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铜系金属膜用蚀刻组合物制造技术
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文档序号:16363203
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本发明提供一种蚀刻组合物,其作为铜系金属膜用蚀刻组合物,包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂和两种以上有机酸混合物,上述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸,且柠檬酸与其他有机酸...
该专利属于东友精细化工有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东友精细化工有限公司授权不得商用。
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