一种真空溅射镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭示了一种真空溅射镀膜装置，包括外壳，所述外壳内形成有真空腔体，所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极；所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊，所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊；还包括平面电磁板，所述平面电磁板设置于所述主辊和所述收卷辊之间，以加热金属镀层。本发明专利技术通过平面电磁板产生的高频交变磁场使非结晶状态的金属镀层内部产生涡流发热，进而促使金属镀层结晶。由于是金属镀层自身发热且金属镀层厚度较薄，所带热量不多，可以避免塑料薄膜过热变形，同时也可以使金属镀层完全结晶。

A vacuum sputtering coating device

【技术实现步骤摘要】
一种真空溅射镀膜装置
本专利技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种真空溅射镀膜装置。
技术介绍
真空溅射镀膜是现有的镀膜工艺，采用真空溅射的方式使靶材上分离的原子或分子附着在基材上形成镀层。当制备的镀膜产品以塑料薄膜为基材，金属为靶材时，通过真空溅射附着在塑料薄膜上的金属镀层为非结晶状态。为使金属镀层结晶，现有技术中采用红外加热器、电阻加热器等加热装置对镀膜产品进行加热。上述加热装置热转换效率低，且在加热金属镀层的同时也会加热塑料薄膜，容易导致塑料薄膜过热变形。为防止塑料薄膜过热变形就只能调低加热温度，但是这样又容易导致金属镀层结晶不完全。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种真空溅射镀膜装置。为实现上述专利技术目的，本专利技术采用如下技术方案：一种真空溅射镀膜装置，包括外壳，所述外壳内形成有真空腔体，所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极；所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊，所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊；还包括平面电磁板，所述平面电磁板设置于所述主辊和所述收卷辊之间，以加热金属镀层。进一步的，所述平面电磁板和与其相对的镀膜产品相互平行设置。更进一步的，所述第二导向辊和所述第三导向辊之间的镀膜产品水平设置，所述平面电磁板位于第二导向辊和所述第三导向辊之间且水平设置。相对于现有技术，本专利技术的技术效果在于：本专利技术通过平面电磁板产生的高频交变磁场使非结晶状态的的金属镀层内部产生涡流发热，进而促使金属镀层结晶。由于是金属镀层自身发热且金属镀层厚度较薄，所带热量不多，可以避免塑料薄膜过热变形，同时也可以使金属镀层完全结晶。附图说明图1是本专利技术实施方式中一种真空溅射镀膜装置的结构示意图。具体实施方式以下将结合附图所示的具体实施方式对本专利技术进行详细描述。但这些实施方式并不限制本专利技术，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本专利技术的保护范围内。以下提供本专利技术的一种实施方式：请参见图1，一种真空溅射镀膜装置，包括外壳1，所述外壳1内形成有真空腔体11，所述真空腔体11内设有放卷辊2和收卷辊3，所述放卷辊2和所述收卷辊3之间设有主辊4以及与所述主辊4相对设置的溅射阴极5；所述放卷辊2和所述主辊4之间设有第一导向辊61，所述主辊4和所述收卷辊3之间设有第二导向辊62和第三导向辊63；还包括平面电磁板7，所述平面电磁板7设置于所述主辊4和所述收卷辊3之间，以加热金属镀层。需要说明的是，成卷的塑料薄膜放置在放卷辊2上，金属靶材放置在溅射阴极5上。展开的塑料薄膜经过第一导向辊61导向到达主辊4和溅射阴极5之间进行真空溅射，主辊4中空且内部有冷却液，通过辊面接触冷却塑料薄膜，防止真空溅射过程中产生的高温使塑料薄膜变形，真空溅射后得到的镀膜产品8经过平面电磁板7加热，并通过第二导向辊62和第三导向辊63导向，最终到达收卷辊3收卷。进一步的，所述平面电磁板7和与其相对的镀膜产品8相互平行设置。更进一步的，所述第二导向辊62和所述第三导向辊63之间的镀膜产品8水平设置，所述平面电磁板7位于第二导向辊62和所述第三导向辊63之间且水平设置。选用外径相同的第二导向辊62和第三导向辊63，当第二导向辊62和第三导向辊63的高度相同，且镀膜产品8由第二导向辊62和第三导向辊63的同侧(上侧或下侧)通过时，第二导向辊62和第三导向辊63之间的镀膜产品8水平设置。相对于现有技术，本专利技术的技术效果在于：本专利技术通过平面电磁板7产生的高频交变磁场使非结晶状态的的金属镀层内部产生涡流发热，进而促使金属镀层结晶。由于是金属镀层自身发热且金属镀层厚度较薄，所带热量不多，可以避免塑料薄膜过热变形，同时也可以使金属镀层完全结晶。最后应说明的是：以上实施方式仅用以说明本专利技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施方式对本专利技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施方式所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本专利技术各实施方式技术方案的精神和范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空溅射镀膜装置，其特征在于，包括外壳，所述外壳内形成有真空腔体，所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极；所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊，所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊；还包括平面电磁板，所述平面电磁板设置于所述主辊和所述收卷辊之间，以加热金属镀层。

【技术特征摘要】
1.一种真空溅射镀膜装置，其特征在于，包括外壳，所述外壳内形成有真空腔体，所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极；所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊，所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊；还包括平面电磁板，所述平面电磁板设置于所述主...

【专利技术属性】
技术研发人员：王振东，何万能，
申请(专利权)人：苏州诺耀光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32