The invention provides a color film substrate and a preparation method, a display panel and a display device. The color film substrate comprises a substrate, the substrate including the interval between the pixel region and a pixel region, a pixel area is provided with a color film, septal area is provided with a black matrix, interval is also provided with an insulating layer on the black matrix layer side of the substrate and insulation, insulation layer on the substrate is the projection of complete coverage the black matrix, in order to prevent the capacitor is formed between the black matrix and array substrate. The color film substrate through an insulating layer, an insulating spacer can set is formed between the black matrix and the array substrate to prevent capacitor formed between the conductive film area corresponding to the black matrix and the array substrate resistance on the lower, thereby preventing the black matrix and the array substrate between the conductive film area corresponding to the accumulation of charge, thus avoiding the use of the color film substrate display products like residual or black and white cloud shows uneven electrical adverse in display, enhance the display effect of the product.
【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
,具体地,涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展,人们对于显示产品彩色画面品质的要求越来越高。彩色画面的品质与显示产品彩膜基板的品质息息相关。彩膜基板通常包括彩膜层和黑矩阵,彩膜基板与阵列基板对合后,黑矩阵对应阵列基板上的开关管及信号走线分布区域。目前的黑矩阵由于高阻技术尚不成熟,黑矩阵本身的电阻偏低,这使得黑矩阵容易与阵列基板上对应区域的导电膜层之间形成电容,从而导致黑矩阵与对应区域的导电膜层之间累积一定量的电荷,造成显示产品在显示时出现残像或黑白云显示不均匀等电学不良。因此,如何避免黑矩阵电阻偏低所导致的显示产品电学不良已成为目前亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该彩膜基板通过在黑矩阵的背对基底的一侧设置绝缘层,能够在黑矩阵与阵列基板之间形成绝缘隔设,以防止电阻较低的黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之间形成电容,从而防止黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之 ...
【技术保护点】
一种彩膜基板,包括基底,所述基底包括像素区域和所述像素区域之间的间隔区域,所述像素区域设置有彩膜层,所述间隔区域设置有黑矩阵,其特征在于,所述间隔区域还设置有绝缘层,所述绝缘层位于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧,且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵,以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,包括基底,所述基底包括像素区域和所述像素区域之间的间隔区域,所述像素区域设置有彩膜层,所述间隔区域设置有黑矩阵,其特征在于,所述间隔区域还设置有绝缘层,所述绝缘层位于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧,且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵,以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述绝缘层的阻抗在1013Ω*cm量级以上。3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述绝缘层采用与所述彩膜层相同的材料。4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述绝缘层与所述彩膜层的背对所述基底的一侧表面平齐。5.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-4任意一项所述的彩膜基板。6.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求5所述的显示面板。7.一种如权利要求1-4任意一项所述的彩膜基板的制备方法,包括:在基底...
【专利技术属性】
技术研发人员:万冀豫,姜晶晶,魏崇喜,冯贺,杨同华,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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