圆柱形溅射靶材的焙烧装置以及焙烧方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种制造长尺寸的圆柱形溅射靶的焙烧装置，该长尺寸的圆柱形溅射靶在利用溅射法制作在液晶显示元件和/或太阳能电池等中使用的透明导电膜的情况下使用。该焙烧装置的特征在于，设置了如下的构件：固定炉床，该固定炉床以直立的状态将长尺寸的圆柱形溅射靶材的被焙烧体载置，焙烧炉主体，该焙烧炉主体将固定炉床配置于中心并且在炉内壁面设置了多个段的加热器和氧流入口，以及将焙烧炉主体载置于行驶台车上，可使得焙烧炉主体在焙烧位置与等待位置之间沿轨道行驶，另外在焙烧炉的下部与固定炉床之间将炉密封进行开闭的机构。

Roasting device and roasting method for cylindrical sputtering target

The invention provides a roasting device for making cylindrical sputtering targets with long size. The long cylindrical sputtering target is used for making transparent conductive films in liquid crystal display elements and / or solar cells by sputtering method. In the roasting device, set the following components: fixed bed, the fixed bed in a vertical state of the cylindrical sputtering target length by placing the main body of roasting, baking furnace, the furnace body of the fixed bed configuration in the center and on the furnace wall surface is provided with a plurality of segments and heater the oxygen flow will be the main entrance, and the roasting furnace is placed on a traveling trolley, can make the body running along the track between the roaster roasting position and a waiting position, also between the lower furnace hearth furnace and fixed seal opening and closing mechanism.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】圆柱形溅射靶材的焙烧装置以及焙烧方法
本专利技术涉及一种圆柱形溅射靶材的焙烧装置，具体涉及一种氧化物被焙烧体的焙烧装置，其用于制造在利用溅射法制作在液晶显示元件和/或太阳能电池等中使用的透明导电膜的情况下所使用的长尺寸的圆柱形溅射靶。
技术介绍
透明导电膜具有高的导电性以及在可见光区域中的高的透射率，因而应用于液晶显示元件、太阳能电池等的各种受光元件电极等中。作为透明导电膜，由于可获得高透射率且低电阻的膜，因而正在广泛应用氧化锡-氧化铟系膜(ITO膜)、氧化铝-氧化锌系膜(AZO膜)、氧化铟-氧化镓-氧化锌系膜(IGZO膜)。作为由这样的氧化物膜形成的透明导电膜的制造方法，使用溅射法。在溅射法中，一般是通过导入约10Pa以下的100％氩气，将成为膜原料的溅射靶设置为阴极，在与靶平行地设置了基板的状态下，产生氩等离子体，在氩阳离子冲撞于靶时，弹飞的靶成分的粒子堆积于基板上从而形成膜。目前，在溅射法中，为了提高成膜率，采用了一边对阴极施加磁场一边进行溅射的磁控溅射。在该溅射靶中使用了平板状溅射靶的情况下，在磁控溅射法中，由于利用磁场使等离子体集中于平板状溅射靶材的特定部位而发生侵蚀，因而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其为长度1.5～2m的长尺寸的圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其特征在于包括：固定炉床，该固定炉床将该长尺寸的圆柱形溅射靶材的被焙烧体以直立的状态载置；焙烧炉主体，该焙烧炉主体按照内包所述固定炉床的方式配置，且在炉内壁面设置了多个加热器；焙烧炉行驶装置，该焙烧炉行驶装置将所述焙烧炉主体载置于行驶台车上，能使得所述焙烧炉主体从内包所述固定炉床的位置离开而沿轨道行驶向等待的位置，在所述焙烧炉主体的侧部一面设置炉壳门，该炉壳门能按照在内包所述固定炉床时不干涉的方式开闭，并且，在所述焙烧炉的炉壳下部与所述固定炉床的周边部分之间设置防止漏气的密封部，设置了在焙烧时通过使所述焙烧炉...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其为长度1.5～2m的长尺寸的圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其特征在于包括：固定炉床，该固定炉床将该长尺寸的圆柱形溅射靶材的被焙烧体以直立的状态载置；焙烧炉主体，该焙烧炉主体按照内包所述固定炉床的方式配置，且在炉内壁面设置了多个加热器；焙烧炉行驶装置，该焙烧炉行驶装置将所述焙烧炉主体载置于行驶台车上，能使得所述焙烧炉主体从内包所述固定炉床的位置离开而沿轨道行驶向等待的位置，在所述焙烧炉主体的侧部一面设置炉壳门，该炉壳门能按照在内包所述固定炉床时不干涉的方式开闭，并且，在所述焙烧炉的炉壳下部与所述固定炉床的周边部分之间设置防止漏气的密封部，设置了在焙烧时通过使所述焙烧炉主体下降移动从而将密封部进行压下密接而密封的炉密封升降装置。2.根据权利要求1所述的圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其特征在于，所述炉密封升降装置按照如下的方式构成：在所述焙烧炉体的下部具有支撑炉的4个支撑梁以及与其连接的齿轮传动压下装置，从1台升降用齿轮传动电动机经由驱动分配装置而驱动该各齿轮传动压下装置。3.根据权利要求1或2所述的圆柱形溅射靶材的焙烧装置，其特征在于，关于设置在所述焙烧炉内壁面的加热器，在各炉内壁的高度方向上划分为三段以上而配设。...

【专利技术属性】
技术研发人员：久保田善明，森冈稔裕，
申请(专利权)人：株式会社广筑，
类型：发明
国别省市：日本,JP