The invention provides an etching composition, the copper metal film by etching composition, hydrogen peroxide, fluorine compounds and compounds with nitrogen atom and the carboxyl group of water-soluble compounds, phosphate compound, polyol surfactant and more than two kinds of organic acid mixture containing more than two kinds of organic acids, the mixture must be contains citric acid, and citric acid and other organic acids in the weight ratio of 0.9:1 to 1:0.9. In the liquid crystal display copper corrosion edition invention of metal film using the device for manufacturing the array substrate, even if the thickness of the copper metal can increase copper wiring equally adjusting the longitudinal and lateral etching rate and the formation of a fine pattern.
【技术实现步骤摘要】
铜系金属膜用蚀刻组合物
本专利技术涉及一种铜系金属膜用蚀刻组合物，更详细而言，涉及一种通过对增加了厚度的铜系金属膜均等地调节纵向及横向蚀刻速度从而能够形成微细图案的铜系金属配线的蚀刻组合物。
技术介绍
一般而言，显示面板作为用于驱动像素的开关元件，包括形成有薄膜晶体管的显示基板。上述显示基板包含多种金属图案，上述金属图案主要通过光刻(photolithography)方式来形成。上述光刻方式是如下工序：通过在形成于基板上的作为蚀刻对象的金属膜上形成光致抗蚀剂膜，将上述光致抗蚀剂膜曝光及显影而形成光致抗蚀剂图案后，将上述光致抗蚀剂图案用作防蚀刻膜，利用蚀刻液对上述金属膜进行蚀刻，从而将上述金属膜图案化。近年来，作为液晶显示装置用阵列基板的栅极配线及数据配线，使用电阻低且没有环境问题的铜金属。然而，铜存在与玻璃基板及硅绝缘膜的粘接力低、会向硅绝缘膜扩散的问题，因而将钼、钛等作为下部阻挡金属而一同使用，因此开发了可同时蚀刻这些金属的组合物(韩国公开专利第10-2006-0064881号及第10-2006-0099089号)。另一方面，为了确保液晶显示装置的高分辨率，铜金...
【技术保护点】
一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂及两种以上有机酸混合物，所述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。
【技术特征摘要】
2016.03.28 KR 10-2016-00367751.一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂及两种以上有机酸混合物，所述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。2.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，所述铜系金属膜是包含选自铜膜和铜合金膜中的一种以上膜、以及选自钼膜和钼合金膜中的一种以上膜的多层膜。3.根据权利要求2所述的蚀刻组合物，所述铜膜或铜合金膜的厚度为以上。4.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，与所述柠檬酸混合的...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑敬燮，权五柄，朴镛云，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR
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