一种活性抛光剂及其制备方法技术

本发明专利技术属于抛光剂的组分及制备方法的改进。采用颗粒直径在１×１０↑［－６］ｍ～２×１０↑［－５］ｍ之间的ＳｉＯ↓［２］、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｎａ↓［２］Ｏ或／和Ｋ↓［２］Ｏ或／和Ｌｉ↓［２］Ｏ、ＣａＯ或／和ＭｇＯ、以及ＺｎＯ混合组成的粉状物或膏状物，莫氏硬度可在５～７之间调整，可以适用于玻璃、玛瑙、刚玉、宝石制品的表面抛光，取材容易，制备成本低，活性好，高效无毒，不污染工作环境。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于抛光剂的组份及制备方法的改进。现有的应用于玻璃、金属、玛瑙、钢玉、宝石等制品表面抛光的抛光剂，大多采用金刚石、α-Al2O3、氧化锗、甲长石(K2O·Al2O3·iO2)、红粉等作为抛光料，其缺点是或成本高、或工效低，或抛光光泽度低，或活性差(易沉淀结块)，或所加填充料有毒性，对工作环境有污染等等。已申请中国专利的若干这方面的专利技术，如“锗酸铋(GBO)单晶的表面抛光技术”(CN 86100517A，CO9K3/14，CO9G1/02，B24B9/00)，如“磨料”(88104040.1，CO9K3/14)等，也只是在某些领域内部分地解决上述缺点，且适用面窄。本专利技术的目的是专利技术一种新型的适用面广泛的抛光剂(可以是粉状物或膏状物)，不仅可用于玻璃制品、金属制品的表面抛光，在原料不变的情况下，调整各原料的重量比(即改变其莫氏硬度)后还可以适用于玛瑙、钢玉、宝石等制品的表面抛光;活性要好，即用这种抛光剂配制的抛光液不易沉淀结块，即使稍有沉淀，略加搅拌或晃动即可复原;无毒性，无腐蚀，不污染工作环境。本专利技术的实质性
技术实现思路
的特征如下所述1.本专利技术的原料及其组分这种活性抛光剂是由50%～80%(重量比，下同)的S1O2、8%～15%的Al2O3、2%～15%的(Na2O或/和K2O)或/和Li2O、1.5%～17%的CaO(或/和CaCO3)或/和MgO(或/和MgCO3)、2.5%～6.5%的ZnO混合而成的粉状物或膏状物。如果原料中同时使用Na2O和K2O，则它们各自的重量比最好为K2O占2.5%～8.5%，Na2O占1.5%～6.5%。如果原料中同时使用CaO和MgO，则它们各自的重量比最好为CaO(或/和CaCO3)占3%～10.5%，MgO(或/和MgCO3)占1.5%～6.5%。在上述各原料中，SiO2和Al2O3是这种抛光剂的基本成份，它们与CaO(或/和CaCO3)或/和MgO(或/和MgCO3)一起在总重量中的重量比，以及它们相互之间的重量比，可以确定整个抛光剂的莫氏硬度，改变它们各自的重量比，就可以改变整个抛光剂的莫氏硬度，增加SiO2和Al2O3的重量比，减少CaO(或/和CaCO3)或/和MgO(或/和MgCO3)的重量比，就可以提高抛光剂的莫氏硬度，反之，则可以降低抛光剂的莫氏硬度，以适应不同的抛光对象材质的需要，达到使这种抛光剂适用面广的专利技术目的。按前述重量比范围配制的抛光剂的莫氏硬度可在5～7之间变化。在上述各原料中，K2O或/和Na2O或/和Li2O以及ZnO的作用是使本抛光剂具有好的活性，它们的重量比之和越高，抛光剂的活性越好;反之，则活性越差。从降低成本和取材容易的角度考虑，最好使用K2O和Na2O以及ZnO。不能无限制地提高上述活性原料的重量比，否则会因基本成份重量比的下降而影响抛光剂的莫氏硬度。一般地，它们的重量比之和在8%～13%就可以了。注意ZnO是必不可少的;在同时使用K2O和Na2O时，Na2O的重量比最好不要超过K2O的重量比。需要特别说明的是，上述原料中，CaO(或/和CaCO3)或/和MgO(或/和MgCO3)可以CaO(或CaCO3)或/和MgO(或MgCO3)的形式加入，也可以是把CaCO3或/和MgCO3煅烧后形成CaO或/和MgO加入。若是后者，原料中会有残余的CaCO3或/和MgCO3，甚至还会带入Fe2O3或/和TiO2等杂质。CaCO3或/和MgCO3的存在不影响本抛光剂的性能和质量，即Ca或/和Mg可以是氧化物或/和碳酸盐的形式出现。但Fe2O3或/和TiO2等杂质的重量比则一般不能超过3%。所有上述各种组成抛光剂的原料的颗粒直径均应在1×10-6m至2×10-6m之间，其中，当用抛光剂作精抛时，应选直径在1×10-6m至5×10-6m之间者;当作精磨或粗抛光时，可选直径在5×10-6m至2×10-6m之间者。上述抛光剂，在使用时一般应将粉剂或膏剂加水配制成抛光液，醮涂使用。抛光液的配制比例一般可为粉剂∶水＝1∶3～5(重量比)。若使用膏剂，可视膏剂的含水量适当减少加水比例。2.本专利技术的制备方法本专利技术的制备方法与混合物的制备方法相仿，其特征主要在于工艺流程，可分为粉剂工艺流程和膏剂工艺流程两类。粉剂的制备工艺流程为各种原料经化学、物理性能分析→分类→分别粉碎→部分煅烧后再粉碎→按配方称量→混合拌匀→细碎→除铁过筛→加水搅拌静置除沉淀→脱水→细磨→过筛→检测→包装入库。膏剂的制备工艺流程为各种原料经化学、物理性能分析→分类→分别粉碎→部分煅烧后再粉碎→按配方称量→混合拌匀→细碎→除铁过筛→加水搅拌静置除沉淀→部分脱水→检测→包装入库。在上述两种工艺流程中，每道工序的具体做法均为公知技术，专利技术特点仅在于这若干工序的顺序组合，需要作以下说明1.所谓的“部分煅烧”工序，主要是指对SiO2、Al2O3、CaCO3或/和MgCO3的部分煅烧。2.所谓的“细碎”工序，是使产品达到颗粒直径指标的关键工序。可应用公知技术中的任意一种或多种组合来达到指标。3.所谓的“加水搅拌静置除沉淀”工序，是保证本专利技术的产品质量的又一关键工序。一般做法是取一份粉料加四份水，搅拌几分钟后静置90～180分钟，取出未沉淀部分倒入另一容器，进入下一道工序。已沉淀部分可脱水后再回复至细碎工序，也可以取出后作为磨料使用。在取未沉淀部分时，还可以分层取液，最上层的部分颗粒最细，中间层颗粒较粗，下层则颗粒更粗。这样分别取出的未沉淀液经分别脱水、细磨后，可作为不同直径的产品作不同用途。4.所谓的“细磨”工序，即对脱水后形成的料块进行磨碎。使用依本专利技术制备的活性抛光剂，有如下效果1.成本低、取材容易、制备简单;2.适用面广，在不改变原料的情况下，只须调整各原料的配方比，改变抛光剂的莫氏硬度，就可以适用于不同的加工对象;3.活性好，配制的抛光液不易沉淀，即使稍有沉淀，轻晃或略加搅拌即可恢复原样，可以回收反复使用;4.高效低耗，抛光光泽度好，耗用量低于传统抛光剂;5.无毒，无腐蚀，不污染工作环境;综上所述，本专利技术的专利技术目的，全部实现。实施例一适用于抛光玻璃制品，莫氏硬度为5～5.5。原料SiO2Al2O3CaO MgO K2O Na2O ZnO Fe3O3TiO2重量比57.8 12.8 7.5 5.5 7.1 4 4.3 ≤0.8 ≤0.2实施例二适用于抛光玛瑙制品，莫氏硬度为6～6.5。原料SiO2Al2O3CaO MgO K2O Na2O ZnO Fe2O3TiO2重量比70 10.5 3.5 4.5 4.5 1.6 4 ≤1.2 ≤0.权利要求1.一种活性抛光剂，其特征在于它是由50%～80%(重量比，下同)的SiO2、8%～15%的Al2O3、2%～15%的Na2O或/和K2O或/和Li2O、1.5%～17%的CaO(或/和CaCO3)或/和MgO(或/和MgCO3)、2.5%～6.5%的ZnO混合组成的粉状物或膏状物，其颗粒直径在1×10-6m～2×10-5m之间。2.权利要求1所说的活性抛光剂，所用原料中既有K2O也有Na2O，其特征在于K2O的重量比为2.5%～8.5%，Na2O的重量比为1.5%～6.5%。3.权利要求本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种活性抛光剂，其特征在于它是由５０％～８０％（重量比，下同）的ＳｉＯ↓［２］、８％～１５％的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、２％～１５％的Ｎａ↓［２］Ｏ或／和Ｋ↓［２］Ｏ或／和Ｌｉ↓［２］Ｏ、１. ５％～１７％的ＣａＯ（或／和ＣａＣＯ↓［３］）或／和ＭｇＯ（或／和ＭｇＣＯ↓［３］）、２. ５％～６. ５％的ＺｎＯ混合组成的粉状物或膏状物，其颗粒直径在１×１０↑［－６］ｍ～２×１０↑［－５］ｍ之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周昌明，邓文良，
申请(专利权)人：重庆市北碚陶瓷厂，
类型：发明
国别省市：85[中国|重庆]