【技术实现步骤摘要】
一种水电阻率探头的安装结构
本技术涉及一种水电阻率探头的安装结构,属于集成电路或分立器件芯片制造
技术介绍
半导体晶圆湿法清洗工艺属于比较成熟的工艺,在整个半导体制造过程中需要多次经过湿法清洗,清洗质量直接关系到产品的质量情况,对于清洗质量的判断一般有表面颗粒数量、化学试剂是否冲洗干净等,一旦表面残留有化学试剂,后续的高温步会将残留物质扩散进晶圆,从而导致产品器件的参数不良等。对于清洗工艺主要使用各类化学试剂对晶圆表面进行处理,在采用化学试剂处理后,需要使用高纯去离子水(电阻率≥15MΩ·cm)对化学试剂进行冲洗,对冲洗的效果一般测试QDR槽溢出水的水阻情况来判定。测试QDR槽出水水电阻率的方式一般采用水电阻率测试探头和水阻仪配合。一般水电阻率探头安装在QDR槽的边缘,这种安装方法的不足之处在于:1、水电阻率探头的水压较小,经过探头的水量少。2、水电阻率探头的水量较少或流速偏慢,会导致水电阻率探头不能真实反映水的电阻率情况。综上,水电阻率测试探头的安装直接导致是否可以准确对纯水电阻率进行测试和能否反馈出真实的冲洗效果情况。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种水电阻率探头的安装结构,不仅结构简单,能够反馈出接近真实的水电阻率,提高测试的准确性。本技术解决上述问题所采用的技术方案为:一种水电阻率探头的安装结构,包括U型连接接头,所述U型连接接头两接口朝上设置且分别设于QDR外槽出水口下方,所述U型连接接头一接口与QDR外槽出水 ...
【技术保护点】
1.一种水电阻率探头的安装结构,其特征在于:包括U型连接接头(3),所述U型连接接头(3)两接口朝上设置且分别设于QDR外槽出水口(1)下方,所述U型连接接头(3)一接口与QDR外槽出水口(1)通过连接管(2)连接,所述U型连接接头(3)另一接口与水电阻率探头接头(4)连接,所述水电阻率探头接头(4)内设置水电阻率探头(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种水电阻率探头的安装结构,其特征在于:包括U型连接接头(3),所述U型连接接头(3)两接口朝上设置且分别设于QDR外槽出水口(1)下方,所述U型连接接头(3)一接口与QDR外槽出水口(1)通过连接管(2)连接,所述U型连接接头(3)另一接口与水电阻率探头接头(4)连接,所述水电阻率探头接头(4)内设置水电阻率探头(5)。
2.根据权利要求1所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕伟,钱如平,蒋亚东,周晓,
申请(专利权)人:江阴新顺微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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