The utility model discloses a cleaning device and a nozzle cleaning platform, including cleaning platform and fixed on the cleaning platform on the cleaning device, the cleaning device comprises a cleaning tank inside the hollow structure, the inner wall of the cleaning tank are arranged at both sides of high pressure nozzle, the cleaning box lateral wall at the bottom of a cleaning motor, the cleaning box at the bottom of the inner cavity is provided with a rotary brush, cleaning the motor drive shaft through the cleaning tank and is fixedly connected with the rotating brush, cleaning device and cleaning platform of the nozzle, the nozzle moving through the electric machine drive to the cleaning tank, the nozzle and high pressure spray washing wash, can effectively remove the residual medicine liquid crystal on the nozzle, the nozzle moving in the reduction process or production process Chinese medicine liquid crystallization on the surface of the wafer may fall To ensure the working environment of the machine, improve the quality of the chip, it is worth promoting.
【技术实现步骤摘要】
一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台
本技术属于喷嘴清洗设备
,具体涉及一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台。
技术介绍
在随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段,集成电路晶片制造工艺中所要求的晶片表面的洁净度越来越苛刻,为了保证晶片材料表面的洁净度,集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工序,清洗工序占了整个制造过程的30%。但在清洗工艺过程中,出现了一些问题,例如药液喷嘴喷射药液腐蚀晶片表面,药液喷嘴在距离晶片表面大约3cm的位置处喷射药液。由于需要近距离的喷射晶片表面,药液很容易反溅到药液喷嘴上,长此以往药液结晶会累积在药液喷嘴上,在药液喷嘴移动或生产过程中,药液结晶会掉落在晶片表面,降低晶片质量,同时药液喷嘴上药液结晶也会在清洗机台内挥发,影响整个清洗机台内部的环境。因此,避免药液喷嘴上残留的药液结晶影响硅片的质量成为本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,包括清洗平台和固定安装在清洗平台上的清洗装置,所述清洗装置包括内部为中空结构的清洗箱,所述清洗箱的内腔壁两侧设置有高压喷嘴,所述清洗平台的一侧设有清洗液存储箱和气泵,所述清洗液存储箱上设有供液泵,所述供液泵和气泵分别通过管路连接于高压喷嘴,所述清洗箱的外侧壁底部设有清洗电机,所述清洗箱的内腔底部设有旋转毛刷,所述清洗电机的传动轴贯穿清洗箱且与旋转毛刷的一端固定连接。优选的,所述清洗平台顶部的一端设有横移电机,所述横移电机通过滚珠丝杆与清洗平台顶部 ...
【技术保护点】
一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,包括清洗平台(1)和固定安装在清洗平台(1)上的清洗装置(2),其特征在于:所述清洗装置(2)包括内部为中空结构的清洗箱(21),所述清洗箱(21)的内腔壁两侧设置有高压喷嘴(22),所述清洗平台(1)的一侧设有清洗液存储箱(3)和气泵(4),所述清洗液存储箱(3)上设有供液泵(5),所述供液泵(5)和气泵(4)分别通过管路连接于高压喷嘴(22),所述清洗箱(21)的外侧壁底部设有清洗电机(23),所述清洗箱(21)的内腔底部设有旋转毛刷(24),所述清洗电机(23)的传动轴贯穿清洗箱(21)且与旋转毛刷(24)的一端固定连接。
【技术特征摘要】
1.一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,包括清洗平台(1)和固定安装在清洗平台(1)上的清洗装置(2),其特征在于:所述清洗装置(2)包括内部为中空结构的清洗箱(21),所述清洗箱(21)的内腔壁两侧设置有高压喷嘴(22),所述清洗平台(1)的一侧设有清洗液存储箱(3)和气泵(4),所述清洗液存储箱(3)上设有供液泵(5),所述供液泵(5)和气泵(4)分别通过管路连接于高压喷嘴(22),所述清洗箱(21)的外侧壁底部设有清洗电机(23),所述清洗箱(21)的内腔底部设有旋转毛刷(24),所述清洗电机(23)的传动轴贯穿清洗箱(21)且与旋转毛刷(24)的一端固定连接。2.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,其特征在于:所述清洗平台(1)顶部的一端设有横移电机(6),所述横移电机(6)通过滚珠丝杆与清洗平台(1)顶部设有的升降臂(7)传动连接,所述升降臂(7)的顶部设有升降电机(8),所述升降电机(8)通过滚珠丝杆与升降臂(7)前端设有...
【专利技术属性】
技术研发人员:张美纯,
申请(专利权)人:东莞市鑫悦净化科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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