The utility model belongs to the technical field of LED materials, and discloses a non polar InGaN/GaN multi quantum well nanocolumn grown on a LiGaO2 substrate. Non polar InGaN/GaN multiple quantum wells of the nanorods grown on LiGaO2 substrates including LiGaO2 substrate grown on LiGaO2 substrates of nonpolar GaN nanorod template layer growth in non polar polar InGaN/GaN nano GaN nano column template layer pillar array multi quantum well nanorods. The non polar GaN nanoscale template layer includes the non-polar GaN buffer layer and the non-polar GaN nanoscale array. The non-polar InGaN/GaN multi quantum well nano column grown on the LiGaO2 substrate can improve the photoelectric performance of the material, enhance the radiation recombination efficiency of the carriers, and greatly improve the luminous efficiency of nitride devices.
【技术实现步骤摘要】
生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱
本技术涉及非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱,特别涉及生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱。
技术介绍
半导体发光二极管(LED)是高效、节能、环保的新一代光源产品。作为极具发展前景的新兴产业,近年来,LED产业迅速成为国际科技竞争的新焦点,也成为我国战略性新兴产业发展的重点。GaN及其相关III族氮化物由于其独特的物理化学性能,使其成为了制造高效蓝白光LED器件最为理想的材料。目前,GaN基LED主要采用异质衬底进行外延,存在晶格失配及热失配等问题,造成GaN的晶体缺陷多、质量差,这在一定程度上削弱了LED器件的性能。针对这些问题,纳米柱LED体现出了巨大的潜力。第一,异质外延的GaN纳米柱的晶体质量优于异质外延GaN薄膜。纳米柱外延具有高的面容比(面积/体积),能够显著降低穿透到纳米柱上方的位错密度。因此采用异质外延的GaN纳米柱的位错密度明显低于薄膜中的位错密度。第二,纳米柱LED可通过控制GaN纳米柱的尺寸,改变GaN纳米柱LED的发光波长,制备单芯片多色发光的GaN纳米柱LED。这一特性为实现低成本白光LED的制备开辟了新的道路。第三,GaN纳米柱LED可大幅度提高LED的出光效率。通过优化GaN纳米柱距离,可实现光的耦合出射,提高LED的出光效率。目前,GaN纳米柱LED大多基于其极性面构建而成,对于非极性面的GaN纳米柱LED鲜有研究。然而,极性面GaN存在的量子束缚斯塔克效应(QCSE)会造成LED能带弯曲、倾斜,从而引起电子与空穴的分离,严重 ...
【技术保护点】
生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱,其特征在于:包括LiGaO2衬底,生长在LiGaO2衬底上的非极性GaN纳米柱模板层,生长在非极性GaN纳米柱模板层中纳米柱阵列上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱。
【技术特征摘要】
1.生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱,其特征在于:包括LiGaO2衬底,生长在LiGaO2衬底上的非极性GaN纳米柱模板层,生长在非极性GaN纳米柱模板层中纳米柱阵列上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱。2.根据权利要求1所述生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱,其特征在于:所述非极性GaN纳米柱模板层包括非极性GaN缓冲层和非极性GaN纳米柱阵列,所述非极性GaN纳米柱阵列设置在非极性GaN缓冲层上,非极性GaN缓冲层生长在LiGaO2衬底上。3.根据权利要求1所述生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱,其特征在于:所述生长在LiGaO2衬底上的非极性InGaN/GaN多量子阱纳米柱还包括保护层,所述保护层沉积在未被非极性GaN纳米柱阵列覆盖的非极性GaN缓冲层上,或者沉积在未被非极性GaN纳米柱阵列覆盖的非极性GaN缓冲层和非极性GaN纳米柱阵列的侧壁上。4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:李国强,王海燕,杨为家,
申请(专利权)人:华南理工大学,
类型:新型
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。