用于形成等离子体的设备和方法技术

技术编号:3718110 阅读:164 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
描述了一种用于处理来自半导体制造加工工具的排出气体流的设备。所述设备包括用于由惰性可电离气体产生辉光放电的等离子体喷枪。所述气体流被输送至所述辉光放电处以使等离子体点火。电磁辐射源将电磁辐射供应至所述排出气体流以维持所述等离子体。所述设备特别适于处理所述排出气体流中的全氟化合物和氢氟碳化合物。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及等离子体源。更具体而言,本专利技术提供了在等离子体减量(abatement)系统中有用的实施方式,尽管本专利技术并不限于这些系统。稳定等离子体的存在需要一定的物理条件。然而,即便是存在那些条件,等离子体也可不自发点火。该现象的实例是众所周知的,例如,空气弧焊机需要“射频启动”。另一种已公知的等离子体点火技术包括使用特斯拉线圈感应“电火花”点火器。然而,那两种技术均包括在等离子体反应腔中使用金属部件,这可能是不利的。在微波泵送系统的情况下,发现这种金属部件使等离子体“接地”且导致其不稳定。其它用以使等离子体点火的已公知方法包括降低气体压力,等离子体由所述气体形成,和引入比主等离子体气体更易离子化的氩、氦或一种或多种其它气体。提供微波等离子体中的可靠点火是特别重要的。在形成这种等离子体的过程中,微波通常由磁控管提供且沿波导管被传输至等离子体,其能量通常在驻波装置中被等离子体吸收。然而,如果等离子体未点火(即如果没有等离子体而仅有气体的话),那么很少能量被吸收且在驻波装置中,相当大量的入射能量被反射回磁控管,这可严重缩短其寿命。可通过在微波传递线路中包括单向循环器或“阀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于形成等离子体以处理气体的设备,包括用于由不同于要受到等离子体处理的气体的流体产生离子化流体流以使等离子体点火的装置,和被布置以维持等离子体的结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:AJ西利
申请(专利权)人:爱德华兹有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利