一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法技术

一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。先将磨料Ⅱ均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料Ⅱ液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料Ⅰ进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液。以粒径较小的水溶性二氧化硅溶胶和粒径较大的气相二氧化硅粉末混合作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后微晶玻璃表面划伤，而且使抛光后的微晶玻璃表面的粗糙度和波纹度降低；可以大大提高抛光速率，化学稳定性好，使用安全。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抛光液，尤其涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。
技术介绍
微晶玻璃既是一种很好的光学材料，又是一种良好的结构材料，它具有良好的力学物理性能和在较高温度下的化学稳定性能，因此引起了人们的广泛关注。近年来，随着计算机技术的飞速发展，对计算机硬盘存储能力的要求也逐渐提高，原来的铝基板硬盘已经很难适应这种发展的要求，因此，该行业开始选用新材料来制备计算机的硬盘基板。目前很多从业者选用微晶玻璃作为制备计算机硬盘基板的材料，实践中证明微晶玻璃的计算机硬盘基板拥有比铝基板更高的机械强度、制造几何尺寸精度和亚纳米级的表面粗糙度，而且具有不变形、不易划伤以及抗冲击能力强的特点，因此成为硬盘基板制造的重要原材料。同其他制备硬盘基板材料一样，微晶玻璃在用于制备硬盘基板时，其表面也需要经过超精密度的加工，使其形成超光滑表面，才能满足计算机存储的高精密要求。目前，微晶玻璃表面抛光的专用抛光液存在的问题，一是种类比较少，二是抛光后表面质量差，划伤多，抛光效率低，不能满足飞速发展的计算机行业对微晶玻璃表面质量的要求。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于克服现有产品存在的上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于：先将磨料Ⅱ均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料Ⅱ液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料Ⅰ进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液；所述各种组分所占的重量百分比为：磨料Ⅰ为１０％～４０％，磨料Ⅱ为５％～２０％，表面活性剂为０．０１％～０．６％，ＰＨ调节剂为１％～６％，去离子水为余量。

【技术特征摘要】
1、一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于：先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液；所述各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％～40％...

【专利技术属性】
技术研发人员：仲跻和，
申请(专利权)人：仲跻和，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]