光刻胶图案形成方法及压印模具技术

本申请公开了一种光刻胶图案形成方法及压印模具，方法包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对光刻胶进行压印，压印模具包括透光区和遮光区，透光区和遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向光刻胶的凸起，凸起的宽度小于光刻胶固化覆盖区的宽度；对光刻胶进行紫外固化，以固化光刻胶固化覆盖区所覆盖的光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的光刻胶，形成光刻胶图案。通过遮光区、透光区以及凸起的设置，可以经过一次压印，就形成具有至少两层结构的光刻胶形状，坡度角更陡直，有利于灰化后的图形控制，且图形化精度高，其精度可以达到10nm级别。此外，采用上述方案还具有操作简单，节约成本的优点。

Photoresist pattern formation method and impression die

The invention discloses a method of forming photoresist pattern and stamping die, the method comprises the following steps: coating a photoresist on the substrate; make an imprint on the photoresist by stamping mold, stamping mold comprises a transparent area and the shielding area of the photic zone and the shading area for photoresist curing coverage, photoresist curing coverage area there is at least one projection toward the photoresist, raised less than the width of the hardened photoresist coverage width; UV curing of photoresist, photoresist to cure the photoresist curing coverage area covered; removing the stamp out; remove the photoresist uncured, forming a photoresist pattern. Through the shading area, transparent area and convex set, can pass one impression is formed with at least two layers of photoresist shape, more conducive to the steep slope angle, after ashing graphics and graphical control, high precision, its precision can reach 10nm level. In addition, the adoption of the scheme has the advantages of simple operation and cost saving.

【技术实现步骤摘要】
光刻胶图案形成方法及压印模具
本申请一般涉及平板显示
，尤其涉及一种光刻胶图案形成方法及压印模具。
技术介绍
在平板显示面板的制作过程中，为了节省掩膜的使用量，会对制成进行优化，例如将五掩膜制成优化为四掩膜制成，进行优化后一般采用half-tone掩膜或GrayTone掩膜就可以完成台阶的成型。其中，half-tone掩膜或GrayTone掩膜均属于半透型掩膜，也即在其图案化区域具有全透的部分及半透的部分。采用half-tone掩膜或GrayTone掩膜可以通过一步制成来完成台阶的成型。但是，half-tone掩膜及GrayTone掩膜价格昂贵，且精度不高，坡度角倾斜度较大，由上述掩膜形成的台阶部分至少要有2-5um长度才能形成较好的形状，工艺要求高，空白边缘较小。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种光刻胶图案形成方法及压印模具，以解决现有技术中出现的掩膜价格高、精度低的问题。本申请一方面提供一种光刻胶图案形成方法，包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对所述光刻胶进行压印，所述压印模具包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶图案形成方法，其特征在于，包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对所述光刻胶进行压印，所述压印模具包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，所述光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向所述光刻胶的凸起，所述凸起的宽度小于所述光刻胶固化覆盖区的宽度；对所述光刻胶进行紫外固化，以固化所述光刻胶固化覆盖区所覆盖的所述光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的所述光刻胶，形成光刻胶图案。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶图案形成方法，其特征在于，包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对所述光刻胶进行压印，所述压印模具包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，所述光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向所述光刻胶的凸起，所述凸起的宽度小于所述光刻胶固化覆盖区的宽度；对所述光刻胶进行紫外固化，以固化所述光刻胶固化覆盖区所覆盖的所述光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的所述光刻胶，形成光刻胶图案。2.根据权利要求1所述的光刻胶图案形成方法，其特征在于，所述压印模具包括透明基板及设置于所述透明基板上的金属层，所述金属层构成所述遮光区。3.根据权利要求2所述的光刻胶图案形成方法，其特征在于，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板相背的两侧。4.根据权利要求2所述的光刻胶图案形成方法，其特征在于，所述凸起设置于所述透光区，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板的相同侧，所述金属层的表面凸出于所述凸起最外层的表...

【专利技术属性】
技术研发人员：周婷婷，张斌，何晓龙，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11