绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法技术

本发明专利技术提供了与被涂敷面润湿性良好，在烧成后不发生空洞和针眼的绝缘膜形成用涂料，以及使用该涂料形成电介质层的等离子显示板的制造方法。所述绝缘膜形成用涂料包含作为必要成分的有机溶剂、无机微粒子和粘合剂树脂。其中所述有机溶剂是对玻璃基板等玻璃化合物、Ａｇ电极等金属化合物、ＩＴＯ膜等陶瓷化合物的润湿性都非常好且与前述各无机材料的接触角小于５°的有机溶剂。从而可以提供对玻璃基板、Ａｇ电极和ＩＴＯ膜的润湿性都很好，不发生空洞和针眼的绝缘膜形成用涂料。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法本专利技术所属
本专利技术是关于用于形成等离子显示板、等离子地址液晶显示或者使用电子发射元件的图像形成装置的绝缘膜的绝缘膜形成用涂料，以及使用该涂料，形成背面板上的地址电极保护膜和隔膜或者形成表面板上的电介质层的等离子显示板的制造方法。以往的技术作为代替过去笨重且体积大的阴极射线管图像形成装置，越来越需要薄且轻的平面型显示、即所谓的平板显示(FPD)。可列举作为FPD具有代表性的液晶显示(LCD)存在图像暗、视野角窄、大面积化困难等问题。因此，近年来等离子显示板(PDP)和使用电子发射元件图像形成装置等引人注目，由于可以实现LCD以上的高精细化和大型化，对其的需要越来越高。图1是表示PDP构造图(剖面图)的一个例子。以下用图1说明PDP的显示原理。在表面玻璃基板1上设置的二个显示电极3之间，由于等离子体放电作用而发生的紫外线激发由背面玻璃基板2上的隔膜9所隔离的荧光体6并产生可见光。所产生的可见光透过MgO膜10、表面电介质层7、前面玻璃基板1，形成图像而显示出来。此时，对背面玻璃基板2上设置的地址电极5施加信号，指定其使显示哪个放电电池，就能将所形成的图像作为所需要的图像。为了产生和维持等离子体，有必要确保各电极间的绝缘，表面电介质层7是为了赋予其绝缘效果而设置的。表面电介质层7是由以下方法制成的：涂敷将由主要包含硅等元素的玻璃粉构成的无机微粒子与树脂等一起分散于有机溶剂中而得到的涂料，然后干燥，接着烧成而成。在干燥阶段，作为溶剂的有机溶剂气化，在烧成阶段树脂气化，与此同时玻璃粉末熔化并互相结合。而且，在烧成后冷却形成玻璃膜，就形成了表面电介质层7。另外，在背面玻璃基板2处，也有作为地址电极5的保护膜的背面电介质层-->8，与表面电介质层7同样制作而成。在表面电介质层7和背面电介质层8使用常用玻璃绝缘膜。例如，在日本特开2000-16835号公报中，提示了使用包含70-95质量％平均粒径为0.3-1.5μm、最大粒径为10μm以下的玻璃粉和5-30质量％有机成分的绝缘糊状物，作为形成在正面玻璃基板和背面玻璃基板表面上的保护膜的薄膜绝缘膜以及为包覆二个玻璃基板上电极形状的厚膜的绝缘膜的涂料。另外，荧光体6由R(红色)、G(绿色)和B(蓝色)三种颜色构成，为了不使各种颜色混合，设置隔膜9。隔膜9由以下方法制得：与表面电介质层7和背面电介质层8相同，涂敷将由主要包含硅元素的玻璃粉构成的无机微粒子与树脂等一起分散于有机溶剂中而得到的涂料，然后干燥，然后曝光·现象成为所希望的图案(光蚀刻法)，或者使锆等的微粒冲撞，就削出所希望的图案(喷沙法)等方法。另一方面，作为电子发射元件，已知大致有热阴极电子发射元件和冷阴极电子发射元件二种，在近年来，采用不需要备用电力，能高电流密度的冷阴极电子发射元件的图像形成装置引人注目。作为冷阴极电子发射元件，有电解放出型(FE型)、金属/绝缘层/金属(MIM型)等。使用冷阴极电子发射元件的图像形成装置，通过将从电子发射元件中发射出来的电子束照射在荧光体上使其产生荧光的方式显示图像。在使用这种冷阴极电子发射元件的图像形成装置中，与等离子显示板一样，也使用由玻璃化合物形成的绝缘膜。例如在背面玻璃基板上设置许多电子发射元件和用于连接这些元件的矩阵状配线。这些配线设置在X方向和Y方向上，在电子发射元件的电极部分处交叉，为了在此交叉部分使二者绝缘，有必要做成带状绝缘膜。这样的层间绝缘膜，例如使用氧化铅作为主成分的玻璃化合物，形成膜厚为10-100μm，优选20-50μm的膜。例如，日本特开平9-283060号公报公开了在绝缘膜下面形成下配线，然后以与其垂直的形式设置带状绝缘膜，在其绝缘膜上形成上配线的方法。因而，在使用电子发射元件的图像形成装置中，与上述等离子显示板同样有必要做成绝缘膜，该绝缘膜作为电绝缘性的发挥和保护膜，必须具有发现遮蔽效果等的机能。它们通常是采用真空蒸镀法、溅射法或涂敷法形成。但是，需要高真空的真空蒸镀法和溅射法，存在必须具有高价制造设备的-->问题。特别地在以上那样的大面积化作为目标的FPD情况时，制造成本越来越大。因而，作为对于FPD的绝缘膜形成方法，多采用丝网印刷法和口模涂层法等低价格的涂敷方法。本专利技术要解决的课题但是，在涂敷法中，如果不能使绝缘膜形成用涂料特性最适合时，就发生空洞和针眼等缺陷，难以获得具有所希望绝缘效果的膜。空洞和针眼的发生，除异物混入和气泡混入等因素以外，构成绝缘膜形成用涂料的溶剂对被涂敷面的润湿性也是一个重要因素。在溶剂对于被涂敷面的润湿性不好时，发生凹陷和伴随其而来的空隙，使绝缘膜不均一化，不能得到所希望的绝缘效果。另外，在被涂敷面的表面处存在凹凸情况时，凹陷和空隙发生的概率增加。更进一步地，在玻璃上，以条纹状设置Ag等，在以不同的二种以上材料形成被涂敷面的情况时，更显著地发生凹陷和空隙。其结果是，绝缘膜更加不均一化，而且绝缘膜生成比其他地方更薄的部分，就不能得到所希望的绝缘效果。作为构成以往绝缘膜形成用涂料的溶剂，一般使用α-萜品醇和丁基卡必醇乙酸酯，但这些溶剂与玻璃的润湿性不好，导致涂料凹陷并伴随产生空洞和针眼、剥落等。因而，为了得到所希望的绝缘效果，在以往的绝缘膜形成用涂料中，往往是从无机成分特别是玻璃粉末的组成入手，控制其烧成特性居多，而不是从构成涂料所必需的、作为分散介质的溶剂组成入手来控制与被涂敷面的润湿性。因此，本专利技术的目的是，解决上述以往技术问题点，提供与被涂敷面润湿性良好并且在烧成后不发生空洞和针眼的绝缘膜形成用涂料。本专利技术的另一目的是，提供使用上述本专利技术的绝缘膜形成用涂料，形成表面玻璃基板和背面玻璃基板的电介质层以及背面玻璃基板的隔膜的等离子显示板的制造方法。为解决课题的技术手段为了解决前述课题，本专利技术人对使绝缘膜形成用涂料的玻璃基板、ITO(indium tin oxide)膜、Ag电极等作用形式处于最佳状态，改进涂装性和涂膜特性的方法进行了研究，结果发现，作为构成涂料的溶剂，使用对于玻璃基板、ITO膜、Ag电极等无机材料的润湿性良好的物质，不易发生涂料与被涂敷面之间的凹陷、涂膜的空洞、针眼，并且不发生由于涂料与被涂敷面的连接不-->良而引起的剥落现象，用于形成等离子显示板表面玻璃基板的电介质层等时，可以以高的合格率得到耐电压高的等离子显示板，从而完成了本专利技术。因而，本专利技术的绝缘膜形成用涂料是一种为了在从玻璃化合物、陶瓷化合物和金属化合物中选择至少一种的无机材料上形成绝缘膜的涂料，其特征在于，包含作为必要成分的无机微粒子(a)、粘合剂树脂(b)和对前述无机材料接触角小于5°的溶剂(c)。在所述的绝缘膜形成用涂料当中，所述的无机材料优选是全部包含玻璃化合物、陶瓷化合物和金属化合物的材料，并且本专利技术的涂料对所述无机材料发挥特别优良的效果。更具体地，所述的玻璃化合物是玻璃基板，所述的陶瓷化合物是ITO膜，所述的金属化合物是金属电极。另外，在本专利技术的绝缘膜形成用涂料当中，其中所述溶剂(c)优选是包含50质量％以上的选自二乙基卡必醇、二缩丙二醇正丙醚、三丙二醇单甲醚、二乙基溶纤剂、乙酸卡必醇酯、二丁基溶纤剂和丙二醇二乙酸酯中的至少一种溶剂。通过使用本溶剂，涂料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种绝缘膜形成用涂料，该涂料是用于在从玻璃、陶瓷和金属中选择的至少一种无机材料上形成绝缘膜的涂料，其特征在于，包含作为必要成分的无机微粒子（ａ）、粘合剂树脂（ｂ）和对上述无机材料接触角小于５°的溶剂（ｃ）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-1-30 21399/01;JP 2000-10-11 310390/001、一种绝缘膜形成用涂料，该涂料是用于在从玻璃、陶瓷和金属中选择的至少一种无机材料上形成绝缘膜的涂料，其特征在于，包含作为必要成分的无机微粒子(a)、粘合剂树脂(b)和对上述无机材料接触角小于5°的溶剂(c)。2、按照权利要求1中所述的绝缘膜形成用涂料，其中，所述的无机材料是全部包含玻璃、陶瓷和金属的材料。3、按照权利要求1中所述的绝缘膜形成用涂料，其中，所述的玻璃是玻璃基板，所述的陶瓷是ITO膜，所述的金属是金属电极。4、按照权利要求1中所述的绝缘膜形成用涂料，其中，所述溶剂(c)包含50质量％以上的选自二乙基卡必醇、二缩丙二醇正丙醚、三丙二醇单甲醚、二乙基溶纤剂、二甘醇一乙醚乙酸酯、二丁基溶纤剂和丙二醇二乙酸酯中的至少一种溶剂。5、按照权利要求1中所述的绝缘膜形成用涂料，其中，所述溶剂(c)包含50质量％以上的选自二乙基卡必醇、二缩丙二醇正丙醚、三丙二醇单甲醚、二乙基溶纤剂中的至少一种溶剂。6、按照权利要求5中所述的绝缘膜形成用涂料，其中，所述溶剂(c)包含选自二乙基卡必醇、二缩丙二醇正丙醚、三丙二醇单甲醚和二乙基溶纤剂中的二种以上的溶剂。7、按照权利要求1中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：林智裕，三舩达雄，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]