半导体湿法清洗设备中水回收装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种适用于蒸发台产能提升的装置，它包括酸类化学槽、氟类化学槽和两个QDR槽，其中酸类化学槽和氟类化学槽分别与一个QDR槽为一组进行布置，且两组槽之间相互隔断，在每组槽体上分别增加排放管道，所述酸类化学槽和QDR槽的排放管道上连接有含酸排放阀和中水回收阀I，所述含酸排放阀通过管路与酸类废水回收池相连，中水回收阀I通过管路与酸类中水回收池I相连，所述氟类化学槽和QDR槽的排放管道上连接有含氟排放阀和中水回收阀II，所述含氟排放阀通过管路与氟类废水回收池相连，中水回收阀II通过管路与酸类中水回收池II相连，所述酸类中水回收池I和酸类中水回收池II分别通过中水再利用阀与酸类化学槽、氟类化学槽连接。

Water recovery device for semiconductor wet cleaning equipment

The utility model relates to a device for evaporating capacity of Taiwan, it includes acid chemical tank, fluorine chemical tank and two tank QDR, including acid chemical and fluorine chemical tank tank respectively with a QDR slot for a group are arranged between the two groups, and the groove cut off from each other, in each tank increased exhaust pipe, exhaust pipe of the acid chemical groove and QDR groove is connected with a discharge valve and a water containing acid recovery valve I, the discharge valve is connected with the acrylic acid containing waste water recycling pool through the pipeline, water recycling valve I through a pipeline and the acid water recycling pool is connected to the I, the fluorine discharge pipe chemical tank and QDR tank is connected with a fluorine emission valve and water recycling valve II, the fluorine discharge valve is connected with the fluorine waste water recycling pool through the pipeline, water recycling valve II is connected through a pipeline and the acid water recycling tank II, the acid The reclaimed water pool I and the acid water recovery pool II are connected with the acid chemical bath and the fluorine chemical trough through the reclaimed water reuse valve.

【技术实现步骤摘要】
半导体湿法清洗设备中水回收装置
本技术涉及一种半导体湿法清洗设备中水回收装置，属于集成电路、分立器件等制造

技术介绍
导体行业中湿法清洗过程中，用水量特别大，常见的湿法清洗机设备中，所清洗后的水全部排放，水资源的消耗很大，严重制约单位能耗的下降。在本技术作出以前，湿法清洗设备在硬件和软件上有以下不足之处：硬件的不足之处在于：1、使用不同类型的化学试剂，根据排放类型的不同进行间隔；2、湿法清洗后的水全部排放到一根管道，造成了不同废水无法分类排放，在废水处理费用高；3、湿法清洗设备无中水回收专用阀门，湿法清洗工艺过程中，对于清洗多次后的废水无法进行回收再利用。软件的不足之处在于：现有湿法设备中缺少软件控制废水回收的时间、次数，只能将所有的废水全部排掉。综上，直接更换现在的硬件和软件来降低能耗是一种成熟可靠的方案，但投入成本高，对生产影响较大。对现有系统进行创新型改造，是个合理的方案。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种半导体湿法清洗设备中水回收装置,减少废水的产生与排放，降低废水处理费用和生产成本，节约用水。本技术解决上述问题所采用的技术方案为：一种适用于蒸发台产能提升的装置，它包括酸类化学槽、氟类化学槽和两个QDR槽，其中酸类化学槽和氟类化学槽分别与一个QDR槽为一组进行布置，且两组槽之间相互隔断，在每组槽体上分别增加排放管道，所述酸类化学槽和QDR槽的排放管道上连接有含酸排放阀和中水回收阀I，所述含酸排放阀通过管路与酸类废水回收池相连，中水回收阀I通过管路与酸类中水回收池I相连，所述氟类化学槽和QDR槽的排放管道上连接有含氟排放阀和中水回收阀II，所述含氟排放阀通过管路与氟类废水回收池相连，中水回收阀II通过管路与酸类中水回收池II相连，所述酸类中水回收池I和酸类中水回收池II分别通过中水再利用阀与酸类化学槽、氟类化学槽连接。与现有技术相比，本技术的优点在于：本技术改变了以往在半导体清洗中使用湿法清洗机过程中水资源的严重浪费现象，废水回收重新利用大大提高。附图说明图1为本技术的结构示意图。图中：酸类化学槽1、氟类化学槽2、QDR槽3、排放管道4、含酸排放阀5、酸类中水回收阀I6、酸类废水回收池7、酸类中水回收池I8、含氟排放阀9、酸类中水回收阀II10、氟类废水回收池11、酸类中水回收池II12、中水再利用阀13。具体实施方式以下结合实施例对本技术作进一步详细描述。参见图1，本技术涉及一种适用于蒸发台产能提升的装置，包括酸类化学槽1、氟类化学槽2和两个QDR槽3，其中酸类化学槽1和氟类化学槽2分别与一个QDR槽3为一组进行布置，且两组槽之间相互隔断，保证QDR槽运行时所产生的废水相互不交叉，在每组槽体上分别增加排放管道4，以方便将湿法清洗的水分别排放，这样就可以实现不同废水分类排放，所述酸类化学槽1和QDR槽的排放管道4上连接有含酸排放阀5和中水回收阀I6，将管道分成两路，所述含酸排放阀5通过管路与酸类废水回收池7相连，中水回收阀I6通过管路与酸类中水回收池I8相连，所述氟类化学槽2和QDR槽3的排放管道4上连接有含氟排放阀9和中水回收阀II10，将管道分成两路，所述含氟排放阀9通过管路与氟类废水回收池11相连，中水回收阀II10通过管路与酸类中水回收池II11相连，所述酸类中水回收池I8和酸类中水回收池II12分别通过中水再利用阀13与酸类化学槽1、氟类化学槽2连接。按本技术对清洗设备进行改造后，在提升环保控制能力的同时，也带来可观的经济效益：按单槽流量40L/min、自来水3.28元/吨、普通酸废水处理按2元/吨计，按工艺时间10分钟每批次一个冲水槽计算：回收方式为10分钟工艺时间的前6分钟不回收，后4分钟回收，则单次10分钟冲水工艺可回收利用的水为：4min*40L/min=160L，约0.16T。单次10分钟冲水工艺可节约纯水费用：0.16*3.28=0.525元，单次10分钟冲水工艺可减少污水排放0.16T，节约污水处理费用0.16*2=0.32元单次10分钟冲水工艺两项合计：0.845元单台设备每天（15小时工作时间计）可节约费用15*60/10*0.845=76.05元。除上述实施例外，本技术还包括有其他实施方式，凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案，均应落入本技术权利要求的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于蒸发台产能提升的装置，它包括酸类化学槽（1）、氟类化学槽（2）和两个QDR槽（3），其中酸类化学槽（1）和氟类化学槽（2）分别与一个QDR槽（3）为一组进行布置，且两组槽之间相互隔断，在每组槽体上分别增加排放管道（4），所述酸类化学槽（1）和QDR槽的排放管道（4）上连接有含酸排放阀（5）和中水回收阀I （6），所述含酸排放阀（5）通过管路与酸类废水回收池（7）相连，中水回收阀I （6）通过管路与酸类中水回收池I（8）相连，所述氟类化学槽（2）和QDR槽（3）的排放管道（4）上连接有含氟排放阀（9）和中水回收阀II （10），所述含氟排放阀（9）通过管路与氟类废水回收池（11）相连，中水回收阀II （10）通过管路与酸类中水回收池II （12）相连，所述酸类中水回收池I （8）和酸类中水回收池II （12）分别通过中水再利用阀（13）与酸类化学槽（1）、氟类化学槽（2）连接。

【技术特征摘要】
1.一种适用于蒸发台产能提升的装置，它包括酸类化学槽（1）、氟类化学槽（2）和两个QDR槽（3），其中酸类化学槽（1）和氟类化学槽（2）分别与一个QDR槽（3）为一组进行布置，且两组槽之间相互隔断，在每组槽体上分别增加排放管道（4），所述酸类化学槽（1）和QDR槽的排放管道（4）上连接有含酸排放阀（5）和中水回收阀I（6），所述含酸排放阀（5）通过管路与酸类废水回收池（7）相连，中水回收阀...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建标，蒋亚东，李天鹏，王光伟，董振雷，顾中平，
申请(专利权)人：江阴新顺微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32