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本申请公开了一种光刻胶图案形成方法及压印模具，方法包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对光刻胶进行压印，压印模具包括透光区和遮光区，透光区和遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向光刻胶的凸起，凸起的宽度小...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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