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本发明公开了一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统。该涂胶系统包括:承台;基板,设置于承台上,基板的上表面涂布有未完全流平的有机层;遮光装置,悬设于基板上方,遮光装置设有遮光区域和透光区域;加热光源,悬设于遮光装置的上方,其所发出的光线透过遮...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种涂胶方法以及应用该方法的涂胶系统。该涂胶系统包括:承台;基板,设置于承台上,基板的上表面涂布有未完全流平的有机层;遮光装置,悬设于基板上方,遮光装置设有遮光区域和透光区域;加热光源,悬设于遮光装置的上方,其所发出的光线透过遮...