技术保护点】
一种改进的溅镀机防着板结构,其特征在于:包含机体,所述机体内设有溅镀源,溅镀源下方设有置物板,所述置物板固定于输送带上,所述输送带两侧固定有输送导轨,所述输送导轨两侧的机体上通过支架固定有防着板组件,所述防着板组件包括内凹圆弧防着板和底部防着板,所述内凹圆弧防着板的底部连接有向前延伸的底部防着板,所述底部防着板上设有凹面和凸面,所述凹面置于内侧,所述凸面靠近边缘。
【技术特征摘要】
1.一种改进的溅镀机防着板结构,其特征在于:包含机体,所述机体内设有溅镀源,溅镀源下方设有置物板,所述置物板固定于输送带上,所述输送带两侧固定有输送导轨,所述输送导轨两侧的机体上通过支架固定有防着板组件,所述防着板组件包括内凹圆弧防着板和底部防着板,所述内凹圆弧防着板的底部连接有向前延伸的底部防着板,所述底部防着板上设有凹面和凸面,所述凹面置于内侧,所述凸面靠近边缘。2.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:霍凯,
申请(专利权)人:苏州凡特真空溅镀科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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