阵列基板及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了阵列基板及其制备方法和显示装置。该阵列基板包括绝缘层，绝缘层包括透明部分和遮光部分，且遮光部分在阵列基板衬底上的投影覆盖栅线、源极、漏极和数据线在阵列基板衬底上的投影。由此，遮光部分可以替代常规黑矩阵，简化产品结构、减小产品厚度，且遮光部分的尺寸可以小于常规黑矩阵的尺寸，增大开口率。

Array substrate, method for producing the same, and display device

The invention provides an array substrate, a preparation method thereof and a display device. The array substrate includes an insulating layer, the insulating layer comprises a transparent part and a shading part, projection and the projection light shielding portion on the array substrate on the substrate to cover the gate line, a source electrode, a drain and a data line in the array substrate on the substrate. Thus, the shading part can replace the conventional black matrix, simplify the product structure and reduce the product thickness, and the size of the shading part can be smaller than the size of the conventional black matrix, and the aperture ratio can be increased.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法和显示装置
本专利技术涉及显示领域，具体地，涉及阵列基板及其制备方法和显示装置。
技术介绍
在高像素产品边缘场效应型(ADS)显示模式或低温多晶硅(LTPS)中，一般为增加存储电容需要做亚克力层，亚克力是一种可塑性高分子材料，有较好的透过性和易染色的特点。亚克力层可以增加透过率和平坦度，但还是存在开口率不足的情况。且传统黑矩阵挡光层设计在彩膜基板上，黑矩阵挡光层的宽度较宽，从而使液晶屏的开口率较小，不能满足高像素产品对高开口率的需求。因此，关于显示器件开口率的研究有待深入。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种可以提高显示器件开口率的阵列基板。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种阵列基板。根据本专利技术的实施例，该阵列基板包括绝缘层，绝缘层包括透明部分和遮光部分，且遮光部分在阵列基板衬底上的投影覆盖栅线、源极、漏极和数据线在阵列基板衬底上的投影。由此，遮光部分可以替代常规黑矩阵，简化产品结构、减小产品厚度，且遮光部分的尺寸可以小于常规黑矩阵的尺寸，增大开口率；绝缘层还可以起到提高亮度和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括绝缘层，所述绝缘层包括透明部分和遮光部分，且所述遮光部分在阵列基板衬底上的投影覆盖栅线、源极、漏极和数据线在所述阵列基板衬底上的投影。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括绝缘层，所述绝缘层包括透明部分和遮光部分，且所述遮光部分在阵列基板衬底上的投影覆盖栅线、源极、漏极和数据线在所述阵列基板衬底上的投影。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光部分在阵列基板衬底上的投影与所述栅线、源极、漏极和数据线在所述阵列基板衬底上的投影重叠。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，形成所述绝缘层的材料为亚克力。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光部分掺杂有黑色粒子。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述黑色粒子包括四氧化三铁粒子。6.根据权利要求1-5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述源极、漏极和数据线设置于所述绝缘层靠近栅极的一侧，公共电极设置于所述绝缘层远...

【专利技术属性】
技术研发人员：张正东，周刚，田华，杨小飞，代科，苏磊，牟勋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11