一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统技术方案

本发明专利技术公开了一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统。该涂胶系统包括：承台；基板，设置于承台上，基板的上表面涂布有未完全流平的有机层；遮光装置，悬设于基板上方，遮光装置设有遮光区域和透光区域；加热光源，悬设于遮光装置的上方，其所发出的光线透过遮光装置的透光区域，以对与透光区域对应设置的有机层进行加热，进而加快与透光区域对应设置有机层的流平速度。通过上述方式，本发明专利技术能够避免有机层边缘出现溢胶。

A coating method and a coating system using this method

The invention discloses a coating method and a coating system for the application of the method. Including the glue system: cap; cap is arranged on the substrate, coating on the upper surface of the substrate is not completely organic layer flow flat; shading device, suspended above a substrate, the shading device is provided with a shading region and a transmission region; heating source is suspended above the shading device, the light emitted through the light shading area in the device, heating of the organic layer corresponding to the transparent area set, thus speeding up the organic layer set with transparent area corresponding to the flow velocity. In this way, the invention can avoid the appearance of spilled glue on the edge of the organic layer.

【技术实现步骤摘要】
一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统
本专利技术涉及涂胶
，特别是涉及一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统。
技术介绍
目前，电子行业加工生产中经常需要使用涂胶的制程方式。在半导体、显示器、触摸屏等电子设备生产制程中都有涂胶的制程工艺。传统涂胶方式有roll、slit、spin、凸版印刷等。随着电子行业的不断发展，涂胶方式往低成本化发展，Inkjet涂胶方式以其具有可以按需打印的优点，同时采用Inkjet涂胶方式成本较低，还可直接成型，得到广泛应用。但是，Inkjet涂胶方式在实际生产制程中存在涂布后有机层流平时间过长，有机层边缘容易出现溢胶等问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术主要解决的技术问题是提供一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统，能够避免有机层边缘出现溢胶。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种涂胶系统，该系统包括：承台；基板，设置于承台上，基板的上表面涂布有未完全流平的有机层；遮光装置，悬设于基板上方，遮光装置设有遮光区域和透光区域；加热光源，悬设于遮光装置的上方，其所发出的光线透过遮光装置的透光区域，以对与透光区域对应设置的有机层进行加热，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶系统，其特征在于，所述系统包括：承台；基板，设置于所述承台上，所述基板的上表面涂布有未完全流平的有机层；遮光装置，悬设于所述基板上方，所述遮光装置设有遮光区域和透光区域；加热光源，悬设于所述遮光装置的上方，其所发出的光线透过所述遮光装置的透光区域，以对与所述透光区域对应设置的有机层进行加热，进而加快与所述透光区域对应设置有机层的流平速度。

【技术特征摘要】
1.一种涂胶系统，其特征在于，所述系统包括：承台；基板，设置于所述承台上，所述基板的上表面涂布有未完全流平的有机层；遮光装置，悬设于所述基板上方，所述遮光装置设有遮光区域和透光区域；加热光源，悬设于所述遮光装置的上方，其所发出的光线透过所述遮光装置的透光区域，以对与所述透光区域对应设置的有机层进行加热，进而加快与所述透光区域对应设置有机层的流平速度。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括位置采集器以及控制器，所述位置采集器连接所述控制器，所述基板上设有第一对位标记，所述遮光装置上设有第二对位标记，所述控制器控制所述位置采集器采集所述第一对位标记与所述第二对位标记的对位信息，并对所述对位信息进行处理。3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述承台设有驱动结构，所述驱动结构与所述控制器连接，所述控制器控制所述驱动结构带动所述承台移动，以使所述基板上的第一对位标记与所述遮光装置上的第二对位标记之间进行对位。4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述遮光装置包括遮光板，所述遮光板包括透明基板以及涂覆在所述透明基板上的遮光层图案，所述遮光层图案用以形成所述遮光装置的遮光区域和透光区域。5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述遮光装置还包括支撑框，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡丰豪，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42