【技术实现步骤摘要】
一种纳米薄膜的制备方法
本专利技术涉及一种纳米薄膜的制备方法,属于纳米薄膜材料制备
技术介绍
制冷技术在当今世界起着十分重要的作用,在工业生产、国防建设、医疗器械和日常生活都用重要的作用。而目前重要的制冷方式主要有三种:利用气体膨胀产生冷效应制冷,也是应用最为广泛的一种;利用固态物质相变的热效应实现制冷,如磁卡效应;利用半导体的温差效应实现制冷,如铅基热电材料。就这三种制冷方式而言目前最有发展前景的是固态磁制冷技术。固态制冷技术与传统的制冷技术相比有许多不可以替代的优点:(1)绿色安全。工作物质不存在固-液-气三相转变,无气体工质的挥发、泄露、易燃、易爆等问题;(2)制冷能力强。固体材料通常密度较大,制冷能力强,易于小型化;(3)成本小,无噪音。利用外磁场或者电场调控磁相变或者电相变代替机械压力使工作物质的三相转变,使得设备简单噪音小;(4)高效节能。磁制冷的效率可达到卡诺循环的30%~60%,而气体压缩制冷一般仅为5%~10%,热电材料的制冷效率更低。而目前最固态制冷材料的研究主要集中在稀土合金顺磁材料,如ReAl2系,ReNi2系;3d过渡金属的合金 ...
【技术保护点】
一种纳米薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1.将镧盐、钴盐和锰盐按照摩尔比2:1:1混合,然后倒入到乙二醇与甲醚的混合溶液中,然后密封保存,将混合物搅拌400‑600min,形成镧盐、钴盐和锰盐总浓度为0.15‑0.25mol/l呈透明清晰的溶胶,加入乙酰丙酮,室温静置老化70‑80小时;2.以单晶Si为衬底,在衬底上沉积薄膜,慢速350‑450r/min时长15‑20s,快速3800‑4200r/min时长40‑60s,薄膜在衬底上旋涂甩膜沉积,烘烤温度250‑300℃时长1‑3min;3.将步骤2所得初始衬底薄膜用快速热处理系统氧气气氛下退火,按照升温速率100 ...
【技术特征摘要】
1.一种纳米薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1.将镧盐、钴盐和锰盐按照摩尔比2:1:1混合,然后倒入到乙二醇与甲醚的混合溶液中,然后密封保存,将混合物搅拌400-600min,形成镧盐、钴盐和锰盐总浓度为0.15-0.25mol/l呈透明清晰的溶胶,加入乙酰丙酮,室温静置老化70-80小时;2.以单晶Si为衬底,在衬底上沉积薄膜,慢速350-450r/min时长15-20s,快速3800-4200r/min时长40-60s,薄膜在衬底上旋涂甩膜沉积,烘烤温度250-300℃时长1-3min;3.将步骤2所得初始衬底薄膜用快速热处理系统氧气气氛下退火,按照升温速率100-200℃/s,升温至700-800℃,在700-800℃时长150-250s,气体流量0...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵世峰,白玉龙,郭飞,陈介煜,王一帆,
申请(专利权)人:内蒙古大学,
类型:发明
国别省市:内蒙古,15
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