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本发明的课题是提供一种反应性溅射法，其使非腐蚀区域沉积的颗粒沉积物、腐蚀区域产生的结瘤不易从溅射靶脱离，又能抑制电弧放电等。本发明的技术方案是：该反应性溅射法使用在真空室(10)内具备磁控溅射阴极(17)、(18)、(19)、(20)的溅射...
该专利属于住友金属矿山株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友金属矿山株式会社授权不得商用。

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