反应性溅射法和层叠体膜的制造方法技术

本发明专利技术的课题是提供一种反应性溅射法，其使非腐蚀区域沉积的颗粒沉积物、腐蚀区域产生的结瘤不易从溅射靶脱离，又能抑制电弧放电等。本发明专利技术的技术方案是：该反应性溅射法使用在真空室(10)内具备磁控溅射阴极(17)、(18)、(19)、(20)的溅射装置，并且在真空室内导入含有反应性气体的工艺气体进行成膜，所述反应性溅射法的特征在于，该反应性气体由氧气或氮气构成并且反应性气体中含有水。在反应性气体所含的水分的作用下，颗粒沉积物、结瘤变得不易从溅射靶脱离，带电的颗粒沉积物、结瘤的电荷减少而使电弧放电被抑制。

Reactive sputtering and fabrication of laminated films

The subject of the invention is to provide a reactive sputtering method, which makes the nodules produced in the non corrosive area deposited by particles and corrosion areas are not easy to separate from the sputtering targets, but also suppress the arc discharge. The technical scheme of the invention is: the reactive sputtering method used in a vacuum chamber (10) with magnetron sputtering cathode (17), (18), (19), (20) the sputtering apparatus and process gas containing reactive gas in the vacuum chamber into the film, characterized in that the reaction of sputtering, the reaction gas containing water by oxygen or nitrogen and reactive gases. Under the action of moisture contained in reactive gases, granular sediments and nodules become more difficult to escape from sputtering targets, and the discharge of charged particles and nodal charges is reduced, resulting in the suppression of arc discharge.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反应性溅射法和层叠体膜的制造方法
本专利技术涉及在真空室内导入含有反应性气体的工艺气体进行成膜的反应性溅射法，特别涉及在溅射靶的非腐蚀区域沉积的颗粒沉积物、在溅射靶的腐蚀区域产生的结瘤不易从溅射靶脱离，又能抑制因上述颗粒沉积物、结瘤的带电引起的电弧放电等的反应性溅射法，和采用了该反应性溅射法的层叠体膜的制造方法。
技术介绍
近年来，在便携式电话、便携式电子文件设备、自动售货机、汽车导航等的平板显示器(FPD)表面设置的“触摸屏”开始普及。上述“触摸屏”大致分为电阻型和静电容量型。构成“电阻型的触摸屏”的主要部分有：由树脂膜构成的透明基板、设置在该基板上的X坐标(或Y坐标)检测电极片与Y坐标(或X坐标)检测电极片、和设置在这些片之间的绝缘体隔离物。进而，其机制是，虽然上述X坐标检测电极片与Y坐标检测电极片在空间上被隔离，但是若用笔等按压时，两坐标检测电极片则会电接触而以此判断笔的接触位置(X坐标、Y坐标)，每次只要使笔移动都能识别其坐标，从而最终能进行文字输入。另一方面，“静电容量型的触摸屏”具有的结构是：X坐标(或Y坐标)检测电极片与Y坐标(或X坐标)检测电极片隔着绝缘片而层叠，在其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应性溅射法，该反应性溅射法使用在真空室内配置了磁控溅射阴极的溅射装置，并且在真空室内导入含有反应性气体的工艺气体进行成膜，所述磁控溅射阴极安装有溅射靶，所述反应性溅射法的特征在于，所述反应性气体由氧气和氮气中的至少一者构成，并且，反应性气体中含有水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.13 JP 2015-0980541.一种反应性溅射法，该反应性溅射法使用在真空室内配置了磁控溅射阴极的溅射装置，并且在真空室内导入含有反应性气体的工艺气体进行成膜，所述磁控溅射阴极安装有溅射靶，所述反应性溅射法的特征在于，所述反应性气体由氧气和氮气中的至少一者构成，并且，反应性气体中含有水。2.根据权利要求1所述的反应性溅射法，其特征在于，在所述真空室内导入的工艺气体中，水的配合比例是0.25体积％以上且12.5体积％以下。3.根据权利要求1所述的反应性溅射法，其特征在于，所述溅射靶由Ni单质或Ni系合金构成，该Ni系合金添加有从Ti、Al、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Cu中选出的一种以上的元素。4.一种层叠体膜的制造方法，该层叠体膜由透明基板和在该透明基板的至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边宽人，
申请(专利权)人：住友金属矿山株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP