光学薄膜制造方法、光学膜片制造方法技术

本发明专利技术形成具有期望的光学特性的光学薄膜。在使真空气氛中含有氧气，加热金属材料以使得放出蒸气，在被处理对象基材10上形成光学薄膜11时，根据预先求得的光学薄膜11的光学特性和氧气的流量、氧的分压值的关系，求用于获得期望的光学特性的流量值或分压值和膜厚值，按照求得的流量值或分压值来形成求得的膜厚值的光学薄膜11。如果在利用等离子体处理被蒸镀基材10的表面之后，形成光学薄膜11，那么能够在不使阻值降低的情况下，形成光密度的值大的光学薄膜11。

Manufacturing method of optical thin film and manufacturing method of optical diaphragm

The invention forms an optical film with desired optical properties. In the vacuum atmosphere containing oxygen, heating the metal material to make the release of steam in the object 10 is formed on the treated substrate 11 optical thin film, optical film obtained in advance according to the relationship between the optical properties and the oxygen flow rate and oxygen partial pressure of 11 of the value of the demand for the optical properties of the desired flow value or pressure and film thickness value, according to the determined value or the value of pressure flow to form the optical film thickness values 11. If the surface of the substrate 10 is formed by plasma treatment, then the optical thin film 11 is formed, so that the optical thin film 11 with large optical density can be formed without decreasing the resistance.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学薄膜制造方法、光学膜片制造方法
本专利技术涉及制造光学薄膜的制造方法、以及制造光学膜片的制造方法，特别涉及制造具有期望的光学特性的光学薄膜、以及具有该光学薄膜的光学膜片的制造方法。
技术介绍
照射住宅的太阳光穿过窗玻璃照射住宅的内部，一般认为太阳光温暖，而且明亮，因此是合乎需要的。但是，在太阳光中包含紫外线、红外线，近年来，其害处得到关注，人们寻求一种在太阳光穿过窗玻璃时，去除特定波长的光的技术。例如，虽然存在将在柔软的树脂膜片上，具有使得想去除的波长的光减少的光学薄膜的光学膜片粘贴在窗玻璃上的对策，但是现有技术的光学膜片对可见光也具有较大的影响，存在透过了光学膜片的太阳光变色的不便。另外，如果想要获得具有期望的光学特性的光学膜片，那么光学薄膜的膜厚值较大地变化。如果光学薄膜的阻值变小，那么阻碍并且吸收作为波长较长的光的电波的透射，因而例如对毫米波段的无线通信来说是不便的。作为在基材膜片上形成光学薄膜的技术，例如列举下列专利文献1、2。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001－115260号公报；专利文献2：日本特开2001－123269号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为了解决上述现有技术的不便而创造的，其课题在于提供能够获得具有期望的膜厚值和光学特性的光学膜片的技术。用于解决问题的方案为了解决上述问题，本专利技术为一种光学薄膜制造方法，其具有光学薄膜形成工序，光学薄膜形成工序对形成在真空槽内的真空气氛，以设定的设定流量值供给氧气，加热配置在蒸发源的金属材料以使其蒸发，使产生的所述金属材料的蒸气放出到所述真空气氛中，从所述蒸气，形成光学薄膜，所述光学薄膜为含有所述金属材料的氧化物的所述金属材料的薄膜，该光学薄膜制造方法具有：测定对象形成工序，将不同值的多个试验流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜形成工序形成多个所述光学薄膜，以及测定工序，测定通过所述测定对象形成工序形成的各所述光学薄膜的包含光密度或透射率中的至少一者的光学特性，根据所述光学特性设定所述设定流量值。另外，本专利技术是一种光学薄膜制造方法，具有：解析工序，根据通过所述测定对象形成工序形成的多个所述光学薄膜的所述试验流量值和膜厚值、以及测定的所述光学特性，求所述试验流量值和所述膜厚值以及所述光学特性之间的对应关系，以及计算工序，将在所形成的所述光学薄膜的、通过所述测定工序测定的所述光学特性中包含的所述光密度和色度与所述对应关系对照，至少求所形成的所述光学薄膜的计算流量值，将通过所述计算工序求得的所述计算流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜工序形成所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学薄膜制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度以及膜厚值与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值。另外，本专利技术是一种光学薄膜制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值和所述膜厚值，在所述光学薄膜形成工序中形成通过所述计算工序求得的所述膜厚值的所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学薄膜制造方法，在所述光学薄膜形成工序中，通过将所述计算流量值设定为所述设定流量值，使所述真空槽内的所述氧气的分压为预先设定的值。另外，本专利技术是一种在被蒸镀基材的表面形成所述光学薄膜的光学薄膜制造方法，具有使所述被蒸镀基材与等离子体接触，以进行所述被蒸镀基材的表面处理的表面处理工序，在所述光学薄膜形成工序中，在进行了所述表面处理的所述被蒸镀基材的表面形成所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学膜片制造方法，其具有光学薄膜形成工序，该光学薄膜形成工序对形成在真空槽内的真空气氛，以设定的设定流量值供给氧气，加热由金属In或金属Sn中的任一者形成、配置在蒸发源的金属材料以使其蒸发，使产生的所述金属材料的蒸气放出到所述真空气氛中，从所述蒸气，形成所述光学薄膜，所述光学薄膜由所述金属材料的氧化物形成，该光学膜片制造方法具有：测定对象形成工序，将不同值的多个试验流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜形成工序形成多个所述光学薄膜，以及测定工序，测定通过所述测定对象形成工序形成的各所述光学薄膜的包含光密度或透射率中的至少一者的光学特性，在膜片状的被蒸镀基材上形成所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学膜片制造方法，具有：解析工序，根据通过所述测定对象形成工序形成的多个所述光学薄膜的所述试验流量值和膜厚值、以及测定的所述光学特性，求所述试验流量值和所述膜厚值以及所述光学特性之间的对应关系，以及计算工序，将在所形成的所述光学薄膜的、通过所述测定工序测定的所述光学特性中包含的所述光密度和色度与所述对应关系对照，至少求所形成的所述光学薄膜的计算流量值，将通过所述计算工序求得的所述计算流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜形成工序形成所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学膜片制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度以及膜厚值与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值。另外，本专利技术是一种光学膜片制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值和所述膜厚值，在所述光学薄膜形成工序中形成通过所述计算工序求得的所述膜厚值的所述光学薄膜。另外，本专利技术是一种光学膜片制造方法，在所述光学薄膜形成工序中，通过将所述计算流量值设定为所述设定流量值，使所述真空槽内的所述氧气的分压为预先设定的值。另外，本专利技术具有使所述被蒸镀基材与等离子体接触，以进行所述被蒸镀基材的表面处理的表面处理工序，在所述光学薄膜形成工序中，在进行了所述表面处理的所述被蒸镀基材的表面形成所述光学薄膜。在本专利技术中，也包含如下光学薄膜制造方法，其具有光学薄膜形成工序，所述光学薄膜形成工序对形成在真空槽内的真空气氛，以设定的设定分压值使其含有氧气，加热配置在蒸发源的金属材料以使其蒸发，使产生的所述金属材料的蒸气放出到所述真空气氛中，从所述蒸气，形成光学薄膜，所述光学薄膜为含有所述金属材料的氧化物的所述金属材料的薄膜，该光学薄膜制造方法具有：测定对象形成工序，将不同值的多个试验分压值设定为所述设定分压值，通过所述光学薄膜形成工序形成多个所述光学薄膜，以及测定工序，测定通过所述测定对象形成工序形成的各所述光学薄膜的包含光密度或透射率中的至少一者的光学特性，根据所述光学特性设定所述设定分压值。另外，在本专利技术中，还包含如下光学膜片制造方法，具有：解析工序，根据通过所述测定对象形成工序形成的多个所述光学薄膜的所述试验分压值和膜厚值、以及测定的所述光学特性，求所述试验分压值和所述膜厚值以及所述光学特性之间的对应关系，以及计算工序，将在所形成的所述光学薄膜的、通过所述测定工序测定的所述光学特性中包含的所述光密度和色度与所述对应关系对照，至少求所形成的所述光学薄膜的计算分压值，将通过所述计算工序求得的所述计算分压值在所述光学薄膜形成工序中设定为所述设定分压值，在所述光学薄膜形成工序中，形成通过所述计算工序求得的膜厚值的所述光学薄膜。另外，在本专利技术中也包含如下光学薄膜制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜制造方法，其具有光学薄膜形成工序，所述光学薄膜形成工序对形成在真空槽内的真空气氛，以设定的设定流量值供给氧气，加热配置在蒸发源的金属材料以使其蒸发，使产生的所述金属材料的蒸气放出到所述真空气氛中，从所述蒸气，形成光学薄膜，所述光学薄膜为含有所述金属材料的氧化物的所述金属材料的薄膜，该光学薄膜制造方法具有：测定对象形成工序，将不同值的多个试验流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜形成工序形成多个所述光学薄膜，以及测定工序，测定通过所述测定对象形成工序形成的各所述光学薄膜的包含光密度或透射率中的至少一者的光学特性，根据所述光学特性设定所述设定流量值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.27 JP 2015-1073231.一种光学薄膜制造方法，其具有光学薄膜形成工序，所述光学薄膜形成工序对形成在真空槽内的真空气氛，以设定的设定流量值供给氧气，加热配置在蒸发源的金属材料以使其蒸发，使产生的所述金属材料的蒸气放出到所述真空气氛中，从所述蒸气，形成光学薄膜，所述光学薄膜为含有所述金属材料的氧化物的所述金属材料的薄膜，该光学薄膜制造方法具有：测定对象形成工序，将不同值的多个试验流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜形成工序形成多个所述光学薄膜，以及测定工序，测定通过所述测定对象形成工序形成的各所述光学薄膜的包含光密度或透射率中的至少一者的光学特性，根据所述光学特性设定所述设定流量值。2.根据权利要求1所述的光学薄膜制造方法，具有：解析工序，根据通过所述测定对象形成工序形成的多个所述光学薄膜的所述试验流量值和膜厚值、以及测定的所述光学特性，求所述试验流量值和所述膜厚值以及所述光学特性之间的对应关系，以及计算工序，将在所形成的所述光学薄膜的、通过所述测定工序测定的所述光学特性中包含的所述光密度和色度与所述对应关系对照，至少求所形成的所述光学薄膜的计算流量值，将通过所述计算工序求得的所述计算流量值设定为所述设定流量值，通过所述光学薄膜工序形成所述光学薄膜。3.根据权利要求2所述的光学薄膜制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度以及膜厚值与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值。4.根据权利要求2所述的光学薄膜制造方法，在所述计算工序中，将所形成的所述光学薄膜的光密度和色度与所述对应关系对照，求所形成的所述光学薄膜的所述计算流量值和所述膜厚值，在所述光学薄膜形成工序中形成通过所述计算工序求得的所述膜厚值的所述光学薄膜。5.根据权利要求1所述的光学薄膜制造方法，在所述光学薄膜形成工序中，通过将所述计算流量值设定为所述设定流量值，使所述真空槽内的所述氧气的分压为预先设定的值。6.一种光学薄膜制造方法，是在被蒸镀基材的表面形成所述光学薄膜的权利要求1所述的光学薄膜制造方法，具有使所述被蒸镀基材与等离子体接触，以进行所述被蒸镀基材的表面处理的表面处理工序，在所述光学薄膜形成工序中，在进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：东出公辅，广野贵启，仓内利春，佐藤昌敏，矶谷玄，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本,JP