显示基板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置。该显示基板包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的第一电极和第二电极，所述第二电极位于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧，第一电极和所述第二电极之间设置有像素界定层和发光功能层，所述像素界定层限定出像素区域，与所述像素区域对应位置设置有凹陷结构，所述发光功能层位于所述像素区域中，所述发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。本发明专利技术中发光功能层的靠近衬底基板一侧的结构位于凹陷结构中，使得发光功能层的厚度均匀，避免了发光功能层发光不均匀的问题，从而提高了OLED器件的发光性能。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。
技术介绍
在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,简称OLED)显示面板中设置有像素界定层(PixelDefiningLayer，简称PDL)，PDL限定出像素区域，像素区域中设置有发光功能层。在形成PDL的过程中，PDL材料中的亚克力/PI材料沉积在下面形成PDL下层结构，而PDL材料中的含氟树脂材料则上浮至表面形成了PDL上层结构。PDL下层结构的材料是亲水性的，而PDL上层结构的材料是疏水性的。发光功能层可包括依次设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层和电子注入层。以空穴注入层为例，由于空穴注入层的材料也是亲水性的，因此在随后的空穴注入层的沉积过程中，空穴注入层与PDL下层结构的侧面会发生浸润现象，空穴注入层在浸润作用下会沿着PDL下层结构的侧面向上攀爬，直至到达PDL下层结构和PDL上层结构的界面为止。这使得空穴注入层的形状发生了弯曲，导致空穴注入层的厚度不均。同理，其余各个发光功能层也存在厚度不均的问题。综上，发光功能层的厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的第一电极和第二电极，所述第二电极位于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧，第一电极和所述第二电极之间设置有像素界定层和发光功能层，所述像素界定层限定出像素区域，与所述像素区域对应位置设置有凹陷结构，所述发光功能层位于所述像素区域中，所述发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的第一电极和第二电极，所述第二电极位于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧，第一电极和所述第二电极之间设置有像素界定层和发光功能层，所述像素界定层限定出像素区域，与所述像素区域对应位置设置有凹陷结构，所述发光功能层位于所述像素区域中，所述发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括绝缘层，所述绝缘层位于所述第一电极的靠近所述衬底基板的一侧；所述凹陷结构位于所述绝缘层的与所述像素区域对应位置。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹陷结构的中间位置的深度大于边缘位置的深度。4.根据权利要求1至3所述的显示基板，其特征在于，所述凹陷结构的表面为弧面。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光功能层包括多个子发光功能层，靠近所述第一电极设置的所述子发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述多个子发光功能层分别为依次设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层和电子注入层，所述空穴注入层靠近所述第一电极设置，所述空穴注入层的靠近所述衬底基板一侧的部分结构位于所述凹陷结构中...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢蒂旎，李伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11