并行式涂胶显影设备制造技术

本发明专利技术涉及涂胶显影设备，具体地说是一种并行式涂胶显影设备。包括隔板及依次连接的片盒站、涂胶工艺站、显影工艺站和接口站，其中隔板依次穿过涂胶工艺站、显影工艺站及接口站，将所述涂胶工艺站、显影工艺站及接口站均分成两部分，所述隔板的两侧分别为可独立完成光刻工艺的通道I和通道II，所述通道I和通道II的末端均与光刻机连接。本发明专利技术采用并行式结构，各通道间机器人及工艺单元无相互关联，由于设备左右两侧可以单独完成光刻工艺过程，当某一单元需要维护时，只需暂停一侧设备即可，另一侧设备仍可以正常运行。

Parallel gumming developing equipment

The invention relates to an adhesive coating developing device, in particular to a parallel glue spreading developing device. Including the diaphragm and the connected cassette station, coating station, station and station interface developing process, which passes through the partition coating station, developing process station and station interface, the coating station, station and station interface development process is divided into two parts, the two sides of the baffle respectively independently the lithography process channels I and II, at the end of the channels I and II are connected with the photoetching machine. The invention adopts the parallel structure, no correlation between each channel robot and process unit, because the equipment on both sides can complete the photolithography process alone, when a unit needs maintenance, only one side can be suspended on the other side of equipment, equipment can still operate normally.

【技术实现步骤摘要】
并行式涂胶显影设备
本专利技术涉及涂胶显影设备，具体地说是一种并行式涂胶显影设备。
技术介绍
目前，半导体晶片的光刻工艺制程是由光刻胶涂布机、光刻机、显影机分别完成对于晶片的光刻胶涂布、光刻、显影工艺。随着半导体晶片加工工艺水平的提升，半导体加工过程把涂胶显影设备与光刻机连接在一起来实现整条的光刻工艺过程。目前，市场上光刻机的价格高出与之相联机的涂胶显影设备的几倍之多，因此，该形式的涂胶显影设备必须要尽量匹配或高于光刻机的产能。然而，涂胶显影设备的产能是由单元工艺瓶颈时间与机器人传输瓶颈时间决定的。在特定的工艺时间下，我们可以通过增加单元数量来减少单元工艺瓶颈时间，而机器人传输瓶颈时间是由机器人的传输速度决定的。因此，该类型匀胶显影设备的产能受到机器人传输速度的制约。对于一种特定产能配置的涂胶显影设备，单元机器人所服务的工艺单元数越多，则对机器人传输速度的要求则越高。同时，尽量减少机台停机检修维护时间也会更地充分利用光刻机，实现产能最大化。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术的目的在于提供一种并行式涂胶显影设备。该设备具有单一机器人服务工艺单元数少，可不停机维护的特点。为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种并行式涂胶显影设备，包括隔板及依次连接的片盒站、涂胶工艺站、显影工艺站和接口站，其中隔板依次穿过涂胶工艺站、显影工艺站及接口站，将所述涂胶工艺站、显影工艺站及接口站均分成两部分，所述隔板的两侧分别为可独立完成光刻工艺的通道I和通道II，所述通道I和通道II的末端均与光刻机连接。所述片盒站包括卸料机器人、热处理塔I、热处理塔II及多个片盒，其中多个片盒设置于所述片盒站的外侧端、并依次排列，所述热处理塔I和热处理塔II设置于所述片盒站的内侧端、并分别与所述通道I和通道II相对应，所述卸料机器人设置于所述片盒站的中间位置，用于完成片盒站内晶圆传输任务。所述涂胶工艺站包括涂胶工艺站传输机器人I、涂胶工艺塔I、热处理塔III、涂胶工艺站传输机器人II、涂胶工艺塔II及热处理塔IV，其中涂胶工艺站传输机器人I、涂胶工艺塔I及热处理塔III设置于所述隔板一侧的通道I内，所述涂胶工艺站传输机器人II、涂胶工艺塔II及热处理塔IV设置于所述隔板另一侧的通道II内、并分别与所述涂胶工艺站传输机器人I、涂胶工艺塔I及热处理塔III对称。所述涂胶工艺塔I和涂胶工艺塔II位于靠近所述片盒站的一侧，所述热处理塔III和热处理塔IV位于靠近所述显影工艺站的另一侧，所述涂胶工艺站传输机器人I和涂胶工艺站传输机器人II位于靠近所述隔板的位置、并分别用于完成各自所在通道内涂胶工艺站的晶圆传输任务。所述显影工艺站包括显影工艺塔I、显影工艺站传输机器人I、热处理塔V、显影工艺塔II、显影工艺站传输机器人II及热处理塔VI，其中显影工艺塔I、显影工艺站传输机器人I及热处理塔V设置于所述隔板一侧的通道I内，所述显影工艺塔II、显影工艺站传输机器人II及热处理塔VI设置于所述隔板另一侧的通道II内、并分别与所述显影工艺塔I、显影工艺站传输机器人I及热处理塔V对称。所述显影工艺塔I和显影工艺塔II位于靠近所述涂胶工艺站的一侧，所述热处理塔V和热处理塔VI位于靠近所述接口站的另一侧，所述显影工艺站传输机器人I和显影工艺站传输机器人II位于靠近所述隔板的位置、并分别用于完成各自所在通道内显影工艺站的晶圆传输任务。所述涂胶工艺塔I、涂胶工艺塔II、显影工艺塔I及显影工艺塔II，均为双层结构，所述涂胶工艺塔I和涂胶工艺塔II的每层可并排搭载两个涂胶模块，所述显影工艺塔I和显影工艺塔II的每层可并排搭载两个显影模块。所述热处理塔I、热处理塔II、热处理塔III、热处理塔IV、热处理塔V及热处理塔VI均为两侧敞开式的层叠结构，每层设有两个热处理模块；所述热处理塔I和热处理塔II上均配置有精密制冷模块与增粘模块，所述热处理塔III和热处理塔IV上均配置有低温加热模块与精密制冷模块，所述热处理塔V和热处理塔VI上均配置有曝光后加热速冷模块与精密制冷模块。所述接口站包括接口站传输机器人I、边缘曝光机I、接口站传输机器人II及边缘曝光机II，其中接口站传输机器人I和边缘曝光机I位于所述隔板一侧的通道I内，所述接口站传输机器人II和边缘曝光机II位于所述隔板另一侧的通道II内、并分别与所述接口站传输机器人I和边缘曝光机I对称。所述接口站传输机器人I和接口站传输机器人II位于靠近所述隔板的位置，所述边缘曝光机I和边缘曝光机II分别位于所述接口站传输机器人I和接口站传输机器人II的外侧，所述接口站传输机器人I和接口站传输机器人II分别用于完成各自所在通道内接口站的晶圆传输任务。本专利技术的优点及有益效果是：1.本专利技术涂胶显影工艺站内配置双机器人传输，较现有各工艺站内采用单一机器人的传输的涂胶显影设备而言，相同产能前提下，每个机器人服务工艺单元数减少，从而降低了对机器人的传输速度的要求，则机器人传输速度的瓶颈时间可以适应更高产能的设备配置要求。2.本专利技术采用并行式结构，各通道间机器人及工艺单元无相互关联，由于设备左右两侧可以单独完成光刻工艺过程，当某一单元需要维护时，只需暂停一侧设备即可，另一侧设备仍可以正常运行。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。其中：1为片盒，2为卸料机器人，3为热处理塔I，4为涂胶工艺站传输机器人I，5为涂胶工艺塔I，6为热处理塔III，7为显影工艺塔I，8为显影工艺站传输机器人I，9为热处理塔V，10为接口站传输机器人I，11为边缘曝光机I，12为接口站传输机器人II，13为边缘曝光机II，14为隔板，15为热处理塔VI，16为显影工艺站传输机器人II，17为显影工艺塔II，18为热处理塔IV，19为涂胶工艺塔II，20为涂胶工艺站传输机器人II，21为热处理塔II，A为片盒站，B为涂胶工艺站，C为显影工艺站，D为接口站，E为光刻机。具体实施方式下面结合附图对本专利技术作进一步详细描述。如图1所示，本专利技术提供的一种并行式涂胶显影设备，包括隔板14及依次连接的片盒站A、涂胶工艺站B、显影工艺站C和接口站D，其中隔板14依次穿过涂胶工艺站B、显影工艺站C及接口站D，所述隔板14的两侧分别为可独立完成光刻工艺的通道I和通道II，所述通道I和通道II的末端均与光刻机E连接。所述片盒站A包括卸料机器人2、热处理塔I3、热处理塔II21及多个片盒1，其中多个片盒1设置于所述片盒站A的外侧端、并依次排列，所述热处理塔I3和热处理塔II21设置于所述片盒站A的内侧、并分别与所述通道I和通道II相对应，所述热处理塔I3和热处理塔II21上均配置有精密制冷模块与增粘模块。所述卸料机器人2设置于所述片盒站A的中间位置，用于完成片盒站A内晶圆传输任务。所述卸料机器人2，简称CSR。所述涂胶工艺站B包括涂胶工艺站传输机器人I4、涂胶工艺塔I5、热处理塔III6、涂胶工艺站传输机器人II20、涂胶工艺塔II19及热处理塔IV18，其中涂胶工艺站传输机器人I4、涂胶工艺塔I5及热处理塔III6设置于所述隔板14一侧的通道I内，所述涂胶工艺站传输机器人II20、涂胶工艺塔II19及热处理塔IV18设置于所述隔板14另一侧的通道II内、并分别与所述涂胶工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种并行式涂胶显影设备，其特征在于，包括隔板(14)及依次连接的片盒站(A)、涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)和接口站(D)，其中隔板(14)依次穿过涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)及接口站(D)，将所述涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)及接口站(D)均分成两部分，所述隔板(14)的两侧分别为可独立完成光刻工艺的通道I和通道II，所述通道I和通道II的末端均与光刻机(E)连接。

【技术特征摘要】
1.一种并行式涂胶显影设备，其特征在于，包括隔板(14)及依次连接的片盒站(A)、涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)和接口站(D)，其中隔板(14)依次穿过涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)及接口站(D)，将所述涂胶工艺站(B)、显影工艺站(C)及接口站(D)均分成两部分，所述隔板(14)的两侧分别为可独立完成光刻工艺的通道I和通道II，所述通道I和通道II的末端均与光刻机(E)连接。2.按权利要求1所述的并行式涂胶显影设备，其特征在于，所述片盒站(A)包括卸料机器人(2)、热处理塔I(3)、热处理塔II(21)及多个片盒(1)，其中多个片盒(1)设置于所述片盒站(A)的外侧端、并依次排列，所述热处理塔I(3)和热处理塔II(21)设置于所述片盒站(A)的内侧端、并分别与所述通道I和通道II相对应，所述卸料机器人(2)设置于所述片盒站(A)的中间位置，用于完成片盒站(A)内晶圆传输任务。3.按权利要求2所述的并行式涂胶显影设备，其特征在于，所述涂胶工艺站(B)包括涂胶工艺站传输机器人I(4)、涂胶工艺塔I(5)、热处理塔III(6)、涂胶工艺站传输机器人II(20)、涂胶工艺塔II(19)及热处理塔IV(18)，其中涂胶工艺站传输机器人I(4)、涂胶工艺塔I(5)及热处理塔III(6)设置于所述隔板(14)一侧的通道I内，所述涂胶工艺站传输机器人II(20)、涂胶工艺塔II(19)及热处理塔IV(18)设置于所述隔板(14)另一侧的通道II内、并分别与所述涂胶工艺站传输机器人I(4)、涂胶工艺塔I(5)及热处理塔III(6)对称。4.按权利要求3所述的并行式涂胶显影设备，其特征在于，所述涂胶工艺塔I(5)和涂胶工艺塔II(19)位于靠近所述片盒站(A)的一侧，所述热处理塔III(6)和热处理塔IV(18)位于靠近所述显影工艺站(C)的另一侧，所述涂胶工艺站传输机器人I(4)和涂胶工艺站传输机器人II(20)位于靠近所述隔板(14)的位置、并分别用于完成各自所在通道内涂胶工艺站(B)的晶圆传输任务。5.按权利要求3所述的并行式涂胶显影设备，其特征在于，所述显影工艺站(C)包括显影工艺塔I(7)、显影工艺站传输机器人I(8)、热处理塔V(9)、显影工艺塔II(17)、显影工艺站传输机器人II(16)及热处理塔VI(15)，其中显影工艺塔I(7)、显影工艺站传输机器人I(8)及热处理塔V(9)设置于所述隔板(14)一侧的通道I内，所述显影工艺塔II(17)、显影工艺站传输机器人II(16)及热处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪旭东，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21