一种自洁型声屏障制造技术

技术编号:17027000 阅读:49 留言:0更新日期:2018-01-13 16:09
本发明专利技术属于噪音治理技术领域,尤其涉及一种自洁型声屏障。其包括至少两根平行设置的立柱,其中任意相邻两根立柱之间设置有至少一个声屏板块,所述声屏板块两侧边分别固定在所述立柱上,其特征在于:所述立柱和/或所述声屏板块的表面涂有纳米二氧化钛光触媒涂层,正常的清水或雨水冲洗即可保持声屏障的清洁,能够起到自洁的效果,同时也能在一定程度上分解汽车所排放的有机物,兼具环保功能。

【技术实现步骤摘要】
一种自洁型声屏障
本专利技术属于噪音治理
,尤其涉及一种自洁型声屏障。
技术介绍
声屏障的用途非常广泛,主要用于铁路、高速公路和高架复合道路等噪音源的隔声降噪场所。我们时常会发现,在使用一段时间后,声屏障上会附着一些较为顽固的有机污染物,这些有机污染物大部分来自汽车尾气排放、烟尘和空气中的其他污染性颗粒物。因此通常,需要定期对声屏障进行清洁,传统的清洁方法是采用化学制剂进行擦拭,不仅耗费大量人力物力,而且污染物去除效果不佳。另外,现有的声屏障要么结构简单隔声效果差,要么结构复杂,组装安装困难。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题针对现有存在的技术问题,研发一种既能简单有效去除声屏障表面的有机污染物,又结构简单,隔声效果好的声屏障,成为人们亟待解决的问题。(二)技术方案为了达到上述目的,本专利技术采用的主要技术方案包括:一种自洁型声屏障,包括至少两根平行设置的立柱,其中任意相邻两根立柱之间设置有至少一个声屏板块,所述声屏板块两侧边分别固定在所述立柱上;立柱和/或所述声屏板块的表面涂有纳米二氧化钛光触媒涂层。纳米二氧化钛光触媒涂层自下而上包括含硅中间层和纳米TiO2自洁层。含硅中间层本文档来自技高网...
一种自洁型声屏障

【技术保护点】
一种自洁型声屏障,包括至少两根平行设置的立柱(1),其中任意相邻两根立柱(1)之间设置有至少一个声屏板块(2,3),所述声屏板块(2,3)两侧边分别固定在所述立柱(1)上,其特征在于:所述立柱(1)和/或所述声屏板块(2,3)的表面涂有纳米二氧化钛光触媒涂层。

【技术特征摘要】
1.一种自洁型声屏障,包括至少两根平行设置的立柱(1),其中任意相邻两根立柱(1)之间设置有至少一个声屏板块(2,3),所述声屏板块(2,3)两侧边分别固定在所述立柱(1)上,其特征在于:所述立柱(1)和/或所述声屏板块(2,3)的表面涂有纳米二氧化钛光触媒涂层。2.如权利要求1所述的自洁型声屏障,其特征在于:所述纳米二氧化钛光触媒涂层自下而上包括含硅中间层(8)和纳米TiO2自洁层(7)。3.如权利要求2所述的自洁型声屏障,其特征在于:所述含硅中间层(8)借助于静电喷涂工艺喷涂聚氨酯粉和纳米二氧化硅粉形成,所述纳米TiO2自洁层(7)通过将纳米TiO2喷涂在含硅中间层(8)表面形成。4.如权利要求3所述的自洁型声屏障,其特征在于:所述静电喷涂工艺在180℃-200℃的高温下实现。5.如权利要求3所述的自洁型声屏障,其特征在于:所述的纳米TiO2自洁层(7)厚度为40-70微米,所述的纳米TiO2颗粒大小为20-50纳米。6.如权利要求1所述的自洁型声屏障,其特征在于:所述声屏板块(2,3)包括吸声屏(2)和/或...

【专利技术属性】
技术研发人员:单泰雷
申请(专利权)人:广州市泰宇科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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