硅片清洗机烘道结构制造技术

本实用新型专利技术涉及硅片清洗机技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机烘道结构。现有的硅片清洗机烘道不仅在整个烘道内全部设有加热烘干装置，耗能高，而且烘道壁多采用塑料结构，防火性能差，保温效果不好，需要烘道内的加热烘干装置频繁启动进行加热，加热烘干装置使用寿命短，针对上述问题，本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道、输送链，所述输送链设置在烘道内，硅片篮放置在输送链上，所述烘道包括依次相连的第一烘道和第二烘道，所述第一烘道内设置有热辐射电加热装置，所述第二烘道顶部设有出风口，所述出风口与负压风机相连，所述第一烘道和第二烘道的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层、空气层和保温层。本实用新型专利技术具有能耗低、防火和保温性能好的优点。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗机烘道结构
本技术涉及硅片清洗机
，尤其涉及一种硅片清洗机烘道结构。
技术介绍
现有的硅片清洗机烘道存在以下问题：1.整个烘道内全部设有加热烘干装置，能耗高；2.烘道壁多采用塑料结构，不仅防火性能差，而且保温效果不好，需要烘道内的加热烘干装置频繁启动进行加热，能耗高的同时降低了加热烘干装置的使用寿命。
技术实现思路
针对现有技术中的问题，本技术提供一种能耗低、防火和保温性能好的硅片清洗机烘道结构。为实现以上技术目的，本技术的技术方案是：一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道、输送链，所述输送链设置在烘道内，硅片篮放置在输送链上，所述烘道包括依次相连的第一烘道和第二烘道，所述第一烘道内设置有热辐射电加热装置，所述第二烘道顶部设有出风口，所述出风口与负压风机相连，所述第一烘道和第二烘道的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层、空气层和保温层。从以上描述可以看出，本技术具备以下优点：1.将传统的烘道分为依次相连的第一烘道和第二烘道，在第一烘道内，硅片湿度较高，通过热辐射电加热装置对硅片进行加热烘干，待硅片湿度较低时，进入第二烘道，第二烘道内快速流动的空气对硅片进行风干，加热烘干和风干相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道(1)、输送链(2)，所述输送链(2)设置在烘道(1)内，硅片篮(3)放置在输送链(2)上，其特征在于：所述烘道(1)包括依次相连的第一烘道(101)和第二烘道(102)，所述第一烘道(101)内设置有热辐射电加热装置(4)，所述第二烘道(102)顶部设有出风口(5)，所述出风口(5)与负压风机(6)相连，所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道(1)、输送链(2)，所述输送链(2)设置在烘道(1)内，硅片篮(3)放置在输送链(2)上，其特征在于：所述烘道(1)包括依次相连的第一烘道(101)和第二烘道(102)，所述第一烘道(101)内设置有热辐射电加热装置(4)，所述第二烘道(102)顶部设有出风口(5)，所述出风口(5)与负压风机(6)相连，所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。2.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第二烘道(102)的长度大于第一烘道(101)的长度。3.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，
申请(专利权)人：江苏奥明能源有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32