一种真空镀膜分流气管制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜分流气管，包括气管主体、下密封盖、气室一、进气接头一、连接管道、隔板、气室二、进气接头二、气室三、进气接头三、气室四、进气接头四、上密封盖、出气孔、分流壳体、出气接头一、总进气接头、出气接头二、出气接头三和出气接头四；本实用新型专利技术具有结构合理简单、生产成本低，功能齐全，使用时，气体首先通过总进气接头进入到分流壳体内部中心，这里由于分流壳体内部呈圆柱形状，从而能够有效的保证输出的到出气接头一、出气接头二、出气接头三和出气接头四中的气量都是相同，也就保证了气体进入到气室一、气室二、气室三和气室四内部的气量也是相同的，进一步也就保证了每一个出气孔的出气量几乎是平均的。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜分流气管
：本技术涉及镀膜
，特别涉及一种真空镀膜分流气管。
技术介绍
：目前，物理气相沉积法(PVD)被广泛用于镀装饰膜层于电子装置的外壳；真空镀膜装置中设置有气管，而原装气管只是单一气管，由于气管内压差问题，造成单支气管上各出气口上的出气量不同，从而造成了产品的颜色不均匀，形成了同一炉次的产品出现较大的色差，这状况使在PVD生产上的效益大大减少；此外，有的时候还要采用局部堵塞出气孔的方式来调整气体的分布，这样不仅费时，且较难保证气体的均匀分布，还可能导致镀膜产品存在色差。
技术实现思路
：本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种真空镀膜分流气管，解决了
技术介绍
中提到的问题。为了解决上述问题，本技术提供了一种技术方案：一种真空镀膜分流气管，其创新点在于：包括气管主体、下密封盖、气室一、进气接头一、连接管道、隔板、气室二、进气接头二、气室三、进气接头三、气室四、进气接头四、上密封盖、出气孔、分流壳体、出气接头一、总进气接头、出气接头二、出气接头三和出气接头四；所述隔板将气管主体内部从下向上依次均匀分为了气室一、气室二、气室三和气室四；所述下密封盖固定连接在气管主体底部；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜分流气管，其特征在于：包括气管主体(1)、下密封盖(2)、气室一(3)、进气接头一(4)、连接管道(5)、隔板(6)、气室二(7)、进气接头二(8)、气室三(9)、进气接头三(10)、气室四(11)、进气接头四(12)、上密封盖(13)、出气孔(14)、分流壳体(15)、出气接头一(16)、总进气接头(17)、出气接头二(18)、出气接头三(19)和出气接头四(20)；所述隔板(6)将气管主体(1)内部从下向上依次均匀分为了气室一(3)、气室二(7)、气室三(9)和气室四(11)；所述下密封盖(2)固定连接在气管主体(1)底部；所述上密封盖(13)固定连接在气管主体(1)顶部；所述...

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜分流气管，其特征在于：包括气管主体(1)、下密封盖(2)、气室一(3)、进气接头一(4)、连接管道(5)、隔板(6)、气室二(7)、进气接头二(8)、气室三(9)、进气接头三(10)、气室四(11)、进气接头四(12)、上密封盖(13)、出气孔(14)、分流壳体(15)、出气接头一(16)、总进气接头(17)、出气接头二(18)、出气接头三(19)和出气接头四(20)；所述隔板(6)将气管主体(1)内部从下向上依次均匀分为了气室一(3)、气室二(7)、气室三(9)和气室四(11)；所述下密封盖(2)固定连接在气管主体(1)底部；所述上密封盖(13)固定连接在气管主体(1)顶部；所述气室一(3)右侧中央设有进气接头一(4)；所述气室二(7)右侧中央设有进气接头二(8)；所述气室三(9)右侧中央设有进气接头三(10)；所述气室四(11)右侧中央设有进气接头四(12)；所述出气孔(14)为若干个，所述出气...

【专利技术属性】
技术研发人员：付杰平，
申请(专利权)人：东莞市亮鑫五金加工有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44