液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件制造技术

根据本发明专利技术，提供一种新型的聚合物组合物、以及使用其的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜，所述聚合物组合物可提供以高效率被赋予了取向控制能力、残影特性优异的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜。本发明专利技术涉及一种聚合物组合物，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种与两种以上的二胺化合物制造的聚合物；以及(C)有机溶剂。此外，本发明专利技术涉及一种具有液晶取向膜的基板的制造方法，其具备下述工序：将该组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上，从而形成涂膜的工序；对所得涂膜照射偏振紫外线的工序；以及，将所得涂膜进行加热的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件
本专利技术涉及新型聚合物组合物(液晶取向剂)、以及使用其的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜和具有该取向膜的基板的制造方法。更详细而言，涉及用于制造残影特性优异的液晶表示元件的新方法。
技术介绍
液晶表示元件作为质量轻、截面薄且耗电低的表示装置是已知的，近年来被用于大型电视用途等，实现了显著的发展。液晶表示元件例如是利用具备电极的一对透明基板夹持液晶层而构成的。并且，在液晶表示元件中，包含有机材料的有机膜被用作液晶取向膜以使液晶在基板之间呈现期望取向状态。即，液晶取向膜是液晶表示元件的构成部件，其形成在夹持液晶的基板的与液晶接触的表面，承担使液晶在该基板之间沿着特定方向取向这一作用。并且，对于液晶取向膜而言，除了使液晶沿着例如平行于基板的方向等特定方向取向这一作用之外，有时还要求对液晶预倾角进行控制这一作用。这种液晶取向膜的控制液晶取向的能力(以下称为取向控制能力。)通过对构成液晶取向膜的有机膜进行取向处理而被赋予。作为用于赋予取向控制能力的液晶取向膜的取向处理方法，一直以来已知有刷磨法。刷磨法是指如下的方法：针对基板上的聚乙烯醇、聚酰胺、聚酰亚胺等的有机膜，用棉花、尼龙、聚酯等的布沿着恒定方向摩擦(刷磨)其表面，从而使液晶沿着摩擦方向(刷磨方向)取向。该刷磨法能够简便地实现较稳定的液晶取向状态，因此利用于以往的液晶表示元件的制造工艺。并且，作为液晶取向膜中使用的有机膜，主要选择耐热性等可靠性、电特性优异的聚酰亚胺系有机膜。然而，对包含聚酰亚胺等的液晶取向膜的表面进行摩擦的刷磨法存在产尘、产生静电的问题。另外，由于近年来的液晶表示元件的高清晰化、相应基板上的电极或液晶驱动用切换能动元件所导致的凹凸，因此，有时无法用布均匀地摩擦液晶取向膜的表面、无法实现均匀的液晶取向。因而，作为不进行刷磨的液晶取向膜的其它取向处理方法，积极地研究了光取向法。光取向法有各种方法，通过直线偏振光或经准直的光而在构成液晶取向膜的有机膜内形成各向异性，根据该各向异性而使液晶进行取向。作为主要的光取向法，已知有分解型的光取向法。该方法中，例如，对聚酰亚胺膜照射偏振紫外线，利用分子结构的紫外线吸收的偏振方向依赖性而使其发生各向异性的分解。并且，通过未分解而残留的聚酰亚胺使液晶进行取向(例如参照专利文献1。)。另外，作为其它的光取向法，还已知有光交联型、光异构化型的光取向法。光交联型的光取向法中，例如使用聚肉桂酸乙烯酯，照射偏振紫外线，使与偏振光平行的2个侧链的双键部分发生二聚反应(交联反应)。于是，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献1)。光异构化型的光取向法中，使用在侧链具有偶氮苯的侧链型高分子时，照射偏振紫外线，使与偏振光平行的侧链的偶氮苯部分发生异构化反应，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献2)。如上述例子那样，在利用光取向法对液晶取向膜进行取向处理的方法中，无需进行刷磨，不用担心产尘、产生静电。并且，即使针对表面具有凹凸的液晶表示元件的基板也能够实施取向处理，从而成为适合于工业生产工艺的液晶取向膜的取向处理方法。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特许第3893659号公报非专利文献非专利文献1：M.Shadtetal.,Jpn.J.Appl.Phys.31,2155(1992).非专利文献2：K.Ichimuraetal.,Chem.Rev.100,1847(2000).
技术实现思路
专利技术要解决的问题如上所述，与作为液晶表示元件的取向处理方法而一直以来进行工业利用的刷磨法相比，光取向法无需刷磨工序这一工序，因此具备明显的优点。并且，与刷磨所产生的取向控制能力基本固定的刷磨法相比，光取向法能够变更偏振光的照射量来控制取向控制能力。然而，在光取向法想要实现与利用刷磨法时的程度相同的取向控制能力的情况下，有时需要大量的偏振光照射量或者无法实现稳定的液晶取向。例如，在上述专利文献1所述的分解型光取向法中，需要对聚酰亚胺膜照射60分钟的由功率500W的高压汞灯发出的紫外光等，需要长时间且大量的紫外线照射。另外，在二聚型、光异构化型光取向法的情况下，也有时需要数J(焦耳)～数十J左右的大量紫外线照射。进而，在光交联型、光异构化型光取向法的情况下，液晶取向的热稳定性、光稳定性差，因此制成液晶表示元件时，担心发生取向不良、表示残影。尤其是，横向电场驱动型的液晶表示元件中，将液晶分子在面内进行切换，因此容易发生液晶驱动后的液晶取向偏移，由AC驱动引起的表示残影被视作重大的课题。因此，对于光取向法而言，要求实现取向处理的高效率化、稳定的液晶取向，要求能够对液晶取向膜高效地赋予高取向控制能力的液晶取向膜、液晶取向剂。本专利技术的目的在于，提供新型的聚合物组合物、以及使用其的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜、和具有该取向膜的基板、和具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件，所述聚合物组合物可提供以高效率被赋予了取向控制能力、残影特性优异的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜。本专利技术的目的还在于，提供即使利用低温烧成也具有提高了电压保持率的液晶取向膜、以及具有该液晶取向膜的基板的制造方法。用于解决问题的方案本专利技术人等为了实现上述课题而进行了深入研究，结果发现如下专利技术。<1>一种聚合物组合物、尤其是横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用聚合物组合物，其特征在于，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和两种以上的二胺化合物制造的聚合物；以及(C)有机溶剂。<2>上述<1>中，(B)成分可以是使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和两种以上的二胺化合物制造的聚合物，是具有式(Y2-1)所示的结构作为源自二胺的结构的聚合物。(其中，Z3为任选被选自醚键、酯键、酰胺键和脲键中的键中断的碳数1～20的亚烷基，Z3与苯环的键合部分为单键、醚键、酯键、脲键或酰胺键)。<3>上述<1>或<2>中，(B)成分的聚合物可以是通过使二异氰酸酯成分与二胺成分发生聚合反应而得到的聚脲。<4>上述<1>或<2>中，(B)成分的聚合物可以是通过使二异氰酸酯成分与四羧酸衍生物与二胺成分发生聚合反应而得到的聚脲聚酰亚胺前体。<5>上述<1>或<2>中，(B)成分的聚合物可以是通过使四羧酸衍生物与二胺成分发生聚合反应而得到的聚酰亚胺前体。<6>一种聚合物组合物，其特征在于，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)通过使二异氰酸酯化合物与四羧酸衍生物与二胺化合物发生聚合反应，接着进行酰亚胺化而制造的聚脲聚酰亚胺；以及(C)有机溶剂。<7>上述<6>中，(B)成分可以具有式(Y2-1)所示的结构作为源自二胺的结构。(其中，Z3为任选被选自醚键、酯键、酰胺键和脲键中的键中断的碳数1～20的亚烷基，Z3与苯环的键合部分为单键、醚键、酯键、脲键或酰胺键)。<8>上述<1>本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚合物组合物，其特征在于，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和两种以上的二胺化合物制造的聚合物；以及(C)有机溶剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.12 JP 2014-229876;2014.11.12 JP 2014-229871.一种聚合物组合物，其特征在于，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和两种以上的二胺化合物制造的聚合物；以及(C)有机溶剂。2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，(B)成分是使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和两种以上的二胺化合物制造的聚合物，是具有式(Y2-1)所示的结构作为源自二胺的结构的聚合物，其中，Z3为任选被选自醚键、酯键、酰胺键和脲键中的键中断的碳数1～20的亚烷基，Z3与苯环的键合部分为单键、醚键、酯键、脲键或酰胺键。3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，(B)成分的聚合物是通过使二异氰酸酯成分与二胺成分发生聚合反应而得到的聚脲。4.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，(B)成分的聚合物是通过使二异氰酸酯成分与四羧酸衍生物与二胺成分发生聚合反应而得到的聚脲聚酰亚胺前体。5.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，(B)成分的聚合物是通过使四羧酸衍生物与二胺成分发生聚合反应而得到的聚酰亚胺前体。6.一种聚合物组合物，其特征在于，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；(B)通过使二异氰酸酯化合物与四羧酸衍生物与二胺化合物发生聚合反应，接着进行酰亚胺化而制造的聚脲聚酰亚胺；以及(C)有机溶剂。7.根据权利要求6所述的聚合物，其中，(B)成分具有式(Y2-1)所示的结构作为源自二胺的结构，其中，Z3为任选被选自醚键、酯键、酰胺键和脲键中的键中断的碳数1～20的亚烷基，Z3与苯环的键合部分为单键、醚键、酯键、脲键或酰胺键。8.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，二异氰酸酯成分为芳香族二异氰酸酯和/或脂肪族二异氰酸酯。9.根据权利要求1～8中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。10.根据权利要求1～9中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链，式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-、或-O-CO-CH＝CH-；S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基或碳数1～5的烷氧基取代；R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义；X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH...

【专利技术属性】
技术研发人员：名木达哉，别府功一朗，根木隆之，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP