一种PVD设备进气装置制造方法及图纸
Air intake device for PVD equipment
The utility model relates to a PVD device inlet device comprises an air inlet pipe assembly and arranged in the PVD plating furnace gas distribution pipeline components; the air inlet pipe assembly comprises a plurality of air inlet pipe and a mixing pipe, wherein the plurality of air inlet pipe outlet are connected to the air inlet of the air mixing pipe; the outlet of the mixing pipe is connected with the gas distribution pipeline components inlet; gas distribution pipeline components comprises at least one cloth pipe, a plurality of holes evenly arranged on the gas pipeline components. The invention provides a PVD device air inlet device with simple structure, convenient control and mixing gas.
【技术实现步骤摘要】
一种PVD设备进气装置
本技术涉及一种PVD设备进气装置。
技术介绍
PVD(PhysicalVaporDeposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。磁控溅射是PVD的一种。溅射技术中应用最为广泛的一种是磁控溅射(MagnetronSputtering)技术，磁控溅射技术的原理是：电子e在外加电场E的作用下做加速运动，撞击真空室(真空腔体)中的气氛气体原子，使其电离成正离子和电子。正离子在外加电场E的作用下加速轰击靶材，靶材中的粒子(原子或离子)溅射出来沉积在基板上形成薄膜。考虑到惰性气体的保护性、溅射率以及工业成本，氩气是最理想的溅射气体。在磁控溅射镀膜时，有时需要镀膜过程在某种混合气氛下进行，此时便需要向镀膜真空室内通入两种或者两种以上的气体。可通过设置若干个通气管道直接向真空室内通气，这种直接通气的方式将对设备内部的精密部件造成伤害。并且，当需要对镀膜真空室内通入混合气体时，由于进气口口径不宜过大，这样混合气体进入真空室后的混合效果很难保证，在真空室内部设置若干个分流管，混合效果也很难理想。此外，由于真空室内空间...
【技术保护点】
一种PVD设备进气装置，其特征在于，包括进气管路组件(11)和设置于PVD镀炉内的布气管路组件(12)；所述的进气管路组件(11)包括若干进气管(1)和一根混合气管(8)，所述的若干进气管(1)的出气口一并连接于所述的混合气管(8)的进气口；所述的混合气管(8)的出气口连接所述的布气管路组件(12)的进气口；所述的布气管路组件(12)包括至少一根布气管，所述的布气管路组件(12)上均匀设置若干出气孔。
【技术特征摘要】
1.一种PVD设备进气装置，其特征在于，包括进气管路组件(11)和设置于PVD镀炉内的布气管路组件(12)；所述的进气管路组件(11)包括若干进气管(1)和一根混合气管(8)，所述的若干进气管(1)的出气口一并连接于所述的混合气管(8)的进气口；所述的混合气管(8)的出气口连接所述的布气管路组件(12)的进气口；所述的布气管路组件(12)包括至少一根布气管，所述的布气管路组件(12)上均匀设置若干出气孔。2.根据权利要求1所述的一种PVD设备进气装置，其特征在于，所述的进气管路组件(11)包括连接在不同进气管(1)上的第一流量阀(2)，第二流量阀(3)，第三流量阀(4)；各个所述的进气管(1)与所述的第一流量阀(2)，第二流量阀(3)，第三流量阀(4)的进气口之间分别一一对应连接第一气体流量计(5)，第二气体流量计(6)...
【专利技术属性】
技术研发人员：邹以慧，任宇航，
申请(专利权)人：浙江尚越新能源开发有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33
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