可调平面阴极机构及真空镀膜装置制造方法及图纸

一种可调平面阴极机构及真空镀膜装置，包括平面阴极部件及多个移位组件。平面阴极部件包括阴极体基座、背板、靶材压板及多个磁体组件；背板与阴极体基座形成收容腔；靶材压板用于将靶材定位于背板的外侧；多个磁体组件设于收容腔中，多个磁体组件与背板相对而设，且多个磁体组件沿阴极体基座的长度方向分布；多个移位组件分别与多个磁体组件连接，各移位组件能带动对应的磁体组件远离或靠近背板运动，以增大或减小磁体组件与靶材的距离，进而增大或减小靶材与磁体组件相对的表面的磁场强度。该可调平面阴极机构中，多个磁体组件可独立调节靶材上与各磁体组件相对的表面的磁场强度，且通过移位组件实现了靶材表面的磁场强度的自动在线调节。

Adjustable plane cathode mechanism and vacuum coating device

An adjustable planar cathode mechanism and a vacuum coating device include a planar cathode component and a plurality of shift components. Flat cathode cathode component comprises a base, a backboard, target plate and a plurality of magnets and the cathode backplane components; base form a containing cavity; the target plate for lateral target positioning in the back plate; a plurality of magnets component are arranged in the housing cavity, a plurality of magnet assembly and the backplane are oppositely arranged, and a plurality of magnet components along the distribution the length of the cathode base; a plurality of shift components are respectively connected with a plurality of magnet components, each displacement component can drive the magnet component away from or close to the back, to increase or decrease the magnet assembly and the target distance, the magnetic field strength and increase or decrease the surface relative to the target and the magnet assembly. In the adjustable planar cathode mechanism, a plurality of magnet assemblies can independently adjust the magnetic field intensity on the target surface relative to each magnet component, and the magnetic field intensity of the target surface can be automatically adjusted on the surface of the target by the shift assembly.

【技术实现步骤摘要】
可调平面阴极机构及真空镀膜装置
本技术涉及镀膜
，特别是涉及一种可调平面阴极机构及真空镀膜装置。
技术介绍
近年来，平面阴极真空镀膜技术在节能玻璃生产线、显示器玻璃镀膜生产线及钢带镀膜生产线等得到了大规模的应用。然而在镀膜过程中，为了调整工件的镀膜均匀性，需调整可调平面阴极机构的靶材的表面的磁场强度。目前的处理方法是要将生产线停机，打开真空镀膜腔体，将整个可调平面阴极机构拆出来，重新调节可调平面阴极机构的安装位置，进而调整磁场。如此不仅耗时长，而且需要多次调节才能将磁场强度调节到位，因此需要多次拆卸可调平面阴极机构和反复抽真空，整个过程消耗了大量的时间和人力物力。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种在线调节靶材的表面的磁场强度的可调平面阴极机构及真空镀膜装置。一种可调平面阴极机构，包括：平面阴极部件，包括阴极体基座、背板、靶材压板及多个磁体组件；所述背板与所述阴极体基座形成收容腔；所述靶材压板用于将靶材定位于所述背板的外侧；所述多个磁体组件设于所述收容腔中，多个所述磁体组件与所述背板相对而设，且多个所述磁体组件沿所述阴极体基座的长度方向分布；及多个移位组件，分别与多个所述磁体组件连接，各所述移位组件能带动对应的所述磁体组件远离或靠近所述背板运动，以增大或减小所述磁体组件与所述靶材的距离，进而增大或减小所述靶材与所述磁体组件相对的表面的磁场强度。该可调平面阴极机构中，平面阴极部件的多个磁体组件可独立调节靶材上与各磁体组件相对的表面的磁场强度。此外，该可调平面阴极机构通过移位组件实现了靶材表面的磁场强度的自动调节，无需打开真空镀膜腔体将整个可调平面阴极机构拆出，无需停机，避免了多次拆卸可调平面阴极机构和反复抽真空的过程，实现了在线调节靶材表面的磁场强度，提高了生产效率。在其中一个实施例中，在所述阴极体基座的长度方向上对应所述磁体组件和所述移位组件，所述阴极体基座分为多个子阴极体基座，所述背板分为多个子背板，所述靶材压板分为多个子靶材压板；所述子阴极体基座和对应的子背板形成子收容腔，所述多个磁体组件分别设于多个子收容腔中，对应的所述子阴极体基座、所述子背板、所述子靶材压板、所述磁体组件和所述移位组件构成所述可调平面阴极机构的结构单元。在其中一个实施例中，所述移位组件包括驱动件、传动件和连接杆，所述连接杆的两端分别连接于所述传动件和对应的磁体组件，所述驱动件用于驱动所述传动件，所述传动件带动所述连接杆运动，从而使得所述连接杆带动所述磁体组件远离或靠近所述背板运动。在其中一个实施例中，所述连接杆连接于所述磁体组件的一端位于所述收容腔中，所述连接杆的另一端露出于所述阴极体基座的顶部。在其中一个实施例中，所述驱动件为电机，所述传动件为转向齿轮箱，所述驱动件的输出轴的轴向与所述连接杆的轴向垂直设置。在其中一个实施例中，所述磁体组件包括磁体座和磁体，所述磁体安装于所述磁体座上，所述磁体组件的磁体座连接于所述连接杆。一种真空镀膜装置，包括真空镀膜腔体和上述可调平面阴极机构，所述可调平面阴极机构设于所述真空镀膜腔体内，且所述多个移位组件安装于所述真空镀膜腔体的顶部。在其中一个实施例中，所述真空镀膜腔体内设有传送辊组件，所述传送辊组件位于所述可调平面阴极机构的下方，且与所述靶材相对设置；所述传送辊组件的传送方向与所述阴极体基座的长度方向垂直设置。在其中一个实施例中，所述真空镀膜装置还包括检测仪和控制装置，所述检测仪用于获取镀膜工件沿所述阴极体基座的长度方向上多个位置的镀膜厚度；所述控制装置用于根据所述多个位置的镀膜厚度，调节相应的移位组件带动对应的磁体组件远离或靠近所述背板运动。在其中一个实施例中，所述真空镀膜装置还包括进样腔体和用于所述检测仪检测的检测腔体，所述进样腔体和所述检测腔体分别能与所述真空镀膜腔体连通，且所述进样腔体、所述真空镀膜腔体和所述检测腔体依次位于所述传送辊组件的传送方向上。该真空镀膜装置采用上述可调平面阴极机构，可在线调节靶材表面的磁场强度，进而保证工件的镀膜均匀性，可广泛应用于各类真空镀膜生产线。附图说明图1为一实施例的真空镀膜装置的剖面结构图；图2为图1所示真空镀膜装置的可调平面阴极机构的结构图；图3为图1所示真空镀膜装置的可调平面阴极机构和传送辊组件及工件的结构图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参照图1，本技术一实施例的真空镀膜装置10，包括可调平面阴极机构100和真空镀膜腔体200。可调平面阴极机构100设于真空镀膜腔体200内。参照图2和图3，本技术还提供了一实施例的可调平面阴极机构100。该可调平面阴极机构100包括平面阴极部件110及多个移位组件120。平面阴极部件110包括阴极体基座112、背板114、靶材压板116及多个磁体组件118。多个移位组件120安装于真空镀膜腔体200的顶部，如图1所示。继续参照图2，背板114与阴极体基座112形成收容腔(图未标)。靶材压板116用于将靶材111定位于背板114的外侧。多个磁体组件118设于收容腔中，多个磁体组件118与背板114相对而设。多个磁体组件118沿阴极体基座112的长度方向分布。多个移位组件120分别与多个磁体组件118连接，各移位组件120能带动对应的磁体组件118远离或靠近背板114运动，以增大或减小磁体组件118与靶材111的距离，进而增大或减小靶材111与磁体组件118相对的表面的磁场强度。该可调平面阴极机构100，一方面在阴极体基座112的长度方向设有多个磁体组件118，另一方面各磁体组件118可通过移位组件120分别带动对应的磁体组件118远离或靠近背板114运动，进而增大或减小磁体组件118与设于背板114外侧的靶材111的距离，从而增大或减小靶材111的表面的磁场强度。如此使得多个磁体组件118可独立调节靶材111上与各磁体组件118相对的表面的磁场强度。使用时可通过独立调节一个或多个磁体组件118与背板114的距离，进而调节一个或多个磁体组件118与背板114外侧的靶材111的距离，以调节靶材111的表面一个或多个区域的磁场强度，从而实现了镀膜的均匀性。此外，该可调平面阴极机构100通过移位组件120实现了靶材111表面的磁场强度的自动调节，无需打开真空镀膜腔体200将整个可调平面阴极机构100拆出，无需停机，避免了多次拆卸可调平面阴极机构100和反复抽真空的过程，实现了在线调节靶材111表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调平面阴极机构，其特征在于，包括：平面阴极部件，包括阴极体基座、背板、靶材压板及多个磁体组件；所述背板与所述阴极体基座形成收容腔；所述靶材压板用于将靶材定位于所述背板的外侧；所述多个磁体组件设于所述收容腔中，多个所述磁体组件与所述背板相对而设，且多个所述磁体组件沿所述阴极体基座的长度方向分布；及多个移位组件，分别与多个所述磁体组件连接，各所述移位组件能带动对应的所述磁体组件远离或靠近所述背板运动，以增大或减小所述磁体组件与所述靶材的距离，进而增大或减小所述靶材与所述磁体组件相对的表面的磁场强度。

【技术特征摘要】
1.一种可调平面阴极机构，其特征在于，包括：平面阴极部件，包括阴极体基座、背板、靶材压板及多个磁体组件；所述背板与所述阴极体基座形成收容腔；所述靶材压板用于将靶材定位于所述背板的外侧；所述多个磁体组件设于所述收容腔中，多个所述磁体组件与所述背板相对而设，且多个所述磁体组件沿所述阴极体基座的长度方向分布；及多个移位组件，分别与多个所述磁体组件连接，各所述移位组件能带动对应的所述磁体组件远离或靠近所述背板运动，以增大或减小所述磁体组件与所述靶材的距离，进而增大或减小所述靶材与所述磁体组件相对的表面的磁场强度。2.如权利要求1所述的可调平面阴极机构，其特征在于，在所述阴极体基座的长度方向上对应所述磁体组件和所述移位组件，所述阴极体基座分为多个子阴极体基座，所述背板分为多个子背板，所述靶材压板分为多个子靶材压板；所述子阴极体基座和对应的子背板形成子收容腔，所述多个磁体组件分别设于多个子收容腔中，对应的所述子阴极体基座、所述子背板、所述子靶材压板、所述磁体组件和所述移位组件构成所述可调平面阴极机构的结构单元。3.如权利要求1或2所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述移位组件包括驱动件、传动件和连接杆，所述连接杆的两端分别连接于所述传动件和对应的磁体组件，所述驱动件用于驱动所述传动件，所述传动件带动所述连接杆运动，从而使得所述连接杆带动所述磁体组件远离或靠近所述背板运动。4.如权利要求3所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述连接杆连接于所述磁体组件的一端位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海峰，梁忠，霍启科，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，深圳南玻应用技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44