替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，包括步骤：在产品表面通过物理气相沉积（PVD）形成二氧化钛层；在二氧化钛层的表面通过PVD形成铬层或铟锡层；在铬层或铟锡层的表面通过PVD形成二氧化钛层；重复上述步骤多次，得到多层交互堆叠的二氧化钛层与铬层或铟锡层，并且最外层为二氧化钛层。可以在成品表面获得黑色膜层，该工艺可以替代黑色喷涂印刷，得到的膜层均匀性好，并且更环保。

Production process of low temperature film layer instead of black printing

The invention discloses a low temperature thin film coating layer instead of black printing process, which comprises the following steps: on the surface by physical vapor deposition (PVD) formed on the surface of TiO2 layer; TiO2 layer formed by PVD chromium layer or indium tin layer; on the surface of the chromium layer or indium tin layer formed by PVD titanium dioxide layer; repeat the above steps repeatedly, get the multilayer stacked TiO2 layer interaction with chromium layer or indium tin layer, and the outer layer of titanium dioxide. The black coating can be obtained on the surface of the finished product, which can replace the black spray printing, and the film has good uniformity and more environmental protection.

【技术实现步骤摘要】
替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺
本专利技术属于真空薄膜加工领域，具体地涉及一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺以及制得的黑色膜层。
技术介绍
目前在产品表面形成黑色涂层的工艺，都使用喷涂或印刷来获得实现，特殊的也会使用真空高温制程（工艺温度在100°以上），但是无法在塑胶材料等非耐高温的材质上实现黑色镀膜工艺。喷涂或印刷工艺在生产中容易造成大气环境破坏，良品率原材料的浪费，产品涂层的均匀性差，涂层太厚造成的装配设计公差，装配难度等，无法满足特殊的立体外形设计客户的需求。
技术实现思路
针对上述存在的技术问题，本专利技术目的是：提供一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，可以在成品表面获得黑色膜层，该工艺可以替代黑色喷涂印刷，得到的膜层均匀性好，并且更环保。本专利技术的技术方案是：一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，包括以下步骤：S01：在产品表面通过物理气相沉积（PVD）形成二氧化钛层；S02：在二氧化钛层的表面通过PVD形成铬层或铟锡层；S03：在铬层或铟锡层的表面通过PVD形成二氧化钛层；S04：重复步骤S02和S03至多次，得到多层交互堆叠的二氧化钛层与铬层或铟锡本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，包括以下步骤：S01：在产品表面通过物理气相沉积（PVD）形成二氧化钛层；S02：在二氧化钛层的表面通过PVD形成铬层或铟锡层；S03：在铬层或铟锡层的表面通过PVD形成二氧化钛层；S04：重复步骤S02和S03至多次，得到多层交互堆叠的二氧化钛层与铬层或铟锡层，并且最外层为二氧化钛层。

【技术特征摘要】
1.一种替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，包括以下步骤：S01：在产品表面通过物理气相沉积（PVD）形成二氧化钛层；S02：在二氧化钛层的表面通过PVD形成铬层或铟锡层；S03：在铬层或铟锡层的表面通过PVD形成二氧化钛层；S04：重复步骤S02和S03至多次，得到多层交互堆叠的二氧化钛层与铬层或铟锡层，并且最外层为二氧化钛层。2.根据权利要求1所述的替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，所述PVD为溅射。3.根据权利要求1所述的替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，所述二氧化钛层为四层，所述铬层或铟锡层为三层。4.根据权利要求1或3所述的替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，所述第一层二氧化钛层和第二层二氧化钛层的厚度相同，所述第一层铬层或铟锡层与第二层铬层或铟锡层的厚度相同，之后每一层的二氧化钛层与铬层或铟锡层的厚度依次增大。5.根据权利要求4所述的替代黑色印刷喷涂的低温薄膜层制程工艺，其特征在于，所述第一层二氧化钛层的厚度为10nm-35nm，第一层铬层或铟锡层的厚度为80nm-150nm，第二层二氧化钛层的厚度为10nm-35nm，第二层铬层或铟锡层的厚度为80nm-150nm，第三层二氧化钛层的厚度为100nm-170nm，第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴明光，戴明奇，林政乾，
申请(专利权)人：苏州融睿纳米复材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32