The invention provides an optical diaphragm. The optical diaphragm comprises a base film, a rough layer and an antireflective layer. The rough layer is arranged on the base film and has a rough surface; the anti reflection layer is arranged on the rough surface. The cross section of the rough surface in the preset direction has a cross section curve. Reference baselines can be derived from sectional curves. Relative to the reference baseline, a portion of the section curve will be below the reference baseline and form a valley, in which the ratio of the maximum depth to the maximum width of some valleys shall not be greater than 0.26.
【技术实现步骤摘要】
抗反射光学膜片
本专利技术关于一种光学膜片;具体而言,本专利技术关于一种使用于显示模块的抗反射光学膜片。
技术介绍
平面及曲面显示设备已被广泛地应用于各式的电子装置之中,例如移动电话、个人穿戴装置、电视、交通工具用主机、个人计算机、数字相机、掌上型电玩等。然而为了提高用户的视觉感受,业者仍在不断地就显示设备的光学表现进行改良。例如部分显示设备的显示面会因在使用时因外在环境光的关系而产生眩光。在大多数的使用状况下,眩光往往造成部分用户在视觉上的不舒服,并影响显示影像的光学表现。为了解决此一问题,部分习知的显示设备会在显示面上加设有粗糙表面的高雾度层,以降低眩光产生的情形。然为当雾度较高时,使用者容易因为高雾度层的设置而感觉显示面上有白雾的不清晰感。为了降低上述的白雾不清晰感,部分现有的显示设备会在上述高雾度层的外表面再镀上抗反射层。然而抗反射层往往会因其厚度不均匀,而使得高雾度层的表面粗糙度受到影响,进而影响整体的光学表现。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光学膜片,可提高设置于粗糙层上抗反射层的分布均匀度。本专利技术的另一目的在于提供一种光学膜片,可于粗糙层上布设抗反射层后仍维持有较接近的粗糙度。本专利技术的另一目的在于提供一种光学膜片,可减轻因于粗糙层上布设抗反射层后产生的粗糙度差异而导至反射率提高的现象。本专利技术的另一目的在于提供一种显示模块,可兼顾减低眩光及反射率的光学效果。为实现上述目的,本专利技术提供一种光学膜片,包含:一基底膜,具有一承载面;一粗糙层,设置于该承载面上;其中,该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背;该粗糙面于一预设方向上的截 ...
【技术保护点】
一种光学膜片,其特征在于,包含:一基底膜,具有一承载面;一粗糙层,设置于该承载面上;其中,该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背;该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一截面曲线;由该截面曲线得出一参考基线,该截面曲线低于该参考基线的部分形成多数谷部,至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26;以及一抗反射层,设置于该粗糙面上;其中,该参考基线系为该截面曲线的75%高程线。
【技术特征摘要】
2017.03.31 TW 1061112461.一种光学膜片,其特征在于,包含:一基底膜,具有一承载面;一粗糙层,设置于该承载面上;其中,该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背;该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一截面曲线;由该截面曲线得出一参考基线,该截面曲线低于该参考基线的部分形成多数谷部,至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26;以及一抗反射层,设置于该粗糙面上;其中,该参考基线系为该截面曲线的75%高程线。2.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该些谷部分别具有一谷底部位,至少部分该谷底部位的曲率半径不小于1.4μm。3.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,参考基线与该截面曲线的平均波峰高程距离小于1μm。4.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该粗糙面系于75%高程处定义一参考基准面;该粗糙面上低于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第一投影面积,该粗糙面上高于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第二投影面积,该第一投影面积与该第二投影面积的比值介于16%至78.5%之间。5.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该截面曲线高于该参考基线的部分形成多数峰部,该些谷部中相对该粗糙面呈...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈建圻,江宇涵,林上强,廖烝贤,高雅甄,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾,71
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