保护膜、膜层叠体及偏光板制造技术

本发明专利技术提供一种在薄层状态下透湿度低且具有自支撑性的保护膜。本发明专利技术的保护膜是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，并且，所述重复单元具有支链状烷基。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】保护膜、膜层叠体及偏光板
本专利技术涉及保护膜、膜层叠体及偏光板。
技术介绍
近年来，TV或移动设备中所使用的液晶显示器日益薄型化，这些显示器中所使用的结构部件、尤其是偏光板也以极限薄化为目标而进行技术开发。偏光板通常为如下构成：在由吸附碘并进行了单轴拉伸的聚乙烯醇系膜构成的偏光膜的两面上，通过粘接剂贴合有三乙酸纤维素(以下称为TAC)等光学膜作为保护膜。为了将TAC膜贴合在偏光膜上，使用亲水性的粘接剂。这种现有型的偏光板，由于作为保护膜的TAC膜的透湿度高、吸湿脱湿带来的伸缩大，因此存在下述问题，即，若将偏光板长期暴露于高湿环境、尤其是高温高湿环境下，作为偏光板的光学功能受到损伤，或因偏光板的卷曲、翘曲而产生物理性的故障等。为了改善这些情况，使用透湿度低的丙烯酸系膜、或聚酯系膜的方案增多。另外，作为将保护膜粘接于偏光膜的方法，也会采用将能量线固化型组合物用作粘接剂的方法。然而，对于将保护膜粘接于偏光膜的方法，从作业时的操作性或耐久性的观点出发，难以将保护膜薄层化(例如40μm以下)，成为很大的问题。为了解决这样的问题，专利文献1中提出了下述方法，即在基材膜上或在形成有脱模层的基材膜上涂布未固化的电离放射线固化树脂(能量线固化树脂)，在该涂布面上贴合偏光膜后，使上述固化树脂固化，剥离基材膜，从而在偏光膜上形成保护膜。另外，专利文献2中公开了下述技术：在两面形成有脱模层的基材膜上，形成功能层和粘接层，通过使其与偏光膜粘接从而实现薄膜化。进而，专利文献3中记载了下述方法：通过在偏光膜上直接涂布能量线固化树脂并进行固化，从而以40μm以下的膜厚形成保护偏光膜的保护膜。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2006-163082号公报专利文献2：特开2012-27260号公报专利文献3：特开2014-010311号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，保护膜越薄膜化，水分越容易透过，因此具有透湿度变高的倾向，贴合在保护膜上的偏光板变得容易吸湿脱湿。并且，在使用了无自支撑性的保护膜的情况下，即，使用了难以由保护膜自身保持形状的拉伸强度低的保护膜的情况下，无法抑制由吸湿脱湿引起的偏光膜的伸缩。其结果是，存在如下问题：在偏光膜上产生裂纹，或者偏光膜与保护膜之间发生剥离，难以发挥偏光板的功能等。对于这些问题，上述专利文献中均没有对保护膜、以及形成保护膜的具有粘接性的能量线固化膜、以及透湿度进行详细说明，另外，也不存在关于形成具有自支撑性的独立的保护膜的记载，不能说解决了上述问题。鉴于上述问题，本专利技术的课题在于提供一种在薄层状态下透湿度低且具有自支撑性的保护膜。用于解决课题的技术手段对于上述课题，本专利技术人等进行了反复研究，结果关注了以往从未被作为保护膜材料而受到关注的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯单体。并且发现，在使该单体固化而制造保护膜的过程中，通过在氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯单体的主链中引入支链状烷基，能过得到在薄层状态下透湿度低且自支撑性优异的保护膜，以至完成了本专利技术。本专利技术涉及下述各保护膜、层叠体及偏光板。<1>一种保护膜，其特征在于，是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，且所述重复单元具有支链状烷基。<2>根据<1>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元进一步具有饱和环状脂肪族基团。<3>根据<1>或<2>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元含有下述结构A1或结构B1，所述结构A1或结构B1含有作为支链状烷基的R1，-CO-NH-R1-NH-CO-···(结构A1)-O-R1-O-···(结构B1)。<4>根据<3>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元在含有结构A1的情况下，进一步含有下述结构B2，所述结构B2含有作为支链状烷基或饱和环状脂肪族基团的R2，所述重复单元在含有结构B1的情况下，进一步含有下述结构A2，所述结构A2含有作为支链状烷基或饱和环状脂肪族基团的R2，-CO-NH-R2-NH-CO-···(结构A2)-O-R2-O-···(结构B2)。<5>根据<3>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(1)所示的结构，[化1]在通式(1)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基、R4表示氢原子、甲基或乙基，m表示0以上的整数，x表示0～3的整数。<6>根据<4>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(2)所示的结构，[化2]在通式(2)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基、R4表示氢原子、甲基或乙基，n表示1以上的整数，x表示0～3的整数。<7>根据<3>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(3)所示的结构，[化3]在通式(3)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基、R4表示氢原子、甲基或乙基，m表示0以上的整数，x表示0～3的整数。<8>根据<4>所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(4)所示的结构，[化4]在通式(4)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基、R4表示氢原子、甲基或乙基，n表示1以上的整数，x表示0～3的整数。<9>根据<5>或<7>所述的保护膜，其特征在于，所述m为1或2。<10>根据<6>或<8>所述的保护膜，其特征在于，所述n为1或2。<11>根据<5>～<10>中任一项所述的保护膜，其特征在于，所述R1为具有2个以上支链的烷基。<12>根据<5>或<6>所述的保护膜，其特征在于，所述R1为三甲基六亚甲基。<13>根据<1>～<12>中任一项所述的保护膜，其特征在于，透湿度为100g/(m2·24小时)以下，且拉伸强度为25MPa以上。<14>根据<1>～<13>中任一项所述的保护膜，其特征在于，含有紫外线吸收剂。<15>根据<1>～<14>中任一项所述的保护膜，其特征在于，其是使树脂组合物固化而得到的保护膜，所述树脂组合物至少含有所述作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和具有有机反应基团的反应型硅溶胶，该保护膜的表面经过等离子体处理或电晕处理。<16>一种膜层叠体，其特征在于，在<1>～<15>中任一项所述的保护膜的至少一个面上具备下述中的任一个：(1)支撑所述保护膜的膜基材、(2)具有耐擦伤性的硬涂层、(3)使光散射的防眩层、以及(4)由设置在所述保护膜上的高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率层构成的防反射层。<17>一种偏光板，其特征在于，在偏光膜的至少一个面上具备<1>～<15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保护膜，其特征在于，是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，且所述重复单元具有支链状烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.14 JP 2014-1653041.一种保护膜，其特征在于，是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，且所述重复单元具有支链状烷基。2.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元进一步具有饱和环状脂肪族基团。3.根据权利要求1或2所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元含有下述结构A1或结构B1，所述结构A1或结构B1含有作为支链状烷基的R1，-CO-NH-R1-NH-CO-···(结构A1)-O-R1-O-···(结构B1)。4.根据权利要求3所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元在含有结构A1的情况下，进一步含有下述结构B2，所述结构B2含有作为支链状烷基或饱和环状脂肪族基团的R2，所述重复单元在含有结构B1的情况下，进一步含有下述结构A2，所述结构A2含有作为支链状烷基或饱和环状脂肪族基团的R2，-CO-NH-R2-NH-CO-···(结构A2)-O-R2-O-···(结构B2)。5.根据权利要求3所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(1)所示的结构，[化1]通式(1)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基，R4表示氢原子、甲基或乙基，m表示0以上的整数，x表示0～3的整数。6.根据权利要求4所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(2)所示的结构，[化2]通式(2)中，R1表示支链状烷基，R2表示支链状烷基或饱和环状脂肪族基团，R3表示氢原子或甲基，R4表示氢原子、甲基或乙基，n表示1以上的整数，x表示0～3的整数。7.根据权利要求3所述的保护膜，其特征在于，所述重复单元为下述通式(3)所示的结构，[化3]通...

【专利技术属性】
技术研发人员：村田力，铃木雅康，桑原将臣，后藤诚，村田亮，加藤昌央，
申请(专利权)人：株式会社巴川制纸所，
类型：发明
国别省市：日本,JP