衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法制造方法及图纸

技术编号:16483544 阅读:40 留言:0更新日期:2017-10-31 15:58
本发明专利技术提供一种能够谋求缩短对异常的解析调查的时间的构成。该构成包含将在执行对衬底进行处理的配方的过程中所生成的装置数据向存储部传送的操作部、和分别对存储在存储部中的多个装置数据进行核对的数据匹配控制部,操作部将表示装置中发生了异常的主旨的数据向上述数据匹配控制部通知,数据匹配控制部具有:选定部,其从存储部选定以与发生了异常的配方相同的条件被执行了的配方;获取部,其分别从发生了异常的配方和由选定部选定出的配方获取装置数据;和运算部,其对获取到的装置数据的差异进行运算,基于表示发生了异常的主旨的数据来对从异常发生前后的配方获取到的装置数据进行核对。

Substrate processing device, device management controller and device management method

The present invention provides a composition that can shorten the time of an analytical investigation of anomalies. The composition contains the generated in the implementation of the formula on the substrate processing device in the process of data to the operation Department, Ministry of transport and storage respectively for storing a plurality of data storage devices in the matching control department to check the data, the operation Department said there is an abnormal substance in the data to the data device notice of the Ministry, control, data, control section has selected, the selected from a storage unit with the abnormal conditions the same formula was carried out by the Department of prescription; obtaining, respectively from the abnormal formula and selected by the Ministry of the selected formulation and operation of data acquisition device; the difference. To get the device data for computing, said there is an abnormal data to check on the subject after the occurrence of abnormal data from the device to obtain based on the formula.

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法
本专利技术涉及衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法。
技术介绍
在半导体制造领域中,为了谋求提高装置的运转率和生产效率,而将装置的信息存储在服务器中,并利用该信息来进行装置的故障解析和装置的状态监视。关于以往的对故障的原因进行特定的手法,在衬底处理时,在保有大量数据的装置中,效率差且非常费时,另外,由于数据量多,所以依赖于进行故障解析的维护员的技能。而且,在以往的故障解析中,由于重要数据的确认遗漏等理由而存在无法对故障的原因进行特定的情况。因此,在故障解析中,为了快速地对异常的原因进行特定而提高装置的运转率,尝试了各种各样的办法。此外,故障是指因成膜异常或装置故障导致的装置停止等异常。例如,在专利文献1中记载有如下:成批进行在与管理装置连接的衬底处理装置中所使用的文件的文件比较,提取出该文件比较的结果、差异,并修正该差异。另外,根据专利文献2的记载,记载有以往的配方(recipe)之间的文件比较,例如工艺配方A与工艺配方B的文件比较。这样的文件比较功能具有能够简单地提取出文件之间不同的数据的优点。期待利用了该文件比较功能的故障解析对异常原因特定的效率化做出的贡献。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开WO2014/189045号专利文献2:日本专利第4587753号
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够谋求缩短异常的解析调查的时间的构成。根据本专利技术的一个方式,提供一种如下的构成,包含:操作部,其将在执行对衬底进行处理的配方的过程中所生成的装置数据向存储部传送;和数据匹配控制部,其分别对存储在存储部中的多个装置数据进行核对,操作部将表示装置中发生了异常的主旨的数据向上述数据匹配控制部通知,数据匹配控制部具有:选定部,其从存储部选定以与发生了异常的配方相同的条件被执行了的配方;获取部,其分别从发生了异常的配方和由选定部选定出的配方获取装置数据;和运算部,其对获取到的装置数据的差异进行运算,基于表示发生了异常的主旨的数据来对从异常发生前后的配方获取到的装置数据进行核对。专利技术效果根据上述构成,能够缩短对发生了异常的装置的异常解析的时间,从而能够实现减少装置停止时间。附图说明图1是表示适合用于本专利技术的一个实施方式的衬底处理装置的立体图。图2是表示适合用于本专利技术的一个实施方式的衬底处理装置的侧剖视图。图3是表示适合用于本专利技术的一个实施方式的控制系统的功能结构的图。图4是表示适合用于本专利技术的一个实施方式的主控制器的功能结构的图。图5是表示适合用于本专利技术的一个实施方式的衬底处理系统的结构的图。图6是说明适合用于本专利技术的一个实施方式的装置管理控制器的功能结构的图。图7的(a)是表示本专利技术的一个实施方式的装置状态监视控制部的功能结构的图。图7的(b)是表示本专利技术的一个实施方式的数据匹配控制部的功能结构的图。图8是说明由本专利技术的一个实施方式的装置状态监视控制部获取的装置数据的图。图9是说明作为本专利技术的一个实施方式的文件比较对象的装置数据的图。图10是本专利技术的一个实施方式的数据匹配控制部执行的处理流程的图示例。图11是用于说明本专利技术的一个实施方式的匹配率的图示例。图12是用于说明本专利技术的一个实施方式的用于计算匹配率的阈值的计算方法的图示例。图13是将本专利技术的实施例的装置数据的匹配率按从低到高的顺序显示的一个例子。图14是用于说明本专利技术的其他实施方式的文件比较功能的图。图15是本专利技术的其他实施方式的性能评价波形表的图示例。图16是本专利技术的实施例的核对历史画面的图示例。图17是本专利技术的实施例的数据详细显示画面的图示例。图18是本专利技术的实施例的原始波形数据的显示例。图19是表示本专利技术的实施例的配方比较结果的显示例。附图标记说明1…衬底处理装置、215…装置管理控制器、215c…数据匹配控制部、215e…装置状态监视控制部、215h…存储部、227…操作显示部具体实施方式(衬底处理装置的概要)以下一边参照附图一边说明本专利技术的一个实施方式。首先,在图1、图2中,说明实施本专利技术的衬底处理装置(以后简称为装置)1。衬底处理装置1具有壳体2,在该壳体2的正面壁3的下部开设有以能够进行维护的方式设置的开口部(正面维护口)4,该开口部4通过正面维护门5而进行开闭。在壳体2的正面壁3上以将壳体2的内外连通的方式开设有晶片盒(pod)搬入搬出口6,晶片盒搬入搬出口6通过前闸门7而进行开闭,在晶片盒搬入搬出口6的正面前方侧设置有装载口(loadport)8,该装载口8构成为将所载置的晶片盒9对位。该晶片盒9是密闭式的衬底搬送容器,通过未图示的工序内搬送装置而将其搬入到装载口8上,或从该装载口8上搬出。在壳体2内的前后方向的大致中央部中的上部,设置有旋转式晶片盒架11,该旋转式晶片盒架11构成为存放多个晶片盒9。旋转式晶片盒架11具有:垂直地立起设置且间歇旋转的支柱12;和在上中下层的各位置中呈放射状支承在该支柱12上的多层架板13,该架板13构成为在载置了多个上述晶片盒9的状态下存放上述晶片盒9。在旋转式晶片盒架11的下方设有晶片盒开启器14,该晶片盒开启器14载置晶片盒9,还具有能够对该晶片盒9的盖进行开闭的结构。在装载口8与旋转式晶片盒架11、晶片盒开启器14之间,设置有晶片盒搬送机构15,该晶片盒搬送机构15能够保持晶片盒9地升降且能够沿水平方向进退,构成为在装载口8、旋转式晶片盒架11、晶片盒开启器14之间搬送晶片盒9。在壳体2内的前后方向的大致中央部中的下部,在后端的范围内设有副壳体16。在该副壳体16的正面壁17上沿垂直方向排列成上下两层地开设有用于将晶片(以后也称为衬底)18相对于副壳体16内搬入搬出的一对晶片搬入搬出口19,对上下层的晶片搬入搬出口19分别设有晶片盒开启器14。该晶片盒开启器14具有载置晶片盒9的载置台21、和对晶片盒9的盖进行开闭的开闭机构22。晶片盒开启器14构成为通过开闭机构22对载置在载置台21上的晶片盒9的盖进行开闭,来对晶片盒9的晶片出入口进行开闭。副壳体16构成相对于配置有晶片盒搬送机构15和旋转式晶片盒架11的空间(晶片盒搬送空间)为气密的移载室23。在该移载室23的前侧区域设置有晶片移载机构(衬底移载机构)24,该衬底移载机构24具备载置衬底18的所需张数(在图示中为五张)的晶片载置板25,该晶片载置板25能够沿水平方向直线移动,能够沿水平方向旋转,还能够升降。衬底移载机构24构成为相对于舟皿(衬底保持体)26而装填及推出衬底18。在移载室23的后侧区域,构成有收纳舟皿26而使其待机的待机部27,在该待机部27的上方设有纵型的处理炉28。该处理炉28在内部形成处理室29,该处理室29的下端部成为炉口部,该炉口部通过炉口闸门31而进行开闭。在壳体2的右侧端部与副壳体16的待机部27的右侧端部之间设置有用于使舟皿26升降的作为升降机构的舟皿升降机32。在与该舟皿升降机32的升降台连结的臂33上水平地安装有作为盖体的密封盖34,该盖体34垂直地支承舟皿26,能够在将该舟皿26装入于处理室29的状态下气密地封堵炉口部。舟皿26构成为将多张(例如50张~125张左右)的衬底18以其中心对齐的水平姿势多层地保持。在与舟皿升降机32侧相对的位置上配置有本文档来自技高网...
衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法

【技术保护点】
一种衬底处理装置,包含将在执行对衬底进行处理的配方的过程中所生成的装置数据向存储部传送的操作部、和分别对存储在所述存储部中的多个所述装置数据进行核对的数据匹配控制部,所述衬底处理装置的特征在于,构成为,所述操作部将表示装置中发生了异常的主旨的数据向所述数据匹配控制部通知,所述数据匹配控制部具有:选定部,其从所述存储部选定以与发生了所述异常的配方相同的条件被执行了的配方;获取部,其分别从发生了所述异常的配方和由所述选定部选定出的配方获取所述装置数据;和运算部,其对获取到的所述装置数据的差异进行运算,基于表示发生了所述异常的主旨的数据来对从所述异常发生前后的配方获取到的所述装置数据进行核对。

【技术特征摘要】
2016.04.19 JP 2016-083823;2017.02.10 JP 2017-023141.一种衬底处理装置,包含将在执行对衬底进行处理的配方的过程中所生成的装置数据向存储部传送的操作部、和分别对存储在所述存储部中的多个所述装置数据进行核对的数据匹配控制部,所述衬底处理装置的特征在于,构成为,所述操作部将表示装置中发生了异常的主旨的数据向所述数据匹配控制部通知,所述数据匹配控制部具有:选定部,其从所述存储部选定以与发生了所述异常的配方相同的条件被执行了的配方;获取部,其分别从发生了所述异常的配方和由所述选定部选定出的配方获取所述装置数据;和运算部,其对获取到的所述装置数据的差异进行运算,基于表示发生了所述异常的主旨的数据来对从所述异常发生前后的配方获取到的所述装置数据进行核对。2.如权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,还具有显示所述核对的结果的显示装置,所述显示装置构成为,按发生了所述异常的配方与由所述选定部选定出的配方之间的所述装置数据的差异从大到小的顺序显示所述装置数据。3.如权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,所述运算部还具有:计算部,其在规定期间内按每个单位时间计算所述装置数据的数据差的绝对值,且计算所述装置数据一致的比例;和比较部,其将所述绝对值与预先设定的阈值进行比较来判断所述装置数据是否一致。4.如权利要求3所述的衬底处理装置,其特征在于,还具有算出部,该算出部计算出所述规定期间内的所述装置数据的数据差的绝对值的标准偏差,所述算出部使用所述标准偏差来计算出阈值,所述运算部将所述绝对值与计算出的所述阈值进行比较,来判断所述装置数据是否一致。5.如权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,所述配方具有多个步骤,所述运算部构成为,按每个单位时间计算所述装置数据的数据差的绝对值,并按所述步骤单位计算所述装置数据一致的比例、及所述装置数据的数据差的绝对值的标准偏差。6.如权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,所述数据匹配控制部构成为,从所述存储部获取异常解析信息,基于通过所述异常解析信息建立了关联的数据时刻信息,来使配方的开始时刻一致,且按每个单位时间计算装置数据的数据差的绝对值,将该绝对值与预先设定的阈值分别按每个单位时间进行比较,来判断装置数据是否一致,并计算在规定期间内所述装置数据一致的比例。7.如权利要求1所述的衬底处理装置,其特征在于,所述数据匹配控制部构成为,对...

【专利技术属性】
技术研发人员:浅井一秀山本一良川岸隆之林原秀元屋敷佳代子岩仓裕幸
申请(专利权)人:株式会社日立国际电气
类型:发明
国别省市:日本,JP

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