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一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备、应用以及再生方法技术

技术编号:17043921 阅读:38 留言:0更新日期:2018-01-17 16:36
本发明专利技术针对现有技术中染料废水吸附剂或存在二次污染、或处理成本高、或去除率低等问题,提供一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备、应用以及再生方法,通过CTAB、THEED和TEOS,反应并经后处理得到,用于多种有机阳离子燃料的吸附处理;单分散介孔二氧化硅吸附剂具有吸附速度快,去除率高,且操作简单等优点。

Preparation, application and regeneration of a monodisperse mesoporous silica adsorbent

This invention is directed to dye in the prior art wastewater or the two pollution problems, or high cost, or low removal rate, provides a monodisperse mesoporous silica adsorbent preparation, application and regeneration method, through CTAB, THEED and TEOS, and the reaction by postprocessing, for a variety of adsorption treatment cationic organic fuel; monodisperse mesoporous silica adsorbent with high adsorption speed, high removal rate, and has simple operation etc..

【技术实现步骤摘要】
一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备、应用以及再生方法
本专利技术属于染料废水处理的
,具体涉及一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备、吸附处理以及再生方法。
技术介绍
如今,超过10000种的合成染料被用在各个领域,例如纺织,造纸,印刷,橡胶,塑料,化妆品,皮革鞣制,食品加工行业等。众所周知,染料在使用过程中也会产生大量的染料废水,当将这些染料废水排放到水体中,将会导致对自然水体的严重危害,同时因为许多染料是致癌,致突变和致畸的化合物,所以含染料的染料废水不仅会污染地表水和地下水,而且会损害人体健康,破坏生态系统。由于其高的热稳定性和化学稳定性,许多染料在光,热和氧化剂性质上都能抵抗降解。因此,寻找一种合适的方法从染料废水中除去有机染料已成为全球重要的问题之一。目前为止,已经开发了许多方法来处理染料废水中的染料污染物,如吸附、絮凝、凝结、电解、生物降解和光催化降解等。在这些处理方法中,吸附因其高效率,经济可行性,良好的生物相容性和操作简单性的优点,被认为是一个最有效的方法。近年来,各种材料(例如活性炭、有序介孔碳、碳纳米管、石墨烯纳米复合材料、金属材料、金属有机骨架和有机硅纳米粒子本文档来自技高网...
一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备、应用以及再生方法

【技术保护点】
一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将CTAB 和THEED加至水中,混合均匀后在40~60 ℃下反应20~40 min;2)在步骤1)所得均匀溶液中加入TEOS,搅拌反应2~3 h,洗涤后,于40~60 ℃下真空干燥;3)将步骤2)真空干燥后的产物分散于含有硝酸铵的乙醇溶液中回流处理;4)将步骤3)回流后的溶液离心取固体产物,将所得固体产物洗涤至中性后,于40~60 ℃下真空干燥即得单分散介孔二氧化硅吸附剂;其中,CTAB、THEED和TEOS用量的摩尔比为0.30~0.50:0.15~0.20:6.93。

【技术特征摘要】
1.一种单分散介孔二氧化硅吸附剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将CTAB和THEED加至水中,混合均匀后在40~60℃下反应20~40min;2)在步骤1)所得均匀溶液中加入TEOS,搅拌反应2~3h,洗涤后,于40~60℃下真空干燥;3)将步骤2)真空干燥后的产物分散于含有硝酸铵的乙醇溶液中回流处理;4)将步骤3)回流后的溶液离心取固体产物,将所得固体产物洗涤至中性后,于40~60℃下真空干燥即得单分散介孔二氧化硅吸附剂;其中,CTAB、THEED和TEOS用量的摩尔比为0.30~0.50:0.15~0.20:6.93。2.一种由权利要求1所述方法制备得到的单分散介孔二氧化硅吸附剂。3.权利要求2所述单分散介孔二氧化硅在同时吸附去除染料废水中多种有...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢明华秦培鸽王友梅田淑芳朱金花
申请(专利权)人:河南大学
类型:发明
国别省市:河南,41

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